本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种保护涂料及制备方法、掩模板。
背景技术：
在tft-lcd技术领域，显示用基板主要包括阵列基板和彩膜基板，其中，彩膜基板主要包括彩色滤光片。目前的彩色滤光片主要通过曝光工艺制作而成，即通过掩模板对涂覆在基板上的负性光刻胶进行曝光处理，使位于曝光区域的负性光刻胶的物理性能发生变化，再经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，从而形成所需图案的彩色滤光片。
掩模板是曝光过程中最重要、也是成本最高的部件。然而，在曝光过程及掩模板搬运过程中，掩模板都有被异物污染划伤的风险，从而造成正常曝光图案的增加或缺失，影响产品品质。对掩模板进行返厂维修或更换，不仅会大大增加生产成本，也会严重影响生产线的产能。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种保护涂料及制备方法、掩模板。根据本发明的保护涂料经光固化在掩模板本体的表面形成保护涂层，该保护涂层的存在可有效抵抗在曝光过程中玻璃基板上的异物接触掩模板，对掩模板起重要保护作用，提高所制作产品的优良率。
根据本发明的一方面，提供一种保护涂料，所述保护涂料包括酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
所述酸酐选自有机酸酐，并具有式(i)的结构：
所述r选自c1-c6烷基、氟硅烷改性纳米二氧化硅和氟硅烷类中的至少一种；或者所述酸酐为环状酸酐。
所述氟硅烷类选自全氟烷基三氯硅烷和全氟烷基三烷基硅烷中的一种以上。
所述氟硅烷改性纳米二氧化硅中，氟硅烷选自氟改性甲基硅烷、氟改性乙基硅烷、氟改性乙氧基硅烷、氟改性环己烷基硅烷。
所述保护涂料还包括活性稀释剂、光引发剂、有机溶剂及助剂；且按重量计，相对于50-100份酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯，活性稀释剂为40-90份、光引发剂为4-10份、有机溶剂为15-50份，助剂为0.1-5份。
其中，所述助剂包括流平剂、消泡剂和抗氧化剂。
根据本发明的另一方面，还提供了一种保护涂料的制备方法，包括以下步骤：
(1)制备酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯；
(2)将步骤(1)得到的酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯与活性稀释剂、光引发剂、助剂混合，并溶于有机溶剂，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，制备酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯包括以下步骤：由异氰尿酸三缩水甘油酯和烯酸类进行加成酯化，得到异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯；然后用酸酐对异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯进行加成酯化，得到所述酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
根据本发明的另一方面，还提供了一种掩模板，包括掩模板本体、不透光层和保护涂层，所述保护涂层由根据本发明所述的保护涂料均匀涂覆于不透光层背离掩模板本体一侧，且保护涂料覆盖掩膜板本体和不透光层，并经光固化得到。
所述保护涂层的厚度为3～10μm。
根据本发明的保护涂料经光固化形成的保护涂层透明性能及耐黄变性能优异，不会影响掩模板的正常使用，同时涂层硬度可以达到7h，可以有效地保护掩模板本体，防止掩模板在搬运或者曝光使用的过程中被异物污染划伤。当利用低表面能的氟硅烷改性纳米二氧化硅对保护涂料进行修饰时，可以进一步提高保护涂层的稳定性，增加保护涂层的机械性能和耐污染性。
附图说明
图1为根据本发明的掩模板结构示意图；
其中，a-掩模板本体，b-不透光铬膜层，c-保护涂层，d-彩膜玻璃基板，e-透光区域，f-不透光区域。
具体实施方式
具体实施方式仅为对本发明的说明，而不构成对本发明内容的限制，下面将结合具体的实施方式对本发明进行进一步说明和描述。
本发明的目的是提供一种保护涂料及制备方法、掩模板。根据本发明的保护涂料经光固化在掩模板本体的表面形成保护涂层，该保护涂层的存在可有效抵抗在曝光过程中玻璃基板上的异物接触掩模板，对掩模板起重要保护作用，提高所制作产品的优良率。
根据本发明的一方面，提供一种保护涂料，所述保护涂料包括酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
所述酸酐选自有机酸酐，并具有式(i)的结构：
其中，r选自c1-c6烷基、氟硅烷改性纳米二氧化硅和氟硅烷类中的至少一种，优选具有低表面能的基团，进一步优选自氟硅烷改性纳米二氧化硅或氟硅烷类，从而提高保护涂层的稳定性和抗划伤特性，增加保护涂层的机械性能和耐污染性，降低保护涂层的表面能，提高其自净特性。
c1-c6烷基例如可以是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、正己基、异己基等。
此外，所述酸酐还可以为环状酸酐，具有式(i')的结构：
其中，r'选自c1-c6烷基、c1-c6烯基、苯甲酸基、环戊基、环己基，例如，所述酸酐可以是环戊烷-1,2-二甲酸酐、顺-环己烷-1,2-二羧酸酐、偏苯三酸酐或马来酸酐。
当r选自氟硅烷改性纳米二氧化硅时，可以进一步提高保护涂层的稳定性，增强保护涂层的机械性能和耐污染性。
所述氟硅烷改性纳米二氧化硅中，氟硅烷选自氟改性甲基硅烷、氟改性乙基硅烷、氟改性乙氧基硅烷、氟改性环己硅烷，例如三氟甲基三甲基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、三乙烷基(三氟甲基)硅烷。
所述氟硅烷类选自全氟烷基三氯硅烷和全氟烷基三烷基硅烷中的一种以上，例如，氯二甲基-3,3,3-三氟丙基硅烷、全氟十二烷基三氯硅烷、1h,1h,2h,2h-全氟辛基三氯硅烷、三氟甲基三甲基硅烷、(五氟乙基)三甲基硅烷中的一种、两种或多种。
氟硅烷类的特点为无色透明，不会对紫外光起遮蔽作用。
所述保护涂料还包括活性稀释剂、光引发剂、有机溶剂及助剂；且按重量计，相对于50-100份酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯，活性稀释剂为40-90份、光引发剂为4-10份、有机溶剂为15-50份，助剂为0.1-5份。
所述活性稀释剂选自乙二醇二缩水甘油醚、三缩丙二醇二丙烯酸酯、二丙烯酸-1,6-己二醇酯中的一种以上。
所述光引发剂选自苯偶酰及其衍生物、α-羟基酮衍生物、苯乙酮衍生物、苯偶姻及其衍生物、二苯甲酮及其衍生物中的一种以上。
所述有机溶剂选自丙酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、苯乙烯或乙烯乙二醇醚等中的一种以上。
所述助剂包括流平剂、消泡剂和抗氧化剂。
流平剂选自有机改性聚二甲基硅氧烷、聚醚聚酯改性有机硅氧烷、烷基改性有机硅氧烷中的一种以上。
消泡剂可以是聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚、聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷中的一种以上。
抗氧化剂可以是2,6-二特丁基-4-甲基酚、叔丁基对苯二酚、二丁基羟基甲苯中的一种以上。
根据本发明的另一方面，提供一种保护涂料的制备方法，包括以下步骤：
(1)制备酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯；
(2)将步骤(1)得到的酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯与活性稀释剂、光引发剂、助剂混合，并溶于有机溶剂，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，制备酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯包括以下步骤：(a)由异氰尿酸三缩水甘油酯和烯酸类在催化剂的作用下进行加成酯化，得到具有光活性基团的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯；(b)然后酸酐对异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯进行加成酯化，得到所述酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
步骤(a)的反应式为：
其中，r1＝h、ch3、c2h5，此时，烯酸类对应地为丙烯酸、丁烯酸、2-戊烯酸。
所述催化剂选自甲基苯磺酸、磷酸、三乙胺、三乙醇胺或n,n-二甲基环己胺中的一种以上。
异氰尿酸三缩水甘油酯、烯酸类、催化剂的摩尔比为1：(3.0～3.6)：(0.02～0.05)。
反应过程为：在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：(3.0～3.6)的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和烯酸类，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和烯酸类完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
步骤(b)的反应式为：
或者，
反应过程为：在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：(3.0～3.6)的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯。
根据本发明的另一方面，还提供了一种掩模板，包括掩模板本体、不透光层和保护涂层，所述保护涂层由根据本发明所述的保护涂料均匀涂覆于不透光层背离掩模板本体一侧，且保护涂料覆盖掩膜板本体和不透光层，并经光固化得到。
根据本发明的保护涂层的厚度为3～10μm。当保护涂层的厚度大于10μm时，会影响紫外光的透过率；当保护涂层的厚度小于3μm时，对掩模板的保护程度不够好。
所述不透光层例如为不透光铬膜层。
示例地，首先在掩模板本体a(例如硅衬底)上溅射cr/cro2，作为不透光铬膜层b，然后通过构图工艺形成不透光铬膜层b的图形，示例的，具体构图工艺为在不透光铬膜层b上涂覆一层光刻胶；接着，使用曝光设备对光刻胶进行曝光，进而利用显影形成光刻胶图案；然后，在cr/cro2层上使用干法刻蚀装置进行刻蚀，得到包括不透光铬膜层b的图案，接着进行清洗，并将根据本发明所述的保护涂料均匀涂覆于不透光铬膜层b背离掩模板本体a一侧，且保护涂料覆盖掩膜板本体和不透光铬膜层b，经紫外线曝光，在掩模板本体上形成保护涂层c，得到本发明的掩模板。
根据本发明的保护涂料经光固化形成的保护涂层透明性能及耐黄变性能优异，不会影响掩模板的正常使用，同时涂层硬度可以达到7h，可以有效地保护掩模板本体，防止掩模板在搬运或者曝光使用的过程中被异物污染划伤。当利用低表面能的氟硅烷改性纳米二氧化硅对保护涂料进行修饰时，可以进一步提高保护涂层的稳定性，增加保护涂层的机械性能和耐污染性。
实施例1
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(ii)所示。
保护涂料中包括55重量份的式(ii)化合物，还包括50重量份的乙二醇二缩水甘油醚、6重量份的苯偶酰、30重量份的丙酮、0.2重量份的有机改性聚二甲基硅氧烷、0.5重量份的聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、0.8重量份的2,6-二特丁基-4-甲基酚。
保护涂料的制备方法为：将式(ii)化合物与除丙酮之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(ii)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.05的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.1的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
实施例2
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(iii)所示。
保护涂料中包括100重量份的式(iii)化合物，还包括60重量份的乙二醇二缩水甘油醚、8重量份的α-羟基酮、20重量份的醋酸甲酯、0.4重量份的聚醚聚酯改性有机硅氧烷、0.2重量份的聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、0.6重量份的叔丁基对苯二酚。
保护涂料的制备方法为：将式(iii)化合物与除醋酸甲酯之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(iii)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.2的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.1的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
实施例3
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(iv)所示。
保护涂料中包括70重量份的式(iv)化合物，还包括90重量份的三缩丙二醇二丙烯酸酯、10重量份的苯乙酮、45重量份的苯乙烯、1.3重量份的烷基改性有机硅氧烷、0.3重量份的聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、0.1重量份的2,6-二特丁基-4-甲基酚。
保护涂料的制备方法为：将式(iv)化合物与除苯乙烯之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(iv)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.5的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和丁烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.3的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油丁烯酸酯。
实施例4
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(v)所示。
保护涂料中包括65重量份的式(v)化合物，还包括70重量份的二丙烯酸-1,6-己二醇酯、6重量份的苯偶酰、30重量份的乙烯乙二醇醚、0.2重量份的有机改性聚二甲基硅氧烷、0.5重量份的聚氧丙烯甘油醚、0.8重量份的二丁基羟基甲苯。
保护涂料的制备方法为：将式(v)化合物与除乙烯乙二醇醚之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(v)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.3的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.1的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
实施例5
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(vi)所示。
保护涂料中包括50重量份的式(vi)化合物，还包括85重量份的乙二醇二缩水甘油醚、9重量份的苯偶姻、15重量份的醋酸乙酯、0.8重量份的有机改性聚二甲基硅氧烷、0.4重量份的聚二甲基硅氧烷、0.2重量份的二丁基羟基甲苯。
保护涂料的制备方法为：将式(vi)化合物与除醋酸乙酯之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(vi)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.2的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.5的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
实施例6
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(vii)所示。
保护涂料中包括80重量份的式(vii)化合物，还包括75重量份的二丙烯酸-1,6-己二醇酯、4重量份的二苯甲酮、50重量份的苯乙烯、1.2重量份的有机改性聚二甲基硅氧烷、0.8重量份的聚醚聚酯改性有机硅氧烷、0.3重量份的2,6-二特丁基-4-甲基酚。
保护涂料的制备方法为：将式(vii)化合物与除苯乙烯之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(vii)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.1的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和丙烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和丙烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油丙烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.3的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油丙烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油丙烯酸酯。
实施例7
本实施例中的保护涂料中，酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油烯酸酯的具体结构如式(viii)所示(其中，namosio2表示纳米二氧化硅)。
保护涂料中包括90重量份的式(viii)化合物，还包括40重量份的二丙烯酸-1,6-己二醇酯、5重量份的α-羟基酮、25重量份的醋酸甲酯、1.5重量份的烷基改性有机硅氧烷、0.6重量份的聚氧丙烯甘油醚、0.5重量份的叔丁基对苯二酚。
保护涂料的制备方法为：将式(viii)化合物与除醋酸甲酯之外的其它成分混合，然后溶于丙酮中，混合均匀，得到所述保护涂料。
其中，式(viii)所示化合物的制备方法为：
(a)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.4的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸，加入溶剂丙酮，同时加入适量的阻聚剂对苯二酚。升温到90℃，待异氰尿酸三缩水甘油酯和2-戊烯酸完全溶解后，升温到100℃，开动搅拌器，同时加入催化剂三乙胺，反应4h，得到异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
(b)在装有顶置式搅拌器、温度计、球形冷凝管装置的四颈烧瓶中，按1：3.2的摩尔比加入异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯和酸酐，升温到95～115℃，反应30min，然后加入一定量的丙酮做溶剂降黏，继续反应90min，加入一定量的活性稀释剂，调节体系粘度，冷却出料，得到酸酐改性的异氰尿酸三缩水甘油戊烯酸酯。
如图1所示，根据本发明的掩模板包括掩模板本体a、不透光铬膜层b和保护涂层c。所述掩模板本体包括透光区域e和不透光区域f。其制备过程为：首先在掩模板本体a(例如硅衬底)上溅射cr/cro2，作为不透光铬膜层b，然后在不透光铬膜层b上涂覆一层光刻胶；接着，使用激光光刻设备在光刻胶表面形成图案，并在显影之后去除被曝光的部分，而形成光刻胶图案；然后，在cr/cro2层上使用干法刻蚀装置进行刻蚀，得到掩模板本体，接着进行清洗，并将根据本发明所述的保护涂料均匀涂覆于掩模板本体的不透光铬膜层b，经紫外线曝光，在掩模板本体的不透光铬膜层b上形成保护涂层c，得到根据本发明的掩模板。
本发明提供的掩模板可用于制作彩膜基板的黑矩阵和彩色滤光片(包括红、绿、蓝三种颜色的彩色滤光片)。具体地，首先在基板上形成一层所需颜色的光阻材料，而后使掩模板与基板进行对位，并使两者间的距离在100-400微米范围内，对位成功后进行曝光，而后经显影、烘烤后得到所需要的图形。
例如，当采用上述的掩模板制作彩膜基板的黑矩阵时，曝光设备位于掩模板本体a的上方，不透光铬膜层b位于掩模板本体a的出光侧，保护涂层c位于不透光铬膜层b上，彩膜玻璃基板d位于保护涂层c的下方。曝光时，紫外光从曝光设备中发出，经过掩模板本体a的透光区域e照射到彩膜玻璃基板d上的光阻材料，而后再经过显影和烘烤即得到所需图案的黑矩阵。在上述曝光的过程中，当彩膜玻璃基板d上存在异物时，通过该保护涂层c可以起到对掩模板本体a的保护作用，从而防止对掩模板本体造成损伤，避免影响所制作产品的优良率。
对涂覆了本发明实施例1～7的保护涂料而得到的掩模板1～7进行稳定性、抗划伤性能和耐污染性能的测试。
1、稳定性测试方法及结果
将掩模板1～7经强度为40～50mj/cm2的紫外光连续照射480h后，保护涂层的颜色、保护涂层在掩模板上的状态均未发生变化。
2、抗划伤性能测试方法及结果
根据国家标准“涂膜硬度铅笔测试法”gb/t6739-2006对掩模板上涂覆的保护涂层的硬度进行表征，从而表征保护涂层的抗划伤性能。
测试结果显示保护涂层的硬度均可达到7h。
3、耐污染性能测试方法及结果
按照gb/t22237-2008，对保护涂层的表面张力进行测量表征，表面张力越低，耐污染性能越好。
测量结果：7个实施例中的保护涂层的表面张力依次为31.4mn/m、30.3mn/m、28.6mn/m、27.9mn/m、28.1mn/m、24.5mn/m、23.8mn/m。
由此可见，根据本发明的保护涂料形成的保护涂层均具有较低的表面张力，耐污染性能良好。且通过利用低表面能的氟硅烷类或氟硅烷改性纳米二氧化硅对保护涂料进行修饰(如实施例6、7所示)，可以进一步提高保护涂层的稳定性，增加保护涂层的机械性能和耐污染性。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。