技术总结
本文揭示一种阻挡膜，其包含包含第一表面与第二表面的衬底；其中所述第一表面与所述第二表面彼此相对地安置；以及包含阳离子材料与阴离子材料的交替层的阻挡涂层；其中所述阻挡涂层与所述衬底的至少所述第一表面反应性地键结。本文还揭示一种方法，其包含在衬底上安置包含阳离子材料与阴离子材料的交替层的阻挡涂层；其中所述阻挡涂层与所述衬底的至少一个表面反应性地键结。
技术研发人员：D·E·拜尔;S·R·詹金斯;M·W·万舒姆雷恩;J·王
受保护的技术使用者：陶氏环球技术有限责任公司
文档号码：201580035008
技术研发日：2015.06.22
技术公布日：2017.05.10