一种螯合清洗剂的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明属于化工领域，具体是涉及一种螯合清洗剂。
【背景技术】
[0002]近几年，中国部分地区严重缺水，对清洗用水提出了挑战。有的城市已经严禁用普通水洗车，而只能使用回收的中水，或者雾化水的节水设备。在精密工业清洗中，制备纯水费用昂贵。水洗必然要加热和烘干，增加很多漂洗工位。耗能大，运行成本通常比溶剂洗要高；另外，以往大量的含有化学活性剂和污垢的废水未经处理就直接排放。有些还挟带了毒性很大的重金属，严重地污染了环境，必须增加污水处理设施。
[0003]清洗剂溶剂是一个很大的范畴，种类繁多，包括无机清和有机清洗两大类。清洗剂的分类方法也很多，各国都不尽相同，我们通常分成水系，半水系、非水系清洗剂三大类。
[0004]在工业上使用的用来除去除污垢的化学或生物制剂统称为工业清洗剂。常见的工业清洗剂有:船舶冷却器清洗剂、甲板清洗剂、皮革光亮清洗剂、铝合金件除油清洗剂、碳钢件除油清洗剂、模具清洗剂、五金件除蜡清洗剂、铜件清洗剂、光学清洗剂、颜料件除油清洗剂等。
【发明内容】
[0005]本发明涉及一种螯合清洗剂，它可以螯合较多的金属，且生物降解能力强，可以用于冷却水系统中有机粘泥和无机钙垢的去除，是一种优质的清洗剂。
[0006]本发明的螯合清洗剂是由以下的配方组成和质量组份配合而成:氨基三乙酸12?20份，碳酸氢钠15?20份，过氧化焦磷酸钠10?30份，表面活性剂I份，EDTA钠盐2?7份，缓蚀剂0.5份，ph调节剂I?3份，加水至100份。
[0007]一种螯合清洗剂的配制方式为:将上述比例的氨基三乙酸、碳酸氢钠、过氧化焦磷酸钠、表面活性剂、EDTA钠盐、缓蚀剂加入一定量的水中，搅拌均匀，然后再加入ph调节剂，调节ph值。
【具体实施方式】
[0008]实施例1:
[0009]以制备螯合清洗剂10g为例:
[0010]氨基三乙酸18g，碳酸氢钠16g，过氧化焦磷酸钠25g，表面活性剂lg，EDTA钠盐3g，缓蚀剂0.5g，ph调节剂1.5g，加水至10go
[0011]一种螯合清洗剂的配制方式为:将上述比例的氨基三乙酸、碳酸氢钠、过氧化焦磷酸钠、表面活性剂、EDTA钠盐、缓蚀剂加入一定量的水中，搅拌均匀，然后再加入Ph调节剂，调节ph值。
[0012]上述实施例中，应用了合理的配比，和适宜的方法，得到的该产品具有很好的去除粘泥和污垢的效果。
[0013]实施例2:
[0014]以制备螯合清洗剂10g为例:
[0015]氨基三乙酸15g，碳酸氢钠20g，过氧化焦磷酸钠23g，表面活性剂lg，EDTA钠盐6g，缓蚀剂0.5g，ph调节剂I?3g，加水至10go
[0016]螯合清洗剂的配制方式与实施实例I相同。
[0017]上述实施例中，更改了各物质的质量份数，使得到的产品可以可以螯合较多的金属，且生物降解能力强，对冷却水系统的污垢有很强的清洗作用。
[0018]综上所述，本发明的特点是它可以螯合较多的金属，且生物降解能力强，可以用于冷却水系统中有机粘泥和无机钙垢的去除，是一种优质的清洗剂。
[0019]尽管做了详细的说明，但是保护范围不限于此。
【主权项】
1.一种螯合清洗剂，其特征在于，各组份物质及其质量份数为:氨基三乙酸12?20份，碳酸氢钠15?20份，过氧化焦磷酸钠10?30份，表面活性剂I份，EDTA钠盐2?7份，缓蚀剂0.5份，ph调节剂I?3份，加水至100份。
2.根据权利要求1所述的螯合清洗剂，其特征在于各组分物质及其质量份数为:氨基三乙酸18份，碳酸氢钠16份，过氧化焦磷酸钠25份，表面活性剂I份，EDTA钠盐3份，缓蚀剂0.5份，ph调节剂1.5份，加水至100份。
3.根据权利要求1所述的螯合清洗剂，其特征在于各组分物质及其质量份数为:氨基三乙酸15份，碳酸氢钠20份，过氧化焦磷酸钠23份，表面活性剂I份，EDTA钠盐6份，缓蚀剂0.5份，ph调节剂I?3份，加水至100份。
4.根据权利要求1所述的螯合清洗剂，其特征在于配制方式为:将上述比例的氨基三乙酸、碳酸氢钠、过氧化焦磷酸钠、表面活性剂、EDTA钠盐、缓蚀剂加入一定量的水中，搅拌均匀，然后再加入Ph调节剂，调节ph值。
【专利摘要】本发明公开了一种螯合清洗剂，由以下的配方组成和质量组份配合而成：氨基三乙酸12～20份，碳酸氢钠15～20份，过氧化焦磷酸钠10～30份，表面活性剂1份，EDTA钠盐2～7份，缓蚀剂0.5份，ph调节剂1～3份，加水至100份。其特点是可以螯合较多的金属，且生物降解能力强，可以用于冷却水系统中有机粘泥和无机钙垢的去除，是一种优质的清洗剂。
【IPC分类】C11D10-02
【公开号】CN104651090
【申请号】CN201310587053
【发明人】童乐, 高晓东
【申请人】青岛水世界环保科技有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2013年11月20日