专利名称：立式热熔胶箱的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用热熔胶涂布覆面作业的热熔胶箱。
现有技术中的热熔胶箱为卧式，其胶池为平底敞开式，能耗大，容易漏胶，胶池底部的积胶易被烤糊，不能宽幅涂布覆面，且还需要配备专用的集中式加热装置来提供已熔化的胶源，结构复杂。
本实用新型的目的在于提供一种具有宽幅加热，宽幅供胶涂布幅面且不易漏胶、胶不糊的立式热熔胶箱。
本实用新型的技术解决方案是一种立式热熔胶箱，其与现有技术的不同之处是包括立式胶池，胶池中侧面装胶轴，胶轴的上方装出胶闸，胶轴的下方装回胶闸，胶池与其上方的胶斗连接，胶池和胶斗中分别装加热装置。
本实用新型结构简单、新颖，胶轴的长度可根据覆面膜的幅度需要，制成相应的长度，因而可以宽幅加热，宽幅供胶涂布，满足覆面的需要，并且涂胶层的厚度由出胶闸作任意调节，涂胶均匀；由于胶池为立式，其胶液自上而下连续供胶涂布，胶池底不积胶，因此胶不会烤糊，也不会漏胶，由于胶池为立式，其胶液自上而下连续供胶涂布，胶池底不积胶，因此胶不会烤糊，也不漏胶；由于胶在胶箱内直接加热，能源损耗减少而节省能源。本实用新型解决了现有技术中不能宽幅加热、宽幅涂布，胶池漏胶以及胶池底积胶被烤糊的缺点。
以下结合附图
和实施例对本实用新型作进一步说明。
附图是本实用新型一个实施例的结构示图。
一种立式热熔胶箱，包括立式胶池1，胶池中侧面装胶轴2，胶轴2的上方装出胶闸3，胶轴2的下方装回胶闸4，胶斗5与胶池1连接，并位于胶池1的上方，胶池1和胶斗5中分别装下加热装置6和上加热装置7。
本实用新型的工作原理是当胶粒加入胶斗5中，由上加热装置7将胶粒加热熔化自上而下流入胶池1，由下加热装置6继续加热使胶液达到预定的温度值，即可连续供胶，在此过程中，胶轴2在胶池中转动也同时被均匀加热，胶液附着在胶轴2表面的厚度，通过调节出胶闸3来实现，从而达到了宽幅加热、宽幅连续供胶涂布，并且涂胶层厚度可任意调节的目的；由于胶池是立式，其中胶液自上而下连续供胶涂布，因此胶不会烤糊，也不会漏胶。
权利要求1.一种立式热熔胶箱，其特征在于包括立式胶池，胶池中侧面装胶轴，胶轴的上方装出胶闸，胶轴的下方装回胶闸，胶池与其上方的胶斗连接，胶池和胶斗中分别装加热装置。
专利摘要本实用新型公开了一种立式热熔胶箱,包括立式胶池,胶池中侧面装胶轴,胶轴的上方装出胶闸,胶轴的下方装回胶闸,胶池与其上方的胶斗连接,胶池和胶斗中分别装加热装置。本实用新型具有宽幅加热,宽幅供胶涂布幅面且不易漏胶、胶不糊。
文档编号B05C11/11GK2470016SQ0121786
公开日2002年1月9日 申请日期2001年3月12日 优先权日2001年3月12日
发明者佐佐木伟路 申请人:南通路捷机械有限公司