专利名称:光刻掩模板清洁方法
技术领域：
本发明涉及一种用于清洁TFT-LCD(薄膜晶体管-液晶显示器)工业用大型光刻掩模版的方法。
背景技术：
TFT-LCD制造行业中，特别是大尺寸液晶面板制造业中，光刻掩模版是在光刻工艺的关键部件。利用紫外光和光刻掩模版对涂布有光刻胶(感光树脂)的按照设计图形进行曝光，可以将光刻掩模版上的电子器件图案按照1∶1或者其他比例转写到基板上，并经过显影、刻蚀、剥离等工艺形成电子器件。由于光刻掩模版的缺陷会引起曝光转写后产品图案的缺陷，从而引起产品的可靠性低下或者良率低下。光刻掩模版的缺陷分为两种，一种是由于制作、搬送或者使用不当造成的掩模版自身的固有缺陷。这种缺陷只能通过掩模版出厂检验严格化、搬送或使用时规范化等方法进行防止，但是一旦发生了基本上不可挽回。另一种缺陷是由于生产环境或者生产过程中产生的异物颗粒附着于光刻掩模版的表面，或者由于人为或其他原因引起掩模版表面的污渍等。这种缺陷通过一定的清洁方法可以去除。大尺寸的光刻掩模版制造工艺复杂、难度大，价格昂贵。而且掩模版上有着微米级的电子器件图案，所以很容易被造成损害。由于以上原因，一般的制造厂商都只是定期地对掩模版表面进行简单的异物情况确认并在需要的情况下才进行简单清洁，或者返回掩模版生产厂商帮助处理。
对光刻掩模版只进行定期简单的清洁或者返回生产厂商处理，不能及时地发现由于掩模版表面异物附着引起的产品共通缺陷而可能造成大量的产品不良，或者得不到及时的处理而致使生产停滞。
发明内容本发明的目的是提供一种能够及时对光刻掩模板进行清洗的方法。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的一种光刻掩模板清洁方法，在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，将掩模板取出，利用强光光源查看灰尘分布，然后利用压缩气枪将异物去除。
气体来源必须是纯净的压缩空气或者氮气，气枪是塑料材料，内部无润滑油。
所述强光光源与掩模板的表面呈30度。
可依据灰尘检查装置提供的异物颗粒分布图来查看灰尘分布。
对于压缩气枪无法出去的微粒，用聚合物清洁棒或工业棉棒清除，随后立即再用压缩气枪进行吹气去除。
经压缩气枪和聚合物清洁棒/工业用棉棒都不能有效去除时，则可以使用辅助试剂，使用聚合物清洁棒时，以纯水为辅助试剂，使用工业棉棒时，以丙酮为辅助试剂。
对于不明成分的污渍，可以先用工业棉棒和丙酮对污渍部位进行小范围清洁，若不能去除则用聚合物清洁棒和纯水进行清洁。
本发明的积极进步效果在于配合利用内置于曝光装置内部的灰尘检查装置，实时地监控掩模版表面的异物颗粒附着情况，有效及时防止由于光刻掩模版表面异物引起曝光图案转写后产生的产品共通缺陷，可应用于液晶面板制造行业的光刻掩模版清洁，可以快速、有效、安全地对生产所用的光刻掩模版进行清洁，防止由于掩模版表面异物或污渍引起的产品不良。
具体实施方式下面给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
对曝光装置内的光刻掩模版灰尘检查装置进行设定。
设定的项目包括灰尘检查的范围(指面积，可以根据掩模版实际的面积大小进行设定，一般设定为图案的有效面积)、异物颗粒大小判定的级别(可以分为A级和B级，设定范围为70μm至240μm，可根据实际需要的清洁程度设定)、报警的设定(设定在发现A级或者B级异物时进行报警或者不报警)以及灰尘检查方式(一个曝光任务开始前或者结束后进行灰尘检查)的设定。把检查结果用无尘纸打印出来。
灰尘检查装置报警时进行光刻掩模版的清洁在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，曝光工作自动停止，掩模版自动退回到的盒子里面，等待处理。
将掩模版(连同盒子)搬出曝光装置，并且搬送到曝光装置旁的清洁台上面。清洁台要求平整度好，防止静电，且清洁度高，具有良好的向下气流环境(洁净车间通用)，最好是暗室。
利用强光光源，如强光手电，依据灰尘检查装置提供的异物颗粒分布图来确认掩模版表面的异物存在情况。一般与掩模版表面成30°的视线最容易看清实际的异物颗粒。
经确认后若是比较大的异物颗粒，可以利用压缩气枪将异物去除。对压缩气枪的要求气体来源必须是纯净的压缩空气或者氮气，气枪最好是塑料材料，内部无需润滑油，以防止污浊空气或是气枪内部污渍弄脏掩模版表面。气枪压力一般设为0.3MPa左右。
清洁时注意气枪尖端离掩模版表面保持10cm以上的距离，并防止其他部分接触到掩模版表面(防止刮伤掩模版)。采取就近原则调整气枪吹气的方向，并以强光手电配合确认异物去除情况。针对某些掩模版下表面贴附有保护图案用的薄膜(容易因外力而破损)，则还应该注意不要从侧面进行吹气。
若是在最初用强光手电确认异物时发现有微小的异物颗粒，并且用压缩气枪也无法进行去除的时候，可以利用聚合物清洁棒(购自日本，洁净室现场专用异物擦拭小棒，头部材料为聚氨基甲酸酯，尺寸φ8×15(斜切)，棒体为聚丙烯，全长105mm)或工业用棉棒(购自日本，头部材料为棉+人造丝，棒体为无尘纸，规格棉径×全长1.8×150mm)来配合压缩气枪去除异物。聚合物清洁棒和工业用棉棒都有一些黏附性，可以轻轻触碰掩模版表面把异物颗粒粘起去除而不会在掩模版表面留下痕迹或其他异物。随后立即再用压缩气枪进行吹气去除。一般来说极细小的异物颗粒可以用工业棉棒进行去除，而稍微大一点的异物可以用聚合物清洁棒除掉。
若是经压缩气枪+聚合物清洁棒/工业用棉棒都不能有效去除时，则可以使用辅助试剂。工具与辅助试剂的组合是聚合物清洁棒和纯水；工业用棉棒和丙酮。
对于不明成分的污渍。可以先用工业用棉棒和丙酮对污渍部位进行小范围清洁，若仍然不能去除则用聚合物清洁棒和纯水进行清洁。
清洁时须注意只对污渍部位进行单方向的轻微擦拭，若是使用聚合物清洁棒和纯水则还得在擦拭完后迅速用压缩气枪吹干，防止由于水的缓慢蒸发而在掩模版表面留下水渍。
经过上述几种办法，一般的异物颗粒与表面污渍都可以得到有效去除。在清洁工作结束后，经过再次的强光手电目视确认后可以把光刻掩模版搬回曝光装置。再经过灰尘检查装置检测合格后可以自动开始曝光工作。整个清扫工作加上再确认需要时间一般不多于15分钟，基本上不会对连续生产造成大的影响。而由于及时地在事前防止了由于掩模版表面的异物颗粒引起的产品共通缺陷，可以保证产品电子器件的可靠性和保持较高的成品率。
清洁所使用的辅助试剂除丙酮和纯水之外还可以使用乙醇等有机溶剂。
权利要求
1.一种光刻掩模板清洁方法，其特征在于，在曝光装置内的灰尘检查装置报警后，将掩模板取出，利用强光光源查看灰尘分布，然后利用压缩气枪将异物去除。
2.根据权利要求
1所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，气体来源必须是纯净的压缩空气或者氮气，气枪是塑料材料，内部无润滑油。
3.根据权利要求
2所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，所述强光光源与掩模板的表面呈30度。
4.根据权利要求
3所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，依据灰尘检查装置提供的异物颗粒分布图来查看灰尘分布。
5.根据权利要求
4所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，对于压缩气枪无法出去的微粒，用聚合物清洁棒或工业棉棒清除，随后立即再用压缩气枪进行吹气去除。
6.根据权利要求
5所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，经压缩气枪和聚合物清洁棒/工业用棉棒都不能有效去除时，则可以使用辅助试剂，使用聚合物清洁棒时，以纯水为辅助试剂，使用工业棉棒时，以丙酮为辅助试剂。
7.根据权利要求
6所述的光刻掩模板清洁方法，其特征在于，对于不明成分的污渍，可以先用工业棉棒和丙酮对污渍部位进行小范围清洁，若不能去除则用聚合物清洁棒和纯水进行清洁。
专利摘要
本发明公开了一种用于清洁TFT－LCD(薄膜晶体管－液晶显示器)工业用大型光刻掩模板的方法，利用高压空气枪，辅助聚合物清洁棒和工业用棉棒的方法，并适时利用辅助试剂丙酮和纯水，达到有效清除光刻掩模板表面的微小异物颗粒和污渍的效果。本清洁方法适用于在工业用洁净室里现场进行操作，配合利用内置于曝光装置内部的灰尘检查装置，实时地监控掩模板表面的异物颗粒附着情况，有效及时防止由于光刻掩模板表面异物引起曝光图案转写后产生的产品共通缺陷。
文档编号B08B7/04GK1994589SQ200510112252
公开日2007年7月11日 申请日期2005年12月28日
发明者谭智敏 申请人:上海广电Nec液晶显示器有限公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan