陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于陶瓷薄膜耐磨损技术领域，涉及一种陶瓷薄膜的耐摩擦磨损检测装置，特别是一种陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构。
【背景技术】
[0002]陶瓷薄膜是采用特殊的薄膜工艺技术(如真空蒸发、溅射工艺等)将陶瓷材料做成厚度仅为微米级的薄膜，所制成的薄膜器件用于集成电路、半导体电路技术中。BaTi03，PbTi03，PLZT和Bi4Ti3012等薄膜用于制造大容量薄膜电容器、电光器件、红外探测器和铁电显示器件等。
[0003]常见的陶瓷薄膜有高介电常数的钛酸钡薄膜、钛酸铅薄膜。可用于制造大容量的薄膜电容器。掺镧的锶钡钛酸盐薄膜，可制成热敏电阻辐射热测量器。铌酸锶钡薄膜，可制成热释电探测器；钛酸铋薄膜，可制成铁电显示器。钇钡铜氧薄膜，可制成超导体用。氧化铝薄膜、氧化锆薄膜、氧化钛薄膜，可作为固-液分离膜使用。
[0004]陶瓷膜是以无机陶瓷材料经特殊工艺制备而成的非对称膜，呈管状或多通道状，管壁密布微孔，在压力作用下，原料液在膜管内或膜外侧流动，小分子物质(或液体)透过膜，大分子物质(或固体颗粒、液体液滴)被膜截留从而达到分离、浓缩和纯化的目的。
[0005]陶瓷膜耐高温，化学特性比较稳定，在条件要求比较苛刻的情况下依然能保持很好的性能，陶瓷薄膜经常应用于电容器、电光器件、红外探测器和铁电显示器件等精密仪器技术领域，所述领域对陶瓷薄膜的耐磨损性同样具有严格的要求，现有技术中，还没有专门针对陶瓷薄膜的耐磨性能进行检测的专用的设备，导致陶瓷薄膜的耐磨损检测存在严重的不足。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种通过大调结构与微调结构的结合，以达到高度的精准调节，实现确保磨损实验一致性的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构。
[0007]本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现:陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，位于平台的旁侧，其包括伸缩台，所述伸缩台包括位于下部的静台和位于上部的动台，所述静台内设置升降气缸，所述升降气缸朝上伸出升降杆，所述升降杆的顶端连接上述动台，所述动台的顶端设置转动轴承，所述动台包括内筒和外筒，所述内筒与外筒通过螺纹连接，所述动台的上方设有往复驱动机构，所述往复驱动机构包括液压缸，所述液压缸的底部与上述转动轴承的端面连接。
[0008]本陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，在伸缩台调节高度时，首先控制升降气缸伸缩其升降杆，以带动动台进行高度大调，而后旋拧外筒与内筒之间的螺纹圈，以带动动台进行高度微调。
[0009]在上述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构中，所述静台的顶面上具有内凹槽，所述动台的底面能够嵌入上述内凹槽中。通过内凹槽设置，达成动台与静台的吻合匹配，以消除两者接触面因粗糙度导致调节误差，提升调节精准度。
[0010]在上述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构中，所述往复驱动机构中设置水平显示仪，所述水平显示仪包括透明玻璃管，所述透明玻璃管内充满液油，所述液油中漂浮有显示铅球，所述透明玻璃管上还设置有刻度，所述刻度的中间点为零值。在伸缩台进行高度调节时，随时观测水平显示仪中显示铅球的运动位置，直至显示铅球静止于刻度的零值表明达到水平位置。
[0011]在上述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构中，所述伸缩台的下方设置支撑柜，所述静台固定在支撑柜上，所述支撑柜的底端设有万向轮。
[0012]与现有技术相比，本陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构通过气缸升降动作进行大调，通过螺纹旋拧进行微调，并配合水平显示仪确保水平状态，实现高精度的水平高度调节，使该陶瓷薄膜的磨损检测装置结构简单，具有操作方便、快速直观的特点，能够准确的监测陶瓷薄膜的耐摩擦磨损程度。
【附图说明】
[0013]图1是本陶瓷薄膜耐磨损检测装置的整体结构示意图。
[0014]图2是伸缩台结构示意图。
[0015]图中，1、平台；2、压板；3、液压杆；4、液压缸；5、驱动机构；6、摩擦板；7、支撑柜；8、毛刷板；9、驱动机构控制按钮；10、伸缩台；11、万向轮；12、静台；13、动台；14、升降杆；
15、转动轴承。
【具体实施方式】
[0016]以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。
[0017]如图1-2所示，陶瓷薄膜的耐磨损检测装置，包括平台1，平台I的上端面覆有一层设有凹凸花纹的摩擦板6，平台I的一端设有驱动机构5，驱动机构5的下方设有支撑柜7，支撑柜7上设有驱动机构控制按钮9，支撑柜7的下端面与平台I的下端面位于同一水平面上，驱动机构5包括高度调节机构和往复驱动机构，高度调节机构包括伸缩台10，伸缩台10的下端位于支撑柜7上，伸缩台10的上端设有液压缸4，液压缸4上连有液压杆3，液压杆3沿横向呈水平设置，液压杆3的末端连接压板2，压板2的下端面设有一层毛刷板8，毛刷板8的毛部朝向摩擦板6的一侧。
[0018]液压杆3上设置有水平显示仪，水平显示仪包括透明玻璃管，透明玻璃管内充满液油，液油中漂浮有显示铅球，透明玻璃管上还设置有刻度，刻度的中间点为零值。
[0019]伸缩台10包括位于下部的静台12和位于上部的动台13，静台12内设置升降气缸，升降气缸朝上伸出升降杆14，升降杆14的顶端连接上述动台13，动台13的顶端设置转动轴承15，动台13包括内筒和外筒，内筒与外筒通过螺纹连接。
[0020]平台I与支撑柜7的底端均设有万向轮11。可以根据检测工作的需要，方便的移动该陶瓷薄膜的耐磨损检测装置，使检测工作不受场地的限制。
[0021]摩擦板6的厚度为2.0cm?3.0cm。
[0022]陶瓷薄膜的耐磨损检测方法，采用如上所述的陶瓷薄膜的耐磨损检测装置，具体包括以下步骤:
[0023]步骤一:检查摩擦板6是否铺设平整，毛刷板8是否完好，将待测陶瓷薄膜平整的铺设在摩擦板6上，调节伸缩台10的高度，使毛刷板8的毛部与陶瓷薄膜充分接触；
[0024]步骤二:启动驱动机构控制按钮9，液压缸4与液压杆3带动压板2在平台I的上方做往复运动，毛刷板8与摩擦板6相配合，对陶瓷薄膜进行充分的模拟摩擦过程；
[0025]步骤三:待模拟摩擦过程结束后，关闭驱动机构控制按钮9，取下陶瓷薄膜，检验陶瓷薄膜的磨损程度。
[0026]伸缩台10调节高度时，首先控制升降气缸伸缩其升降杆，以带动动台13进行高度大调，而后旋拧外筒与内筒之间的螺纹圈，以带动动台13进行高度微调。
[0027]在伸缩台10进行高度调节时，随时观测水平显示仪中显示铅球的运动位置，直至显示铅球静止于刻度的零值表明达到水平位置。
[0028]模拟摩擦过程的时间为I小时以上。
[0029]本实用新型通过模拟摩擦过程，使用液压缸4驱动液压杆3进而带动压板2做往复运动，压板2下端面的毛刷板8的毛部与摩擦板之间形成摩擦环境实现对陶瓷薄膜的摩擦，该陶瓷薄膜的耐磨损检测装置结构简单，具有操作方便、快速直观的特点，能够准确的监测陶瓷薄膜的耐摩擦磨损程度。
[0030]本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
[0031]尽管本文较多地使用了平台1、压板2、液压杆3、液压缸4、驱动机构5、摩擦板6、支撑柜7、毛刷板8、驱动机构控制按钮9、伸缩台10、万向轮11、静台12、动台13、升降杆14、转动轴承15等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是与本实用新型精神相违背的。
【主权项】
1.陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，位于平台的旁侧，其包括伸缩台，其特征在于，所述伸缩台包括位于下部的静台和位于上部的动台，所述静台内设置升降气缸，所述升降气缸朝上伸出升降杆，所述升降杆的顶端连接上述动台，所述动台的顶端设置转动轴承，所述动台包括内筒和外筒，所述内筒与外筒通过螺纹连接，所述动台的上方设有往复驱动机构，所述往复驱动机构包括液压缸，所述液压缸的底部与上述转动轴承的端面连接。2.根据权利要求1所述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，其特征在于，所述静台的顶面上具有内凹槽，所述动台的底面能够嵌入上述内凹槽中。3.根据权利要求1所述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，其特征在于，所述往复驱动机构中设置水平显示仪，所述水平显示仪包括透明玻璃管，所述透明玻璃管内充满液油，所述液油中漂浮有显示铅球，所述透明玻璃管上还设置有刻度，所述刻度的中间点为零值。4.根据权利要求1所述的陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构，其特征在于，所述伸缩台的下方设置支撑柜，所述静台固定在支撑柜上，所述支撑柜的底端设有万向轮。
【专利摘要】本实用新型提供了一种陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构。它解决了现有高度调节不精准，且难以达到平衡的问题。本陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构位于平台的旁侧，其包括伸缩台，伸缩台包括位于下部的静台和位于上部的动台，静台内设置升降气缸，升降气缸朝上伸出升降杆，升降杆的顶端连接动台，动台的顶端设置转动轴承，动台包括内筒和外筒，内筒与外筒通过螺纹连接，动台的上方设有往复驱动机构，往复驱动机构包括液压缸，液压缸的底部与转动轴承的端面连接。本陶瓷薄膜耐磨损检测装置的高度调节机构通过大调与微调相结合，并配合水平显示仪确保水平状态，实现高精度的水平高度调节。
【IPC分类】B66F7/08, B66F7/14
【公开号】CN204938842
【申请号】CN201520744351
【发明人】李莉平
【申请人】嘉兴职业技术学院
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年9月24日