1.一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：包括顶部、红外感应装置、化学清洗池、物理清洁池和烘干室，顶部的下方从左至右依次是取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室，取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室位于同一水平线上；
所述顶部包括顶板、传送装置和伸缩装置，在顶板的下方设有传送装置，传送装置包括两个电机、两个卷轮、传送带，电机分别固定在顶板的两头，每个电机下方连接有卷轮，传送带套链在两个卷轮上；
所述伸缩装置安装在传送带上，伸缩装置包括一根固定轴、两个滑轮、电机、卷绳和夹子，两个滑轮分别套装在固定轴的两侧，固定轴的中心安装有电机，两个滑轮与电机连通，固定轴嵌装在传送带上，卷绳顺时针缠绕在滑轮上，卷绳上端固定滑轮上，卷神下端设有夹子，
所述红外感应装置包括信号发射器和信号接收器，信号发射器的两端水平安装在夹子的上方卷绳上，信号接收器安装在取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室的内侧底部；
所述化学清洗池内侧有超声波发生器，化学清洗池的外侧设有进液阀和排液阀；
所述物理清洁池的外侧设有进水阀和排水阀；
所述烘干室的内侧右边设有热风机，热风机的出风口贯穿烘干室的内部。
2.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述伸缩装置的固定夹上设有振动器。
3.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述化学清洗池的超声波发生器内设有多个超声波振子。
4.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述烘干室的热风机的左侧设有导风板，导风板上均匀设有透气孔。