[0030] (4)在去离子水C中加入上述质量份数的剩余物料，搅拌30分钟，降温至40°C，获 得C溶液；
[0031] (5)将上述A溶液、B溶液和C溶液予以混合，充分搅拌均勾，降温至室温，即获得 本品。
[0032] 实施例2
[0033] 本实施例中的化工设备清洁处理剂，按质量份数计由以下成分组成：15份五氟丙 烷，25份异丙基苯磺酸钠，25份硅氧烷，15份正溴丙烷，65份生化黄腐酸，35份二甲基硅氧 烷，35份邻苯二甲酯，30份生化黄腐酸，15份四氯化碳，15份聚乙烯蜡，150份去离子水。
[0034] 上述清洁处理剂制备方法如下：
[0035] (1)将上述质量份数的去尚子水分成三等分，分别为去尚子水A、去尚子水B和去 离子水C，分别予以加热升温至70°C ;
[0036] (2)在去离子水A中加入上述质量份数的五氟丙烷，异丙基苯磺酸钠，硅氧烷和正 溴丙烷，搅拌45分钟，降温至50°C，获得A溶液；
[0037] (3)在去离子水B中加入上述质量份数的生化黄腐酸和二甲基硅氧烷，搅拌45分 钟，降温至50 °C，获得B溶液；
[0038] (4)在去离子水C中加入上述质量份数的剩余物料，搅拌45分钟，降温至50°C，获 得C溶液；
[0039] (5)将上述A溶液、B溶液和C溶液予以混合，充分搅拌均勾，降温至室温，即获得 本品。
[0040] 实施例3
[0041] 本实施例中的化工设备清洁处理剂，按质量份数计由以下成分组成：20份五氟丙 烷，30份异丙基苯磺酸钠，30份硅氧烷，20份正溴丙烷，70份生化黄腐酸，40份二甲基硅氧 烷，40份邻苯二甲酯，40份生化黄腐酸，20份四氯化碳，20份聚乙烯蜡，200份去离子水。
[0042] 上述清洁处理剂制备方法如下：
[0043] (1)将上述质量份数的去尚子水分成三等分，分别为去尚子水A、去尚子水B和去 离子水C，分别予以加热升温至80°C ;
[0044] (2)在去离子水A中加入上述质量份数的五氟丙烷，异丙基苯磺酸钠，硅氧烷和正 溴丙烷，搅拌60分钟，降温至60°C，获得A溶液；
[0045] (3)在去离子水B中加入上述质量份数的生化黄腐酸和二甲基硅氧烷，搅拌60分 钟，降温至60°C，获得B溶液；
[0046] (4)在去离子水C中加入上述质量份数的剩余物料，搅拌60分钟，降温至60°C，获 得C溶液；
[0047] (5)将上述A溶液、B溶液和C溶液予以混合，充分搅拌均勾，降温至室温，即获得 本品。
[0048] 本发明的化工设备产品清洁处理剂具有极强的清洗力，清洗力（4%，70°C )实验 达到99 %以上；腐蚀性弱，对化工设备产品的腐蚀性实验外观均为O级，腐蚀量化工设备产 品为0. 5mg。此外，将上述实施例清洁处理剂使用后，予以静置5~10小时后，可以继续取 出其上部的清洁处理剂予以继续使用。取实施例3的化工设备产品管清洁处理剂，进行性 能测试，测试项目及方法如下：
[0049] 外观检查：按JB/T4323. 2 - 1999的第4章进行。
[0050] 清洗力试验：按JB/T4323. 2 - 1999的第6章进行（铁70±2°C、人工油污，仅适 合清洗剂）。
[0051] 腐蚀性试验：按JB/T4323. 2 - 1999的第9章进行（70±2°C )。
[0052] 消泡性试验：按JB/T4323. 2 - 1999的第10章进行（30±2°C IOmin后残留泡沫 高度）。
[0053] 高低温稳定性试验：按JB/T4323. 2 - 1999的第13章进行。
[0054] 漂洗性试验：按JB/T4323. 2 - 1999的第14章进行（65 ± 2°C，仅适合清洗剂）。
[0055] 防锈性试验：按JB/T4323. 2-1999的第8章进行。
[0056] 测试结果如下表所示。
[0058] 以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员 来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为 本发明的保护范围。
【主权项】
1. 一种化工设备清洁处理剂，其特征在于：按质量份数计由以下成分组成：1〇~20份 五氟丙烷，20~30份异丙基苯磺酸钠，20~30份硅氧烷，10~20份正溴丙烷，60~70份 生化黄腐酸，30~40份二甲基硅氧烷，30~40份邻苯二甲酯，10~20份四氯化碳，10~ 20份聚乙烯蜡，100~200份去离子水。2. 根据权利要求1所述的化工设备清洁处理剂，其特征在于：所述清洁处理剂制备方 法如下： (1) 将上述质量份数的去尚子水分成三等分，分别为去尚子水A、去尚子水B和去尚子 水C，分别予以加热升温至60~80°C ; (2) 在去离子水A中加入上述质量份数的五氟丙烷，异丙基苯磺酸钠，硅氧烷和正溴丙 烷，搅拌30~60分钟，降温至40~60 °C，获得A溶液； (3) 在去离子水B中加入上述质量份数的生化黄腐酸和二甲基硅氧烷，搅拌30~60分 钟，降温至40~60 °C，获得B溶液； (4) 在去离子水C中加入上述质量份数的剩余物料，搅拌30~60分钟，降温至40~ 60 °C，获得C溶液； (5) 将上述A溶液、B溶液和C溶液予以混合，充分搅拌均勾，降温至室温，即获得本品。
【专利摘要】本发明涉及一种化工设备清洁处理剂，按质量份数计由以下成分组成：10～20份五氟丙烷，20～30份异丙基苯磺酸钠，20～30份硅氧烷，10～20份正溴丙烷，60～70份生化黄腐酸，30～40份二甲基硅氧烷，30～40份邻苯二甲酯，10～20份四氯化碳，10～20份聚乙烯蜡,100～200份去离子水。本发明产品适用于化工设备的清洗清洁处理，清洗清洁处理后表面有光泽不发乌，对化工设备的表面无侵蚀作用；该清洁处理清洗剂去脂能力强，清洗效果好；无毒、不易燃；使用简单方便，减少污染，降低清洗成本。
【IPC分类】C11D3/37, C11D3/44, C11D1/22, C11D3/20, C11D3/16, C11D3/60, C11D3/38
【公开号】CN105018240
【申请号】CN201510402338
【发明人】姚雳
【申请人】姚雳
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年7月8日