涂层和涂层制剂的制作方法

文档序号:25036964发布日期:2021-05-11 17:09阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于在太阳能模块中使用的盖玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂层的零件套件,包括:

(a)第一容器,所述第一容器包含第一涂层制剂,所述第一涂层制剂包含无机氧化物粘合剂和溶剂;以及

(b)第二容器,所述第二容器包含第二涂层制剂,所述第二涂层制剂包含

i.以无机氧化物当量为准至少2wt%的纵横比为至少2且较小直径在3nm至20nm的范围内的细长致密无机氧化物粒子;

ii.能够形成直径在10nm至120nm的范围内的孔隙的致孔剂;

iii.无机氧化物粘合剂;和

iv.溶剂

其中基于在空气中在600℃下燃烧2分钟之后的总灰分余量,所述第二涂层制剂包含0wt%至30wt%氧化铝当量的含铝化合物。

2.根据权利要求1所述的套件,其中所述第二涂层制剂包含0.1wt%至25wt%氧化铝当量的含铝化合物。

3.根据前述权利要求中任一项所述的套件,其中所述第一涂层制剂包含能够形成直径在1nm至120nm的范围内的孔隙的致孔剂,并且其中所述致孔剂包含一定量的有机致孔剂材料,被表达为在1wt%至30wt%的范围内的有机致孔剂材料的wt%。

4.根据前述权利要求中任一项所述的套件,其中所述第二涂层制剂包含能够形成直径在10nm至120nm的范围内的孔隙的致孔剂,并且其中所述致孔剂包含一定量的有机致孔剂材料,被表达为在20wt%至50wt%的范围内的有机致孔剂材料的wt%。

5.根据前述权利要求中任一项所述的套件,其中所述第一涂层制剂中的有机致孔剂材料的wt%小于所述第二涂层制剂中的有机致孔剂材料的wt%。

6.根据权利要求1-3中任一项的套件,其中所述致孔剂包含核-壳纳米粒子,其中所述核包含有机化合物并且所述壳包含无机氧化物。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的套件,其中所述致孔剂具有如使用dls所测量的20-150nm的平均大小。

8.一种制备经涂布基材的方法,所述方法包括以下步骤:

-提供具有第一表面的基材;

-在所述基材的第一表面上施加如前述实施方式中任一项所定义的第一涂层制剂;

-干燥所施加的第一涂层制剂以获得包含至少部分被覆盖的第一表面的所述基材;

-在所述至少部分被覆盖的第一表面上施加如前述实施方式中任一项所定义的第二涂层制剂;

-任选地干燥所施加的第二涂层制剂;以及

-将所述基材转化成经涂布基材。

9.一种经涂布基材,包括基材,和

在所述基材的表面上提供的抗反射涂层,

其中所述抗反射涂层包括在所述基材的表面上提供的第一涂布层、在与所述基材的相反侧接触所述第一层的表面的第二涂布层,其中所述第一层包含:

-无机氧化物粘合剂;并且

其中所述第二层包含:

-纵横比为至少2且较小直径在3nm至20nm的范围内的细长致密无机氧化物粒子;

-0wt%至30wt%氧化铝当量的含铝化合物;

-无机氧化物粘合剂;和

-如用椭圆偏光法和/或电子显微镜所测量的直径在10nm至120nm的范围内的孔隙。

10.根据权利要求8所述的经涂布基材,其中所述第一层包括如使用椭圆偏光法椭圆偏光法和/或电子显微镜所测量的直径在10nm至120nm的范围内的孔隙。

11.根据权利要求8或9所述的经涂布基材,其中所述第一层与所述第二层比具有较低的孔隙率。

12.根据前述权利要求中任一项所述的经涂布基材,其中,所述第二涂布层包含介于0.5wt%至25wt%氧化铝当量之间的含铝化合物。

13.根据前述权利要求中任一项所述的经涂布基材,其中

-所述基材是具有折射率n0的玻璃基材;

-所述第一层在经涂布基材上具有如使用椭圆偏光法所测量的在50nm至180nm的范围内的第一层厚度以及如使用椭圆偏光法所测量的在600nm的光波长下在1.50-1.30的范围内的折射率n1;

-所述第二层在经涂布基材上具有如使用椭圆偏光法所测量的在50nm至180nm的范围内的第二层厚度以及如使用椭圆偏光法所测量的在600nm的光波长下在1.35-1.20的范围内的折射率n2;

-以及n0<n1<n2。

14.根据权利要求9至14中任一项所述的经涂布基材,其中所述基材如说明书中所定义的那样显示出如在pct-48小时压力锅试验中所确定的小于0.25%的透射减小。

15.一种制品,所述制品包括根据权利要求9至15中任一项所述的经涂布基材。

16.一种太阳能模块,所述太阳能模块包括根据权利要求9至15中任一项所述的经涂布基材。

17.如权利要求1至7中任一项所定义的套件用于改善ar经涂布基材优选地ar经涂布玻璃基材的耐久性的用途。


技术总结
一种包括涂布层的经涂布基材,所述涂布层包含无机氧化物和孔隙,所述涂布层显示出改善的耐久性性能。所述经涂布基材可以例如被用在太阳能模块中。进一步地,公开了一种涂层制剂和所述涂层制剂的用途。

技术研发人员:瑟伊斯·贝塞林;彼得·莱昂纳多·伊丽莎白·玛丽亚·帕斯曼;盖伊·德拉亚斯玛
受保护的技术使用者:帝斯曼知识产权资产管理有限公司
技术研发日:2019.10.15
技术公布日:2021.05.11
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