一种高世代平板用ITO蚀刻液的制作方法

文档序号:19418073发布日期:2019-12-14 01:08阅读:411来源:国知局

本发明属于蚀刻液制备技术领域,具体为一种高世代平板用ito蚀刻液。



背景技术:

高世代平板是经过高世代生产线生产出的液晶面板,高世代线主要生产32英寸以上的大尺寸液晶面板,一般高世代线界定为六代线及以上,代线,是指玻璃基板的尺寸,代线越大,面板的面积越大,就可以切出小液晶面板的数量越多。铟锡氧化物(ito)导电膜具有电阻率低,透光性好,高温稳定性好及制备和图形加工工艺简单等诸多优点,是一种理想的透明电极材料,被广泛应用于lcd、pdp、fed、oled/pled等平板显示器上作为透明电极。

现有行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸/硝酸混合水溶液、盐酸/三氯化铁水溶液、碘酸水溶液、磷酸水溶液等,这些蚀刻液腐蚀能力强,在试剂蚀刻过程中,往往难以控制蚀刻角度和蚀刻时间,对操作人员和客户端设备的危险性也较高。并且,以上蚀刻液的制备工艺较为复杂。



技术实现要素:

本发明的目的在于:为了解决现有行业用的蚀刻液使用时不好控制蚀刻角度时间的问题,提供一种高世代平板用ito蚀刻液。

本发明采用的技术方案如下:

一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

其中,所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水。

其中,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾。

其中,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm。

其中,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

其中,所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

其中,所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂。

其中,所述过滤器的过滤孔径为0.1~0.5μm。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本发明的有益效果是:

1、本发明中,在现有盐酸、醋酸和纯水混合而成的ito蚀刻液的基础上,加入添加剂盐酸钾,再经本发明中的制备工艺混合均匀而成的ito蚀刻液,与现有ito蚀刻液相比,单一性强,不仅蚀刻铟锡氧化物半导体透明导电膜速率适中,反应稳定,无残留,形成的蚀刻角度在40~60度之间,基本无侧蚀现象,而且对设备和人员均无影响。

2、本发明中,ito蚀刻液在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣;有效抑制有效起泡,没有大量泡沫产生;能够在温和的工作条件下对无定形ito膜高效且高精度地进行蚀刻;并且工艺操作十分方便、易于控制。

3、本发明中,通过添加表面活性剂,解决了蚀刻ito过程中出现酸雾挥发、蚀刻表面温度升高进而出现酸分解的问题,提高了蚀刻液工作稳定性,蚀刻线路边缘清晰。

4、本发明中,ito蚀刻液配方简单,制备工艺不复杂,且工艺流程更加可控,同时使用时较现有使用蚀刻液更加安全,蚀刻效果好,比行业现使用的ito蚀刻液有了极大的改观。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例一,一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

实施例二,一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂。

实施例三,一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂,所述过滤器的过滤孔径为0.1~0.5μm。

实施例四,一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂,所述过滤器的过滤孔径为0.1~0.5μm,所述上述制备方法中,步骤1、3、4中的搅拌均是在常温常压环境下进行,搅拌速度90~105转/min,所述步骤5中进行混合时,搅拌速度60~75转/min。

实施例五,一种高世代平板用ito蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂,所述上述制备方法中,步骤1、3、4中的搅拌均是在常温常压环境下进行,搅拌速度90~105转/min,所述步骤5中进行混合时,搅拌速度60~75转/min,所述步骤5中使用过滤器进行过滤时,采用两级过滤,第一级过滤选用孔径0.5μm过滤膜进行过滤,第二级过滤选用0.2μm过滤膜进行过滤。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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