孔以依次穿过覆盖栅电极313的层间绝缘膜 314和栅极绝缘膜312。
[0134] 在设置有源电极315和漏电极316的第一基板301的整个表面上形成钝化层317， 并且在钝化层317中形成暴露出漏电极316的第二接触孔。暴露出的漏电极316电连接至 在钝化层317上形成的连接电极318。在设置有薄膜晶体管TFT的第一基板301的整个表 面上形成平坦化膜319,并且在平坦化膜319中形成暴露出连接电极318的第三接触孔。
[0135] 有机发光元件0L(其通过在平坦化膜319中形成的第三接触孔电连接至薄膜晶体 管TFT)形成在第一基板301上。有机发光元件0L包括下电极320、有机发光层322和上电 极 323。
[0136] 更具体地，电连接至连接电极318的下电极320形成在平坦化膜319上。虽然图3 中所示的有机发光元件0L的下电极320通过连接电极318电连接至薄膜晶体管TFT的漏 电极315,但是可从OLED面板300中移除连接电极318。在这种情况下，有机发光元件OL的下电极320可以以这样的方式形成在平坦化膜319上，使得通过平坦化膜319中形成的 接触孔直接接触薄膜晶体管TFT的漏电极315。同样地。也可从0LED面板300中移除钝化 层 317。
[0137] 以像素区尺寸暴露出下电极320的堤坝图案（bankpattern)321形成在设置有下 电极320的平坦化膜319上。有机发光层322形成在暴露出的下电极320上。有机发光层 322可以是由发光材料形成的单层。或者，有机发光层可具有多层结构，例如具有空穴注入 层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层和电子注入层。
[0138] 上电极323形成在有机发光层322上。如果将下电极320用作阳极电极，则上电 极323应作为阴极电极。另一方面，当将下电极320用作阴极电极时，上电极323应用作阳 极电极。
[0139] 密封件形成在设置有薄膜晶体管TFT和有机发光元件的第一基板301上。例如， 密封件可构造为具有密封层324和第二基板302。在这种情况下，用于保护显示元件（即有 机发光元件0L)的密封层324形成在设置有上电极323的第一基板301的整个表面上。密 封层324可以以多层结构形成。第二基板302可与密封层324组合。第二基板302可以是 用于封装第一基板301的密封基板。然而，设置在第一基板301上的密封件不限于如图3 所示的密封层324与第二基板302的组合。换言之，本领域技术人员已知的各种不同密封 件都可用于防止氧、湿气等的侵入或者使其最小化。
[0140] 根据本发明的显示装置的构造不限于附图中示出的构造。换言之，本领域技术人 员应理解，可对根据本发明实施方案的显示装置可进行各种修改和改变。
[0141] 现将参照图4对根据本发明第二实施方案的显示装置进行描述。图4是说明根据 本发明第二实施方案的显示装置的横截面视图。
[0142] 根据本公开第二实施方案的显示装置可具有与第一实施方案的显示装置相同或 相似的构造，部分有变化。因此，将省略第二实施方案与第一实施方案相同或相似的说明。 而且，第二实施方案中与第一实施方案具有相同或相似功能和形状的组件将以相同的附图 标记和名称表示。
[0143] 参照图4,根据本发明第二实施方案的显示装置在显示面板300与硬涂层100之间 包括基础基板200。详细地，基础基板200形成在显示面板300上，并且硬涂层100形成在 基础基板200上。硬涂层100可通过对基础基板200的上表面进行涂覆工艺来制备。硬涂 层100和显不面板300可与第一实施方案的那些相同。
[0144] 基础基板200可以是偏振板。例如，基础基板200可以是线性偏振板或外部光抗 反射型偏振板。如果显示面板300是IXD面板，则基础基板200可以为线性偏振板。或者， 当显示装置是0LED面板时，基础基板200可以为外部光抗反射型偏振板。
[0145] 虽然如图4所示，基础基板200设置在显示面板300上，但是当基础基板200是偏 振板时，基础基板200也可设置在显示面板300的上表面和下表面二者上。例如，当显示面 板300是LCD面板时，线性偏振板的基础基板200可设置在显示面板300的上表面和下表 面二者上。在这种情况下，硬涂层100可形成在设置在显示面板300上表面上的基础基板 200 上。
[0146] 或者，基础基板200可以是透明基板。因此，在无任何偏振时光可以穿过基础基板 200。在这种情况下，基础基板200可由玻璃材料或塑料材料形成。例如，基础基板200可由 选自包括以下的材料组中的任意一种形成：玻璃、纤维素脂（例如三乙酸纤维素、丙酸纤维 素、丁酸纤维素、乙酸丙酸纤维素和硝化纤维素）、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚酯（例如聚对苯 二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚-1，4-对苯二甲酸环己烷二甲酯、聚1，2-二苯氧 乙烷-4,4'-二羧酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯）、聚苯乙烯（例如间规聚苯乙烯）、 聚烯烃（例如聚丙烯、聚乙烯和聚甲基戊烯）、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、聚醚酰亚胺、聚甲基丙 烯酸甲酯、聚醚酮、聚乙烯醇和聚乙烯醇。然而，基础基板200的类型不限于这些实例。换 言之，各种不同的基板或膜可用作基础基板200,只要其不显著破坏透明度即可。
[0147] 虽然附图中未示出，但是如果在无偏振的情况下将基础基板200用作透明基板， 则可在基础基板200的两个表面上形成硬涂层100。在基础基板200的两个表面上形成的 硬涂层100的反射率可小于约4%。
[0148] 现将参照图5至图7对本发明第三实施方案的显示装置进行描述。图5是说明根 据本发明第三实施方案的显示装置的横截面视图。图6和图7是说明根据本发明第三实施 方案的显示装置的触摸面板的视图。
[0149] 根据本公开第三实施方案的显示装置可具有与第一和第二实施方案的那些相同 或相似的构造，部分有变化。因此，将省略第三实施方案与第一和第二实施方案相同或相似 的说明。而且，第三实施方案中与第一和第二实施方案具有相同或相似功能和形状的组件 将由相同的附图标记和名称来指示。
[0150] 参照图5,根据本公开第三实施方案的显示装置包括显示面板300和设置在显示 面板300上的触摸面板400。而且，显示装置包括设置在触摸面板400上的基础基板200。 换言之，触摸面板400可设置在基础基板200与显示面板300之间。
[0151] 如图5所示，触摸面板400可以以这种方式制备，以与基础基板200和显示面板 300隔开。然而，触摸面板400可与基础基板200结合形成单一本体。或者，触摸面板400 可与显示面板300结合形成单一本体。换言之，触摸面板400可以是外挂式（add-ontype) 触摸面板400。
[0152] 或者，触摸面板400可以是集成式触摸面板400。如果触摸面板400是外挂式触摸 面板400,则触摸面板400以这样的方式制备，以与显示面板300隔开。在这种情况下，可在 触摸面板400与显示面板300之间形成透明的粘合层。
[0153] 在这种情况下，触摸面板400可以这种方式制备，以与基础基板200隔开或与基础 基板200结合。如果触摸面板400和基础基板200彼此隔开，则在基础基板200与触摸面 板400之间可形成另一个透明的粘合层。在另一方面，当触摸面板400与基础基板200以 单一本体结合时，可在基础基板200的后表面上形成感测电极等。在这种情况下，不需要在 基础基板200与触摸面板400之间形成附加的粘合层。
[0154] 当触摸面板400是集成式触摸面板400时，触摸面板400可与显示面板300结合 形成单一本体。在这种情况下，不需要在显示面板300与触摸面板400之间插入任何粘合 层。
[0155] 触摸面板400可形成为外嵌式（on-cell)和内嵌式（in-cell)中的一个。
[0156] 如果触摸面板400是外嵌式，则感测电极等可形成在显示面板300的上表面上。详 细地，感测电极等可直接形成在显示面板300的上基板上。而且，触摸面板400可以以这种 方式形成，以与基础基板200隔开，如外挂式触摸面板400-样。或者，外嵌式触摸面板400 可与基础基板200结合形成单一本体。
[0157] 当触摸面板400是内嵌式时，感测电极等可形成在显示面板300的第一基板与第 二基板之间。换言之，当显示元件形成在显示面板300中时，可形成感测电极等。在这种情 况下，基础基板200可以以这种方式制备，以与触摸面板400隔开，并且透明的粘合层也可 形成在基础基板200与显示面板300之间。
[0158] 将参照图6和图7对触摸面板400进行详细地说明。图6和图7示出了与基础基 板200隔开的外挂式触摸面板的实例。然而，本发明的触摸面板400不限于图6和图7所 示的构造。换言之，触摸面板的其他类型，包括上述外挂式和集成式，可应用于图6和图7 所示的触摸面板。
[0159] 参照图6和图7,触摸面板400可各自限定到透光的显示区AA和拦截光的非显示 区中。显示区AA用于通过用户接触接收输入。与显示区AA不同，非显示区IA可不用于接 收输入，原因在于其不能通过用户接触来激活。
[0160] 如图6所不，触摸面板400可包括布置在触摸基板401 -个表面上的扫描线420 和感测电极410。触摸基板401可以是回火玻璃、热强化玻璃、钠钙玻璃、增强塑料和弹性塑 料中的一种，但是并不限于这些实例。
[0161] 感测电极4110布置在显示区AA上，并且扫描线420布置在非显示区IA上