一种数控机床清洗剂的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种数控机床清洗剂。
【背景技术】
[0002]数控机床可以较好地解决了复杂、精密、小批量、多品种的零件加工问题，是一种柔性的、高效能的自动化机床，代表了现代机床控制技术的发展方向，是一种典型的机电一体化产品。技术进步给工业带来了方便，但也带来了一下问题，数控机床的清洗是加工生产中不可缺少的工序之一，要及时做好清洗工作，漂浮的灰尘和金属粉末容易引起元器件间绝缘电阻下降，从而出现故障甚至损坏元器件，对机床的性能造成影响，降低使用寿命，所以加强清洗工作。但是市场上的清洗剂清洗效果不佳，清洗不干净、不彻底而且污染环境，造成不必要的资源浪费。
【发明内容】
[0003]针对现有技术的不足，本发明要解决的问题是，提供一种数控机床清洗剂，能够对机床的污渍进行有力的清除，操作方便简单，省时省力。
[0004]为解决现有技术问题，本发明提供的技术方案是，一种数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
氢氧化钠4-5份，粉煤灰3-8份，三聚磷酸钠2.5-4份，马来酸酐8_24份，六偏磷酸钠12-18份，双蒸水30-40份，水杨酸盐4-8份，酸酐4_6份，无水硫酸钠4_9份，草酸钠4-6份，空心玻璃微珠7-12份，聚丙烯4-8份，磷酸二氢钙6-10份，二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5-10份，无卤阻烯剂3-7份。
[0005]本发明的有益效果是:本发明的数控机床清洗剂，能够对机床的污渍进行有力的清除，操作方便简单，省时省力。
【具体实施方式】
[0006]实施例1
一种数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
氢氧化钠4份，粉煤灰3份，三聚磷酸钠2.5份，马来酸酐8份，六偏磷酸钠12份，双蒸水30份，水杨酸盐4份，酸酐4份，无水硫酸钠4份，草酸钠4份，空心玻璃微珠7份，聚丙烯4份，磷酸二氢钙6份，二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5份，无卤阻烯剂3份。
[0007]实施例2
一种数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
氢氧化钠5份，粉煤灰8份，三聚磷酸钠4份，马来酸酐24份，六偏磷酸钠18份，双蒸水40份，水杨酸盐8份，酸酐6份，无水硫酸钠9份，草酸钠6份，空心玻璃微珠12份，聚丙烯8份，磷酸二氢钙10份，二甲基二巯基乙酸异辛酯锡10份，无卤阻烯剂7份。
【主权项】
1.一种数控机床清洗剂，其特征在于:其由以下重量份数的原料制成: 氢氧化钠4-5份，粉煤灰3-8份，三聚磷酸钠2.5-4份，马来酸酐8_24份，六偏磷酸钠12-18份，双蒸水30-40份，水杨酸盐4-8份，酸酐4_6份，无水硫酸钠4_9份，草酸钠4-6份，空心玻璃微珠7-12份，聚丙烯4-8份，磷酸二氢钙6-10份，二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5-10份，无卤阻烯剂3-7份。
【专利摘要】一种数控机床清洗剂,其由以下重量份数的原料制成：氢氧化钠4-5份,粉煤灰3-8份,三聚磷酸钠2.5-4份,马来酸酐8-24份,六偏磷酸钠12-18份,双蒸水30-40份,水杨酸盐4-8份,酸酐4-6份,无水硫酸钠4-9份,草酸钠4-6份,空心玻璃微珠7-12份,聚丙烯4-8份,磷酸二氢钙6-10份,二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5-10份,无卤阻烯剂3-7份。本发明的有益效果是：本发明的数控机床清洗剂，能够对机床的污渍进行有力的清除，操作方便简单，省时省力。
【IPC分类】C11D7-60, C11D7-02, C11D7-26, C11D7-34, C11D7-22, C11D7-10, C11D7-06, C11D7-40, C11D7-16
【公开号】CN104789388
【申请号】CN201510211363
【发明人】徐茂航
【申请人】青岛千帆高新技术有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年4月29日