用于使基座与驱动轴连接的装置的制作方法

本发明涉及一种用于将cvd反应器的基座固定在驱动轴上的装置，所述装置具有承载板和底板，该承载板具有能够安放在基座的支撑面上的承载面，该底板能够与驱动轴连接并且通过该底板能够调节位置地承载承载板。

此外，本发明涉及一种cvd反应器，所述cvd反应器具有反应器壳体、基座和与基座支架连接的驱动轴。

背景技术：

专利文献us2008/0017117a1描述了一种cvd反应器，该cvd反应器具有固定在可旋转的驱动轴上的基座和用于驱动轴的位置调节的器件。

由专利文献us9，765，427b2已知一种cvd反应器，在该cvd反应器的反应器壳体中布置基座。基座承载多个能够绕轴线旋转驱动的基材支架。基座利用基座支架与主轴的端面连接。设置了器件，以便调节基座相对于轴的位置。

此外，专利文献wo2018/022577a1、us2003/0029384a1、us5，762，544a和us2016/0138159a1也属于现有技术。

按本发明所述类型的cvd反应器用于沉积iii-v层并且尤其用于在基材上沉积氮化镓层。按本发明所述类型的cvd反应器的基座的直径可以取值为30cm或更大。处理室顶部和通过基座构造的处理室的底部之间的距离取值为大约10至50mm、优选为30至40mm。通过布置在处理室中心的进气机构实现把气体供入处理室中，利用该进气机构将第v主族的氢化物和第iii主族的金属有机化合物分别单独供入处理室中。在工业化制造中，必须对在一个批次中生产出的、围绕处理室的中心呈圆形布置在基座上的晶片以恒定不变的方式进行涂层。实现涂层的方式为，使导引入处理室中的处理气体尤其在基材的加热后的表面上进行热分解。为了实现沉积层的横向均匀性，需要基座表面和反应器顶部的底面尽可能精准的平行定位。反应器顶部优选沿旋转驱动基座的驱动轴的旋转平面延伸。按本发明所述类型的cvd反应器的基座具有面向下并且安置在通过驱动轴承载的基座支架的承载面上的支撑面。由于制造公差，支撑面通常不精准平行于构成处理室底部的、基座的顶面延伸。因此基座支架必须具有器件，以便能够调节基座相对于驱动轴的倾斜水平。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题在于，有利于使用地改进按本发明类型的基座支架。

该技术问题通过在权利要求中给出的本发明来解决，其中，从属权利要求不仅表示并列权利要求1和16的有利的扩展方案，还表示技术问题的独立的解决方案。

首先并且主要建议，基座支撑件具有三个参照驱动轴的轴线在轴向上相继布置的元件。下部元件固定在驱动轴上。此下部元件承载尤其位于下部元件的平坦面上的中部元件。中部元件又承载上部元件，该上部元件形成支撑基座的承载面。设置了器件，以便至少能够调节上部元件相对于中部元件的倾斜位置。下部元件优选是能够固定在驱动轴上的法兰元件。然而驱动元件也可以固定在驱动轴上。法兰元件尤其永久固定在驱动轴上。形成底板的中部元件和与该中部元件连接的、通过承载板形成的上部元件可以相对于法兰元件分离并且能够与法兰元件可拆卸地连接。借助位置调节元件可以在cvd反应器壳体外部调节承载板相对于底板的位置。因此可能的是，在反应器壳体外进行预调节，其中例如使承载板的承载面相对于底板的安置面处于平行位置，利用该底板的安置面使底板安置在法兰元件的承载面上。因此，在从cvd反应器替换基座时可以在第一步骤中预调节承载板相对于底板的位置。由承载板和底板组成的组合可以作为单元在处理室中使用，其中，底板的安置面平放在法兰元件的承载面上。随后可以将基座的支撑面安放在承载板的承载面上。但还有可能的是，由承载板和底板组成的组合在外部与基座连接，然后把如此形成的组件装入cvd反应器中并且放在承载元件的承载面上。在进行最终的位置调整之前可以使底板与法兰元件连接。为此设置了紧固器件。该紧固器件是可拆卸的紧固器件。紧固器件可以具有多个螺栓，该多个螺栓插入底板的紧固孔中并且旋拧到法兰元件的螺纹孔中。在此，紧固螺栓可以具有头部，该头部位于紧固孔的直径变大的区段中。因此，紧固孔尤其是底板内的阶梯孔。紧固孔和螺纹孔优选平行于驱动轴的轴线延伸。承载板的远离底板的端面可以具有中央区域，该中央区域尤其由承载面包围。在此中央区域中可以布置有贯穿开口，当紧固螺栓应插入到紧固孔中并且应旋拧到法兰元件的螺纹孔中时，该紧固螺栓可以贯穿穿过该贯穿开口。紧固孔的直径变大的区域优选具有轴向深度，使得螺栓头部在那里能够完全被容纳。优选能够从中央区域触及用于调节承载面相对于底板的安置面的倾斜度的器件，该底板的安置面安置在法兰元件的承载面上。用于调节倾斜度的器件可以优选用工具操作，该工具沿驱动轴线的方向作用。用于调节倾斜度的器件可以是螺栓，从中央区域能够进入用于该螺栓的螺丝刀作用开口。此螺栓优选平行于驱动轴的轴线延伸。可以是无头螺栓。可以设置杠杆传动，以便可以更灵敏地调整位置。为了避免静态重复确定，设置了三个以120°的角距布置的用于调节倾斜度的器件，其中，这些器件尤其具有沿径向方向延伸的杠杆。所述杠杆形成调节杠杆，该调节杠杆优选支撑在底板上。短杠杆臂可以沿径向向外的方向定向。长杠杆臂可以沿径向向内的方向定向。短杠杆臂在沿径向外部的区域中作用在承载板的底面上。调节螺栓优选作用在长杠杆臂上，该调节螺栓尤其由无头螺栓形成并且旋拧在中央区域的螺纹孔中。作用在长杠杆臂上的调节螺栓优选具有在端面上倒圆的螺杆，该螺杆位于长杠杆臂的槽中。在本发明的扩展方案中规定，承载板朝底板的方向受力。在此优选使用牵拉元件。牵拉元件可以是旋拧在滑块中的螺栓，该滑块可以在底板的支承凹空中沿轴线方向移动。优选设置了弹簧元件、特别优选设置压力弹簧元件，该弹簧元件布置在滑块和支承凹空的底部之间。优选设置了三个围绕底板或者承载板的中心以均匀角度分布的方式布置的牵拉元件。法兰元件可以通过合适的紧固器件与尤其驱动轴的端部区段连接。法兰元件优选通过夹紧元件与驱动轴连接。夹紧元件可以作用在驱动轴的外侧面上。可以设置两个夹紧钳口，该夹紧钳口和夹紧元件、例如夹紧螺栓能够彼此相对移动。在夹紧位置中，夹紧钳口与驱动轴夹紧地相互作用。可以设置沿径向方向延伸的螺栓、尤其无头螺栓，该螺栓起夹紧螺栓的作用，夹紧螺栓朝驱动轴的外侧面作用。尤其能够沿径向方向调节夹紧螺栓。在本发明的扩展方案中规定，基座是多个基材支架的支架。每个基材支架承载一个或多个基材并且位于基座的槽腔中。进气管线通入槽腔的底部中，通过该进气管线可以将载体气供入槽腔中。载体气形成气体支承部，基座支架可旋转移动地安置在该气体支承部上。槽腔的底部中的气体出口喷嘴具有方向，使得从该气体出口喷嘴中排出的气体促使基材支架发生旋转。进气管线沿径向方向从基座的中央开口开始向槽腔底部上的出气开口延伸。穿过承载板将惰性气体送入。为此，承载板具有沿径向方向延伸的气体通道，该气体通道通到承载面中。然而，备选地还有可能的是，气体通道通到承载板的柱体侧壁中。该气体通道与基座中的流动通道对准，气体通过该流动通道输送到槽腔。承载板内的气体通道具有位于承载板的底面上的进气开口。尤其规定，在承载板的底面上存在形成轴向端面的突伸部，气体通道通到此轴向端面中。在平面中构造有进气开口，惰性气体可以通过该进气开口送入气体通道中，随后可以送入流动通道。进气开口所处的平面优选是空腔的底平面。设置有密封件，该密封件具有气体贯通开口，该空气贯穿开口与气体通道的进气开口对准。密封件位于进气开口所处的平面和驱动轴的具有轴向空腔的端面之间，气体可以通过该沿轴向的空腔流动到密封件的气体贯通开口中，随后可以流动到气体通道中。密封件由柔性的材料制成。从承载板的底面形成的突伸部插入底板的中央孔中。承载板的底面与底板的顶面通过间隙相间隔。承载板的底面的外部边缘依靠在调节杠杆的短杠杆臂的向上指向的突伸部上。承载板的顶面沿圆形轮廓线的外边缘具有环形接条。此环形接条可以嵌入到基座的底面的环形凹空中。优选设置定向元件、例如定向榫，该定向榫配属于承载板的顶面并且与对应定向元件、例如底座底面上的定向开口相适配。因此确保，仅在唯一的旋转位置中可以使基座与基座支架相对应。法兰元件、底板和承载板优选由金属制成。它们可以由不锈钢制成。但它们还可以由其他的金属构成并且涂层。密封件优选由橡胶构成，因此是橡胶密封件。该橡胶密封件是弹性的，使得法兰装置、即承载板可以相对于底板或者驱动轴或固定法兰元件的主轴多次地移动，而不会磨损橡胶密封件。橡胶密封件在承载板、底板或法兰元件或主轴或者驱动轴之间夹紧，从而产生气体密封性。主轴或者驱动轴可以向上开口。但还有可能的是，驱动轴或者主轴在端面上封闭，其中，封闭端面的封闭板具有开口，该开口与承载板中的流动通道的进气开口对准。但还可以使用可塑性变形的密封件、例如石墨密封件来替代柔性的密封件、例如产生复位力的聚合物密封件。

为了解决本发明问题尤其建议，在按本发明所述类型的、用于将cvd反应器的基座固定在驱动轴上的装置上规定至少一个调节杠杆，该装置带有承载板和并带有底板，所述承载板具有承载面，在该承载面上能够安置基座的支撑面，该底板能够与驱动轴连接并且通过该底板能够调节位置地承载承载板，该至少一个调节杠杆支承在支点上并且由该支点开始具有长杠杆臂和短杠杆臂，其中，在长杠杆臂上作用有调节元件、例如调节螺栓，用该调节元件能够对底板和承载板之间的间隙进行间隙宽度调节，其中，支点配属于承载板或者底板，并且短杠杆臂作用在相应其他的板上，在所述相应其他的板上还优选固定有调节元件。

此外，本发明还涉及一种用于将cvd反应器的基座固定在驱动轴上的装置，该装置具有能够与驱动轴通过螺栓连接的底板和与底板通过间隙相间隔的承载板，该承载板承载基座并且相对于底板能够改变位置，其中，承载板具有为了使螺栓贯穿而与底板的紧固孔对准的贯穿开口。

此类型的装置尤其在中间连接有环形的承载元件的情况下承载基座，其中，承载元件支撑在承载板的中央区域的底部面上。配属于基座的承载件可以支撑在环形的承载元件上，气体通道能够延伸穿过所示承载元件，该承载件承载环形的基座板。张紧件的边缘区域可以支撑在环形的基座板的边缘区域上，该张紧件利用张紧元件、尤其拉杆与驱动轴或者牵拉机组连接。环形的承载元件形成空腔，该空腔通过贯穿开口和间隙与基座底侧的腔室连接，在该腔室中存在加热装置。

所要解决的技术问题在于，避免承载板上方的空腔和基座下方的腔室之间的流动连通。

该技术问题通过权利要求18提供的技术特征解决，其中设置封闭器件，该封闭器件使贯穿开口封闭。贯穿开口优选通过封闭器件能够拆卸地封闭。

在本发明的第一方案中规定，在一个或多个贯穿开口中分别插入密封封闭贯穿开口的塞件。塞件可以具有柱体侧面形的密封面，该密封面密封贴靠在贯穿开口的柱体内侧面上。但还可以规定，在塞件的侧壁和贯穿开口的内壁之间布置密封元件、例如o形环或者说o形垫片。但塞件的侧壁还可以具有外螺纹，该外螺纹旋拧到贯穿开口的壁的内螺纹中或者该外螺纹具有自攻螺纹。此外，塞件可以具有头部，所述头部的直径大于贯穿开口的直径，使得塞件能够利用头部支撑在承载板的中央区域的底部面上。在本发明的方案中，具有通道形状的承载元件具备这样的壁厚度，使得承载元件的底面完全封闭贯穿开口。则承载元件的底面完全形成密封面。沿承载板延伸的气体通道分别通到沿轴向的气体通道中，该沿轴向的气体通道延伸穿过承载元件，以便通到基座的或者承载件的气体通道中。承载元件尤其与承载板可拆卸地连接。将底板和驱动轴连接螺栓可以旋拧到法兰元件的内螺纹中，该法兰元件固定在驱动轴上。

附图说明

以下参照附图阐述本发明的实施例。在附图中：

图1示出基座支架1的立体图；

图2示出图1所示的基座支架的视图；

图3示出沿图2中的线iii-iii剖切的剖面；

图3a示出根据图3的剖切立体图；

图4示出基座支架1的断开立体图；

图5示出第一分解视图；

图6示出第二分解视图；

图7示出穿过反应器壳体30的横截面的概览视图，在该反应器壳体30中，基座支架1使驱动轴40与基座31连接；

图8示出图7中的细节视图viii-viii；

图9示出沿图7中的线ix-ix剖切的剖面；

图10示出沿图7中的线x-x剖切的剖面；

图11以穿过cvd反应器的基座承载装置的横截面的形式示出本发明的第二实施例；

图12示出第三实施例的按图11的视图；

图13示出第四实施例的按图11的视图。

具体实施方式

根据本发明的cvd反应器具有反应器壳体30，该反应器壳体气体密封地向外封闭布置在反应器壳体30内的处理室。设置有进气机构37，通过该进气机构37可以将处理气体输入处理室中。废气可以通过气体出口39从处理室排出。借助连接在气体出口39上的泵使处理室抽真空。

空心的驱动轴40伸入反应器壳体30的内部，惰性气体可以流动穿过该空心的驱动轴40。在驱动轴40的上端部上固定有基座支架1，该基座支架承载基座31。基座31具有中央开口，基座31由石墨、尤其涂层后的石墨或者金属构成，基座31沿径向方向具有从中央开口开始延伸的流动通道35和一个或多个围绕基座31中心布置的基材支架36。基材支架36安置在支承面上，该支承面可以是槽腔的底部。流动通道35如此通到支承面中，使得从流动通道35排出的惰性气体一方面形成气垫，基材支架36处于所述气垫上，并且另一方面促使基材支架36发生旋转。通过驱动轴40的旋转可以促使基座31发生旋转。

进气机构37具有多个用于将彼此不同的处理气体导引到处理室中的进气通道，该处理室在基座31的顶面和盖板38的底面之间延伸。盖板38的底面和基座31的顶面之间的处理室高度a取值为20至50mm、优选30至40mm、在该实施例中大约为32至35mm。盖板38的直径和基座31的直径均大于30cm。

基座支架1具有器件，利用该器件可以调节基座31的相对于驱动轴40的轴线的倾斜位置，从而可以使处理室高度a沿基座31的整个周向统一。

基座支架1具有法兰元件4，该法兰元件可以与驱动轴40的向上指向的端部连接。法兰元件4是带有沿径向的狭缝26的环形体，该狭缝26使环中断。法兰元件4的因狭缝构成的两个相互对置的环半部构成夹紧钳口41，夹紧钳口41能够借助夹紧螺栓25彼此相对移动，其中，狭缝26变小。设置了其他的夹紧螺栓28，其他的夹紧螺栓28可以沿径向方向旋拧到法兰元件4的螺纹孔中。螺纹孔配属于两个夹紧钳口41。夹紧螺栓28的顶部可以支撑在驱动轴44的外侧面上。但还规定了，倒圆的夹紧钳口41面状地贴靠在驱动轴的外侧面上，并且借助夹紧螺栓25固持在夹紧位置中。无头螺栓28则主要用于轴向固定。

法兰元件4的面向上的面形成支承面4′，该支承面4′优选精确位于驱动轴40的旋转平面中。从支承面4′引出三个螺纹孔7中，紧固螺栓8可以选拧进所述螺纹孔中。

底板3具有安置面3″，该安置面3″可以面状地安置在支承面4′上。底板3可以借助紧固螺栓8与法兰元件4连接。为此，底板3具有沿驱动轴40的轴线方向延伸的紧固孔，该紧固孔具有直径变大的上部区段9′。螺栓8的螺杆贯穿紧固孔9，从而螺栓8的头部8′完全处于紧固孔9的上部区段9′中。

底板3具有中央空腔，驱动轴40的上部区段突伸穿过该中央空腔。驱动轴40从下方伸入底板的中央开口中，相较而言，承载板2的突伸部42从上方开始伸入中央空腔中。突伸部42形成向下开口的空腔，密封件21位于该空腔的底部上。密封件21的另一侧面被驱动轴40的端面加载。驱动轴40具有多个沿其轴线方向延伸的流动通道45。

设置了牵拉元件11，所述牵拉元件对承载板2朝底板3的方向施加力。尤其设置三个绕承载板2或者底板3的中心以均匀的周向分布的方式布置的牵拉元件11。牵拉元件11产生加载在密封件21上的力。

密封件21具有多个气体贯通开口22，该气体贯通开口22与气体通道23的进气开口对准，该气体通道23在承载板2内延伸。进气开口使气体通道23与出气开口24连通。气体通道23具有第一区段，所述第一区段沿轴线方向延伸并且通到沿径向方向延伸的第二区段中。用塞件使第二区段相对于承载板2的柱体侧面外壁封闭。第二区段通到第三区段中，该第三区段沿轴线方向延伸并且形成出气开口24，该出气开口24位于承载板2的端面中，惰性气体能够通过所述端面流入基座31的流动通道35中。流动通道45与气体贯通开口22对准，从而可以通过流动通道45将气体输入承载板2中。

牵拉元件11由螺纹螺栓构成，该螺纹螺栓插在承载元件2的孔22中并且穿透底板3的孔13并且结束于连接在孔13上的支承凹空13′中。螺栓的端部旋拧到非圆形的滑块14中，该滑块14能够在支承凹空13′中沿轴向方向移动。支承凹空13′具有底部，弹簧元件15支撑在该底部上。弹簧元件15的另一端面由滑块14加载。在该实施例中，弹簧元件15由压力弹簧元件构成。压力弹簧元件是上下依次堆叠的盘形弹簧。

三个分别呈调节杠杆16形式的调节元件在承载板2的底面2′和底板3的顶面3′之间的间隙空间中延伸。调节杠杆16具有向下指向的支承区段16′，该支承区段16′支承在支承凹空20的底部上。设置了三个分别由顶面3′中的径向切口形成的支承凹空20。支承凹空20是横截面为矩形的槽，所述槽沿径向方向延伸的。

调节杠杆16具有径向向外指向的短杠杆臂17，该短杠杆臂17的向上指向的突伸部从下方包绕底面2′的边缘。调节螺栓19作用在径向向内指向的长杠杆臂18上。调节螺栓19是旋拧到承载板2的中央区域6的螺纹孔中的无头螺栓。中央区域6由与底面2′对置的承载面5包围。承载面5又由环形接条34包围。基座31的支撑面32处于承载面5上。用于基座31的旋转位置定向的定向榫33插在承载面5的开口中。出气开口24处于承载面5内并且与穿过基座31延伸的流动通道35的进气开口对准。基座31在附图中多件式地示出。但也可以单件式地构造。

在中央区域的中心中存在与密封件21的开口对准的贯穿开口。

用于调节承载板2相对于底板3的倾斜位置的调节器件19可以借助合适的工具、例如螺丝刀来调节。尤其通过基座31的中央开口可以触及调节器件19。

在重新安装例如出于清洁或者更换的目的而从反应器壳体30中取出的基座时，首先在cvd反应器壳体30外预调节基座支架1，其方式为使底板3的底面与承载面5处于平行位置中。随后可以将由承载板2和底板3组成的组合放入反应器壳体30中。在此将安置面3″放置在法兰元件4的支承面4′上。支承面4′优选精确地在驱动轴40的旋转平面中延伸，从而预调节后的承载面5同样处于驱动轴40的旋转平面中。底板3与法兰元件4的固定借助通过中央区域6可以触及的、旋拧到法兰元件4的螺纹孔7中的螺栓8实现。在此，通过穿过承载板2的贯穿开口10实现对紧固螺栓8的配置，该贯穿开口10与底板3的紧固孔9和法兰元件4的螺纹孔7对准。

被认为有利的是，借助三个调节器件16、17、18、19可以沿各个方向调节承载面5相对于底板3的图轴线的倾斜度。牵拉元件11产生使承载板2的边缘贴靠在调节杠杆16的短臂17上的力。

在将基座31安置在承载板2上之后进行精细调整。在此，基座31的向下指向的支撑面32支撑在承载面5上。穿过基座31的中央空腔可以借助合适的调节工具来改变调节元件、即尤其调节螺栓19，从而改变基座31的倾斜位置，使得该基座31的顶面处于旋转平面中并且尤其与处理室顶部8的底面平行。

图11、图12和图13示出本发明的第二方面。驱动轴40与底板3连接。底板3承载承载板2，其中设置了之前已列举的措施，以便相对于底板3调节承载板2。为此设置了调节器件，利用该调节器件能够调节承载板2相对于底板3的倾斜位置。

如已描述的上述图1至图8所示，承载板2相对于底板3通过间隙53相间隔。此间隙53在水平平面中延伸并且通到环形间隙54中，该环形间隙54围绕承载板2并且在位于基座31下方的腔室中开放。在此腔室中存在加热元件51，利用该加热元件51加热基座31的基座板，该基座板环形构造并且支承在承载件49上。

承载件49又通过管状的承载元件47承载，该承载元件47支撑在承载板2的底面6′上。承载元件7在图11和图13所示的实施例中形成环形的空腔，与间隙53流动连通的贯穿开口10通到该空腔中，从而中央的空腔与基座31下方的腔室流动连通。

张紧件48的环形边缘位于基座板的环形边缘上，该张紧件48利用张紧元件50与驱动轴40或者与布置在驱动轴40下方的张紧器件连接，以便在张紧元件50上施加应力。张紧件48在该实施例中由牵拉板构造。

利用图11所示的塞件46封闭中央的空腔和基座31下方的腔室之间的流动连通，该塞件46将与紧固孔9对准的贯穿开口10封闭，在所述紧固孔中插入了紧固螺栓8。在装配中，紧固螺栓8穿过贯穿开口10插入到紧固孔9中。然后将紧固螺栓8的螺纹区段旋拧到到法兰元件4的螺纹孔7中，该法兰元件4固定在驱动轴40上。在附图中示出的封闭器件可拆卸地封闭贯穿开口10。

塞件10具有柱状的密封区域，该密封区域嵌合在贯穿开口10中。密封区域以弹性的压紧力贴靠在柱状的贯穿开口10的壁上。塞件46的头部具有沿径向突伸超出密封面的区域，该区域可以安置在底面6′上，以便使塞10沿轴向固持在紧固孔9中。

图13所示的实施例与图11所示实施例主要区别在于，密封器件是放置在塞件46的柱形侧面的环形槽中的o形环52。压缩的o形环52可以密封支撑在贯穿开口10的壁上。

在图12所示实施例中，管状的承载元件47具有这样的壁厚，使得承载元件47的底面形成密封面47′，该密封面47′完全封闭贯穿开口10。张紧元件50延伸穿过张紧件48下方的中央开口，所述中央开口的径向延伸部、即中央开口的直径，在图12所示的实施例中比图11和图13所示的实施例中更小。

在其他的、未示出的实施例中，塞件可以具有备选的设计方案。例如可以具有外螺纹，该外螺纹旋拧到贯穿开口10的壁的内螺纹中。在此可以是自密封的螺纹。然而，在备选方案中，塞件还可以具有自攻螺纹，在旋拧塞件46时所述自攻螺纹钻入贯穿开口10的光滑壁中。此外，头部的直径变大的边缘可以形成密封面。

前述实施例用于阐述在整体包含在本申请中的发明，本发明至少通过以下的特征组合地或者分别单独地改进了现有技术，其中，两个、多个或所有特征组合还可以相互组合，即：

一种装置，其特征在于，设置由驱动轴40承载的和/或可固定在驱动轴40上的法兰元件4，利用可拆卸的紧固器件7、8、9将底板3固定或者可以固定在该法兰元件4上。

一种装置，其特征在于，紧固器件7、8、9具有多个螺栓8，该螺栓8插入在底板3的紧固孔9中并且旋拧到到法兰元件4的螺纹孔7中。

一种装置，其特征在于，紧固螺栓8具有头部8′，该头部安置在紧固孔9的直径增大的区段9′中。

一种装置，其特征在于，承载板2的远离底板4的端侧具有中央区域6，在该中央区域6中布置有用于贯穿插入紧固螺栓8的贯穿开口10。

一种装置，其特征在于，承载面5包围中央区域6。

一种装置，其特征在于，设置了用于调节承载面5相对于底板3的安置面3″的倾斜度的调节器件16、17、18、19，该调节器件16、17、18、19安置和/或能够安置在法兰元件的支承面4′上。

一种装置，其特征在于，法兰元件4具有夹紧元件25、28、41，以便固定在驱动轴40的外侧面上。

一种装置，其特征在于，法兰元件4具有两个夹紧钳口41，该夹紧钳口41能够利用夹紧元件25相对移动。

一种装置，其特征在于，法兰元件4具有一个或多个夹紧螺栓28，该夹紧螺栓28能够沿径向方向朝驱动轴4的外侧面作用。

一种装置，其特征在于，调节器件是调节杠杆16，该调节杠杆16支撑在底板3上并且利用短杠杆壁17作用在承载板2的底面2′上，并且该调节杠杆16具有长杠杆臂18，旋拧到到中央区域6的螺纹孔中的调节螺栓19作用在该长杠杆臂18上。

一种装置，其特征在于，设置对承载板2朝底板3的方向施加力的牵拉元件11、14、15。

一种装置，其特征在于，承载板2中布置气体通道23，该气体通道23使配属于承载板2的底面2′的进气开口与出气开口24相互连通。

一种装置，其特征在于，在配属于承载板2的底面2′的突伸部42的空腔中布置柔性的密封件21，该密封件21具有与进气开口对准的出气开口22并且能够安放在驱动轴40的端侧上。

一种装置，其特征在于，设置了包围承载面5的环形接条34。

一种装置，其特征在于，在承载面5的区域中布置位置调节元件33，所述位置调节元件尤其呈定向榫的形式。

一种cvd反应器，其特征在于，基座31利用根据权利要求1至15中任一项所述的装置与驱动轴40连接，其中，基座31具有中央开口，该中央开口由支撑面32包围并且该中央开口的直径大约等同于中央区域6的直径。

一种装置，其特征在于，利用三个沿驱动轴40的轴向方向相叠布置的元件在驱动轴40上固定cvd反应器的基座31，其中，下部的元件与驱动轴40连接并且承载中部的元件，并且中部的元件布置在下部的元件和上部的元件之间，其中，能够调节上部的元件相对于中部的元件的位置，并且上部的元件具有用于固定基座31的器件。

一种装置，其特征在于，设置至少一个封闭器件46、47′，利用该封闭器件46、47′封闭贯穿开口10。

一种装置，其特征在于，封闭器件由塞件46构成，该塞件46密封地嵌入在贯穿开口10中，或者封闭器件是密封面47′，该密封面47′由承载基座31并且支撑在承载板2上的承载元件47构成。

所有公开的特征(本身及其相互组合)都有发明意义或发明价值。在本申请的公开文件中，所属/附属的优先权文本(在先申请文件)的公开内容也被完全包括在内，为此也将该优先权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求(即使是未被引用的权利要求的技术特征)利用其技术特征对于现有技术有独立发明意义或价值的改进设计，尤其可以基于所述从属权利要求提出分案申请。在每个权利要求中提供的发明可以附加地具有一个或多个在前述说明中、尤其设有附图标记和/或在附图标记列表中提供的技术特征。本发明也涉及一些设计形式，其中，在前述说明书中提到的个别技术特征不被实现，尤其是当所述技术特征对于相应应用目的而言被认为是不必要的或者能够被其它技术上功能相同的器件替代时。

附图标记列表

1基座支架

2承载板

2′底面

3底板

3′顶面

3″安置面

4法兰元件

4′支承面

5承载面

6中央区域

6′底面

7螺纹孔

8螺栓

8′头部

9紧固孔

9′区段

10贯穿开口

11牵拉元件

12孔

13孔

13′支承凹空

14滑块

15弹簧元件

16调节杠杆

16′支承区段

17杠杆臂

18杠杆臂

19调节螺栓

20支承凹空

21密封件

22气体贯通开口

23气体通道

24出气开口

25夹紧元件

26间隙

27螺纹孔

28夹紧元件、夹紧螺栓

29空腔

30反应器壳体

31基座

32支撑面

33定向榫

34环形接条

35流动通道

36基材支架

37进气机构

38盖板

39气体出口

40驱动轴

41夹紧钳口

42突伸部

43空腔

44夹紧环

45流动通道

46塞件

47承载元件

47′密封面

48张紧件

49承载件

50张紧元件

51加热元件

52o形环

53间隙

54间隙

a处理室高度