真空干燥装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空干燥装置。
【背景技术】
[0002]在显示面板的制造领域，黄光制程中一般将表面涂布有光阻的基板置于真空干燥装置中，使基板表面光阻中的有机溶剂挥发而使光阻干燥，但这种干燥方法存在以下缺占.V.
[0003](I)由于四周气流的影响导致基板四边的光阻中的有机溶剂挥发速度比基板面内的有机溶剂的挥发速度快；
[0004](2)从利用真空干燥装置(VacuumDry，VCD)对反应腔室抽气至最低压力50Pa时起，到反应腔室内的压力还原成大气压力的过程中，会由于进入反应腔室内的气流形成涡流而在基板中央产生Mura(显示器亮度不均匀，造成各种痕迹的现象)等不良。
[0005]请参阅图1，为一种现有的真空干燥装置的剖面结构示意图，所述真空干燥装置主要包括反应腔室100、设于反应腔室100内部的承载平台200。承载平台200设于反应腔室100内部的下方，用于承载表面涂布有光阻900的基板800，所述光阻900内含有有机溶剂。反应腔室100底部两端设有数个第一管路110，用于抽取反应腔室100内部的气体。反应腔室100底部中间设有数个第二管路120，用于向反应腔室100内部填充氮气或干燥空气，使反应腔室100内的压力达到大气压。
[0006]在利用上述真空干燥装置干燥光阻900时，由于气流从下到上，气流从反应腔室100周边向反应腔室100内部扩散，当到达反应腔室100中心位置时，气流相互碰撞而形成气流旋，即涡流，因涡流压力较大而导致对尚未干燥的光阻有影响，进而会形成Mura，即在进行光阻干燥时，反应腔室100内部未能形成均匀气体流场，因此导致基板中央容易产生Mura等不良。
【发明内容】
[0007]本发明的目的在于提供一种真空干燥装置，可保证基板表面光阻干燥的均匀性，避免在基板表面产生Mura等不良。
[0008]为实现上述目的，本发明提供一种真空干燥装置，包括反应腔室、及设于所述反应腔室内部的承载平台；
[0009]所述承载平台设于所述反应腔室内部的下方，用于承载表面涂布有光阻的基板；所述光阻内含有有机溶剂；
[0010]所述反应腔室顶部设有第一管路，所述第一管路与所述反应腔室的外部相连通，用于抽取所述反应腔室内部的气体或向所述反应腔室内部填充气体；
[0011]所述反应腔室内部的上方设有数个相互平行的第二管路，所述第二管路与所述反应腔室内部的上表面之间留有空隙，用于保证所述反应腔室内部各个位置的蒸汽压相同。
[0012]所述反应腔室与一抽真空装置相连通，通过所述第一管路抽取所述反应腔室内部的气体。
[0013]所述反应腔室与一气体填充装置相连通，通过所述第一管路向所述反应腔室内部填充氮气或干燥空气。
[0014]所述第一管路位于所述反应腔室顶部的中间位置。
[0015]所述第二管路的尺寸小于所述第一管路的尺寸。
[0016]所述第二管路呈蜂窝状分布。
[0017]所述承载平台包括位于底部的数个支撑部、设于所述数个支撑部上的承载部、及设于所述承载部表面的数个接触部。
[0018]所述数个支撑部穿过所述反应腔室的底部延伸至所述反应腔室外部；所述数个支撑部的长度可伸缩。
[0019]所述基板为玻璃基板。
[0020]所述有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
[0021]本发明的有益效果:本发明的真空干燥装置，在反应腔室顶部设有第一管路，所述第一管路与反应腔室的外部相连通，用于抽取反应腔室内部的气体或向所述反应腔室内部填充气体；在反应腔室内部的上方设有数个相互平行的第二管路，所述第二管路与反应腔室内部的上表面之间留有空隙，可保证反应腔室内部各个位置的蒸汽压相同，形成有利于光阻干燥的稳定均匀的气体流场，进而保证基板表面光阻内的有机溶剂的挥发速度相同，最终保证基板表面光阻干燥的均匀性，避免了利用现有真空干燥装置干燥光阻时，容易在基板表面产生Mura的问题，有效提升产品良率。
【附图说明】
[0022]为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
[0023]附图中，
[0024]图1为一种现有的真空干燥装置的剖面结构示意图；
[0025]图2为本发明的真空干燥装置的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0026]为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0027]请参阅图2，本发明提供一种真空干燥装置，包括反应腔室1、及设于所述反应腔室I内部的承载平台2。
[0028]具体的，所述承载平台2设于所述反应腔室I内部的下方，用于承载表面涂布有光阻9的基板8 ;所述光阻9内含有有机溶剂。
[0029]所述反应腔室I顶部设有第一管路11，所述第一管路11与所述反应腔室I的外部相连通，用于抽取所述反应腔室I内部的气体或向所述反应腔室I内部填充气体；所述反应腔室I内部的上方设有数个相互平行的第二管路12，所述第二管路12与所述反应腔室I内部的上表面之间留有空隙，用于保证所述反应腔室I内部各个位置的蒸汽压相同。
[0030]具体的，所述反应腔室I与一抽真空装置(未图示)相连通，可通过所述第一管路11抽取所述反应腔室I内部的气体，以使所述反应腔室I内部的压力降低至需要的值。所述反应腔室I还与一气体填充装置(未图示)相连通，可通过所述第一管路11向所述反应腔室I内部填充氮气或干燥空气，以增加所述反应腔室I内部的压力，使反应腔室I内部的压力达到需要的值如标准大气压。
[0031]具体的，所述第一管路11位于所述反应腔室I顶部的中间位置，所述第二管路12的尺寸小于所述第一管路11的尺寸，且所述第二管路12呈蜂窝状分布。从所述反应腔室I抽取气体或向所述反应腔室I内填充气体均通过所述第一管路11进行，并且无论是气体从反应腔室I被抽出还是被填充至反应腔室1，气体均会经过所述蜂窝状的第二管路12，这样便可保证反应腔室I内部各个位置的蒸汽压相同，形成有利于光阻干燥的稳定均匀的气体流场，进而保证基板8表面光阻9内的有机溶剂的挥发速度相同，最终保证基板8表面光阻干燥的均匀性，避免了利用现有真空干燥装置干燥光阻时，容易在基板8表面产生Mura的问题，有效提升了产品良率。
[0032]具体的，所述承载平台2包括位于底部的数个支撑部21、设于所述数个支撑部21上的承载部22、及设于所述承载部22表面的数个接触部23，所述基板8的下表面与所述数个接触部23相接触。所述数个支撑部21穿过所述反应腔室I的底部延伸至所述反应腔室I外部；所述数个支撑部21的长度可伸缩。
[0033]具体的，所述基板8可以是玻璃基板，所述有机溶剂可以是丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA) ο
[0034]综上所述，本发明的真空干燥装置，在反应腔室顶部设有第一管路，所述第一管路与反应腔室的外部相连通，用于抽取反应腔室内部的气体或向所述反应腔室内部填充气体；在反应腔室内部的上方设有数个相互平行的第二管路，所述第二管路与反应腔室内部的上表面之间留有空隙，可保证反应腔室内部各个位置的蒸汽压相同，形成有利于光阻干燥的稳定均匀的气体流场，进而保证基板表面光阻内的有机溶剂的挥发速度相同，最终保证基板表面光阻干燥的均匀性，避免了利用现有真空干燥装置干燥光阻时，容易在基板表面产生Mura的问题，有效提升产品良率。
[0035]以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括反应腔室(I)、及设于所述反应腔室(I)内部的承载平台⑵； 所述承载平台(2)设于所述反应腔室(I)内部的下方，用于承载表面涂布有光阻(9)的基板⑶；所述光阻(9)内含有有机溶剂； 所述反应腔室(I)顶部设有第一管路(11)，所述第一管路(11)与所述反应腔室(I)的外部相连通，用于抽取所述反应腔室(I)内部的气体或向所述反应腔室(I)内部填充气体； 所述反应腔室(I)内部的上方设有数个相互平行的第二管路(12)，所述第二管路(12)与所述反应腔室(I)内部的上表面之间留有空隙，用于保证所述反应腔室(I)内部各个位置的蒸汽压相同。2.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述反应腔室(I)与一抽真空装置相连通，通过所述第一管路(11)抽取所述反应腔室(I)内部的气体。3.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述反应腔室(I)与一气体填充装置相连通，通过所述第一管路(11)向所述反应腔室(I)内部填充氮气或干燥空气。4.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第一管路(11)位于所述反应腔室(I)顶部的中间位置。5.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第二管路(12)的尺寸小于所述第一管路(11)的尺寸。6.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述第二管路(12)呈蜂窝状分布。7.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述承载平台(2)包括位于底部的数个支撑部(21)、设于所述数个支撑部(21)上的承载部(22)、及设于所述承载部(22)表面的数个接触部(23)。8.如权利要求7所述的真空干燥装置，其特征在于，所述数个支撑部(21)穿过所述反应腔室(I)的底部延伸至所述反应腔室(I)外部；所述数个支撑部(21)的长度可伸缩。9.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述基板(8)为玻璃基板。10.如权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯。
【专利摘要】本发明提供一种真空干燥装置，在反应腔室顶部设有第一管路，所述第一管路与反应腔室的外部相连通，用于抽取反应腔室内部的气体或向所述反应腔室内部填充气体；在反应腔室内部的上方设有数个相互平行的第二管路，所述第二管路与反应腔室内部的上表面之间留有空隙，可保证反应腔室内部各个位置的蒸汽压相同，形成有利于光阻干燥的稳定均匀的气体流场，进而保证基板表面光阻内的有机溶剂的挥发速度相同，最终保证基板表面光阻干燥的均匀性，避免了利用现有真空干燥装置干燥光阻时，容易在基板表面产生Mura的问题，有效提升产品良率。
【IPC分类】F26B5/04, F26B9/06
【公开号】CN105091506
【申请号】CN201510550945
【发明人】张从领
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年8月31日