一种高世代平板用ITO蚀刻液的制作方法

文档序号:19418073发布日期:2019-12-14 01:08阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量。

2.如权利要求1所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水。

3.如权利要求2所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾。

4.如权利要求2所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm。

5.如权利要求3所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。

6.如权利要求1所述的一种高世代平板用ito蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1:将强酸型阳离子交换树脂分别加入盐酸和醋酸中,搅拌均匀后静置15~20min,然后滤出强酸型阳离子交换树脂;

步骤2:称取上述重量比的处理后的盐酸和醋酸以及金属盐、表面活性剂、消泡剂和水;

步骤3:将盐酸加入到配料罐中,边搅拌边加入醋酸,然后加入一半分量的水,不断搅拌;

步骤4:将表面活性剂和消泡剂分别与剩余分量的水进行搅拌;

步骤5:将步骤3和步骤4的混合物再进行混合,混合后使用过滤器进行过滤,即得到ito蚀刻液。

7.如权利要求6所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述强酸型阳离子交换树脂选用强酸型苯乙烯系阳离子交换树脂。

8.如权利要求6所述的一种高世代平板用ito蚀刻液,其特征在于,所述过滤器的过滤孔径为0.1~0.5μm。


技术总结
本发明公开了一种高世代平板用ITO蚀刻液,包括盐酸、醋酸、金属盐,表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成,所述各原料重量比为:盐酸10~30%,醋酸1~10%,金属盐0.1~1%,表面活性剂0.05~0.5%,消泡剂0.1~1%,水余量,所述各原料重量比为:盐酸22%,醋酸7%,金属盐0.5%,表面活性剂0.2%,消泡剂0.07%,余量的水,所述金属盐使用碱性金属盐,碱金属盐使用盐酸钾,所述水使用纯水,水中杂质离子不超过100ppm所述盐酸浓度为35%,醋酸浓度为90%,盐酸钾纯度为98%。本发明中,ITO蚀刻液在蚀刻过程中完全不产生蚀刻残渣;有效抑制有效起泡,没有大量泡沫产生;能够在温和的工作条件下对无定形ITO膜高效且高精度地进行蚀刻;并且工艺操作十分方便、易于控制。

技术研发人员:梁小朝;连杰;姚浩川;黄德新
受保护的技术使用者:合肥中聚合臣电子材料有限公司
技术研发日:2019.08.22
技术公布日:2019.12.13
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