抗 UV 剂 622 0. 1%，芥酸酰胺 0. 1%。
[0027] 其中，所述的纳米有机硅树脂光扩散剂的粒径为120nm。
[0028] 实施例3的制备工艺： a、 按重量配比称取好配方中的原料； b、 烘料，PMMA 在 80°C干燥 2. 5h ; c、 将PMMA、SEBS加入高混机中搅拌均勾，搅拌速度为250r/min，搅拌时间为35min ; 然后将余下的其它原料一起加入高混机中进行搅匀，搅拌速度为150r/min，搅拌时间为 22min ； d、 将步骤C混合均匀物料放入双螺杆挤出机进行挤出、造粒；挤出机送料段的温度为 170°C，塑化段的温度为190°C，熔体输送段的温度为210°C，机头温度为175°C，喂料速度为 80 r/min，螺杆转速为160 r/min，真空度为0. 35MPa。
[0029] 实施例4 一种高韧性高透光扩散PMMA材料，基本配方和重量比组成为：PMMA 91. 7%，K胶4%， 纳米丙烯酸酯树脂光扩散剂3%，双（3, 5-三级丁基-4-羟基苯基）硫醚0. 3%，抗UV剂5411 0· 1%，抗 UV 剂 622 0· 3%，聚硅酮 0· 6%。
[0030] 其中，所述的纳米丙烯酸酯树脂光扩散剂的粒径为70nm。
[0031] 实施例4的制备工艺： a、 按重量配比称取好配方中的原料； b、 烘料，PMMA在80°C干燥2h ; c、 将PMMA、K胶加入高混机中搅拌均匀，搅拌速度为220r/min，搅拌时间为20min ;然后 将余下的其它原料一起加入高混机中进行搅勾，搅拌速度为120r/min，搅拌时间为IOmin ; d、 将步骤c混合均匀物料放入双螺杆挤出机进行挤出、造粒；挤出机送料段的温度为 165°C，塑化段的温度为185°C，熔体输送段的温度为205°C，机头温度为165°C，喂料速度为 25r/min，螺杆转速为70r/min，真空度为0. 25MPa。
[0032] 实施例5 一种高韧性高透光扩散PMMA材料，基本配方和重量比组成为：PMMA 93%，SEBS 2%，纳 米丙烯酸酯树脂光扩散剂3.6%，四〔β-(3,5-三级丁基-4-羟基苯基）丙酸〕季戊四醇酯 0. 4%，抗 UV 剂 5411 0. 2%，抗 UV 剂 622 0. 4%，芥酸酰胺 0. 4%。
[0033] 其中，所述的纳米丙烯酸酯树脂光扩散剂的粒径为180nm。
[0034] 实施例5的制备工艺： a、 按重量配比称取好配方中的原料； b、 烘料，PMMA 在 80°C干燥 2. 5h ; c、 将PMMA、SEBS加入高混机中搅拌均勾，搅拌速度为280r/min，搅拌时间为55min ; 然后将余下的其它原料一起加入高混机中进行搅匀，搅拌速度为180r/min，搅拌时间为 35min ； d、 将步骤C混合均匀物料放入双螺杆挤出机进行挤出、造粒；挤出机送料段的温度为 170°C，塑化段的温度为190°C，熔体输送段的温度为210°C，机头温度为180°C，喂料速度为 130r/min，螺杆转速为280r/min，真空度为0. 45MPa。
[0035] 实施例6 一种高韧性高透光扩散PMMA材料，基本配方和重量比组成为：PMMA 91%，乙烯-辛烯 共聚物5%，纳米有机硅树脂光扩散剂3%，2,6-三级丁基-4-甲基苯酚0. 1%，抗UV剂5411 0· 2%、抗 UV 剂 622 0· 2%，EBS 0· 5%。
[0036] 其中，所述的纳米有机硅树脂光扩散剂的粒径为90nm。
[0037] 实施例6的制备工艺： a、 按重量配比称取好配方中的原料； b、 烘料，PMMA在80°C干燥3h ; c、 将PMMA、乙烯-辛烯共聚物加入高混机中搅拌均勾，搅拌速度为280r/min，搅拌时间 为50min ;然后将余下的其它原料一起加入高混机中进行搅勾，搅拌速度为180r/min，搅拌 时间为35min ; d、 将步骤c混合均匀物料放入双螺杆挤出机进行挤出、造粒；挤出机送料段的温度为 175°C，塑化段的温度为195°C，熔体输送段的温度为215°C，机头温度为185°C，喂料速度为 140r/min，螺杆转速为280r/min，真空度为0. 4MPa。
[0038] 对比例1 与实施例1不同的是，对比例1中，改性过程不加乙烯-辛烯共聚物，其它条件不变。
[0039] 对比例2 与实施例1不同的是，对比例2中，改性过程不加复合抗UV剂，其它条件不变。
[0040] 性能测试 透光率测试及雾度测试采用透光率雾度测定仪，按照美国材料实验协会标准ASTM D1003-61 (1997)，对实施例1-6中制得的光扩散PMM材料的透光性和光扩散性进行检测， 测试样板厚度为2mm。缺口冲击强度采用简支梁冲击试验机，按照美国材料实验协会标准 ASTM D256进行检测，测试结果见表1所示： 表1
【主权项】
1. 一种高韧性高透光扩散PMMA材料，其特征在于，基本配方和重量比组成为： PMMA 90-95% 增韧剂 2~6% 纳米光扩散剂 1~5% 抗氧剂 0. 1~0. 5% 复合抗UV剂 0. 2~0. 8% 润滑剂 0. 1~1. 2%。
2. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述的增韧剂为乙烯-辛烯 共聚物、K胶、SEBS中的至少一种。
3. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述的纳米光扩散剂为纳米 有机硅树脂光扩散剂、纳米丙烯酸酯树脂光扩散剂中的至少一种。
4. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述的纳米光扩散剂的粒径 为 50~200nm。
5. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述的抗氧剂为2,6-三级 丁基-4-甲基苯酚、双（3,5_三级丁基-4-羟基苯基）硫醚、四〔β-(3,5-三级丁基-4-羟 基苯基）丙酸〕季戊四醇酯中的至少一种。
6. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述的复合抗UV剂为抗UV 剂5411和抗UV剂622按1:1~1:3的比例混合。
7. 根据权利要求1所述的光扩散PMMA材料，其特征在于：所述润滑剂为EBS、聚硅酮、 芥酸酰胺中的至少一种。
8. 根据权利要求1所述的光扩散PMM材料的制备方法，其特征是制备的工艺步骤如 下： a、 按重量配比称取好配方中的原料； b、 烘料，PMMA 在 80°C 干燥 2~3h ; c、 将PMM、增韧剂加入高混机中搅拌均勾，搅拌速度为200~300r/min，搅拌时间为 10~60min ;然后将余下的其它原料一起加入高混机中进行搅匀，搅拌速度为100~200r/ min，搅拌时间为5~40min ; d、 将步骤c混合均匀物料放入双螺杆挤出机进行挤出、造粒；挤出机送料段的温 度为：160~180°C，塑化段的温度为：180~200°C，熔体输送段的温度为：200~220 °C，机 头温度为：160~190°C，喂料速度为10~150r/min，螺杆转速为50~300r/min，真空度为 0. 2MPa?0. 5MPa。
【专利摘要】本发明公开一种高韧性高透光扩散PMMA材料及其制备方法，原料的重量百分组成为：PMMA 90~95%，增韧剂2~6%，纳米光扩散剂1~5%，抗氧剂0.1~0.5%，复合抗UV剂0.2~0.8%，润滑剂0.1~1.2%。发明的制备方法是按重量配比称取原料配方中的材料，混合均匀，将混合后的原料投入到双螺杆挤出机的加料斗中，经熔融挤出，造粒。发明制得的光扩散PMMA材料韧性好、透光率和雾度高、耐候性好、价格低，适用于户外广告牌、树脂窗玻璃、显示装置用光扩散板以及冷光源光扩散板等领域。
【IPC分类】C08L33-04, C08L53-02, C08L83-04, C08L23-08, B29B9-06, B29C47-92, C08L33-12
【公开号】CN104559003
【申请号】CN201510080511
【发明人】李 杰
【申请人】李 杰
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2015年2月15日