一种腔室清洁装置及其控制方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种腔室清洁装置及其控制方法。
【背景技术】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置，因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点，而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。
[0003]TFT-1XD由阵列基板和彩膜基板构成。现有TFT-1XD的制造工艺主要包括四个阶段，分别为彩色滤光片制备、Array(阵列基板制造)工艺、Cell (液晶盒制备)工艺以及Module (模块组装)工艺。作为TFT-1XD生产的一个重要环节，Array工艺通常是在一张玻璃基板上形成独立的TFT阵列电路，每个阵列电路分别对应一个显示像素。具体的，可以先在上述玻璃基板上形成一层薄膜层，并在薄膜层的表面涂覆一层光刻胶，然后通过掩膜曝光、显影以及刻蚀工艺对上述薄膜层进行图案化处理。
[0004]其中，掩膜曝光工艺是将形成有薄膜层和光刻胶的基板置于曝光机中，将掩模板置于上述基板靠近光源的一侧，光源通过掩模板对光刻胶进行区域化曝光。然而在实际生产过程中，会因为曝光机内部清洁度不够，而导致掩模板污染。由于掩模板的图案是按照1:1的比例转写到基板上，掩模板上的缺陷在曝光转写后很容易引起薄膜图案的缺陷，从而影响产品的可靠性或者导致产品的优良率下降。
[0005]现有技术中，一般采用人工对曝光机腔室内部进行清洁维护。这样一来，工作人员进入曝光机腔室内部的同时，其自身会将一些微粒带入曝光机中，从而降低了清洁效果。并且人工清洁维护的效率低，降低了产品的稼动率。此外，还可以采用吸尘设备对曝光机腔室内部进行清洁。然而，由于吸尘设备的除尘原理是通过较强的气流波动来实现，因此会影响到曝光机内部的环境因素，例如气压或温度。这样一来，当曝光机腔室内部的温度发生变化时，会导致玻璃基板产生伸缩变形，从而使得玻璃基板上已形成的阵列电路发生变形；而当曝光机腔室内部的气压发生改变时，会影响机械部件对玻璃基板进行吸附定位的精度，导致曝光对位准而引起的构图缺陷。
【发明内容】
[0006]本发明的实施例提供一种腔室清洁装置及其控制方法，能够解决清洁技术中，曝光机的腔室内部环境因素改变和清洁效率低的问题。
[0007]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0008]本发明实施例的一方面，提供一种腔室清洁装置，用于对腔室进行清洁，包括用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道；
[0009]所述供给设备通过输送入口与所述清洁轨道的起始端相连接，并通过输送出口与所述清洁轨道的末端相连接；
[0010]所述供给设备设置有第一工位和第二工位，所述第一工位与所述输送入口相对应，所述第二工位与所述输送出口相对应；
[0011]所述供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布，位于所述第一工位的卷轴与清洁布的一端相连接，用于将所述清洁布从所述输送入口传送至所述清洁轨道上，位于所述第二工位的卷轴与清洁布的另一端相连接，用于将穿过所述输送出口的清洁布进行收集。
[0012]本发明实施例的另一方面，提供一种腔室清洁装置的控制方法，用于控制如上所述的任意一种腔室清洁装置的方法，所述方法包括:
[0013]将第一卷轴位于第一工位，第二卷轴位于第二工位；
[0014]将所述第一卷轴上的第一清洁布的起始端与所述第二卷轴相连接；其中，所述第一清洁布的末端与所述第一卷轴相连接；
[0015]所述第一卷轴进行旋转，将所述第一清洁布从输送入口传送至清洁轨道上；
[0016]所述清洁轨道将所述第一清洁布展开，所述第一清洁布沿所述清洁轨道对腔室进行清洁；
[0017]所述第二卷轴进行旋转，将所述第一清洁布进行收集。
[0018]本发明提供一种腔室清洁装置及其控制方法，其中所述腔室清洁装置包括:用于提供控制信号的控制器、供给设备，以及设置于所述腔室内部的清洁轨道。供给设备通过输送入口与清洁轨道的起始端相连接，并通过输送出口与清洁轨道的末端相连接；供给设备设置有第一工位和第二工位，第一工位与输送入口相对应，第二工位与输送出口相对应。该供给设备包括至少两个卷轴，以及部分位于所述清洁轨道上的清洁布，位于第一工位的卷轴与清洁布的一端相连接，位于第二工位的卷轴与清洁布的另一端相连接。这样一来，当位于第一工位的卷轴在控制器的控制下进行旋转时，可以将清洁布从输送入口传送至清洁轨道上，清洁布在清洁轨道上呈展开的状态，通过对腔室内颗粒物的吸附，达到清洁的作用。在清洁一定时间后，位于第二工位上的卷轴可以在控制器的控制下进行旋转，可以在输送出口处对清洁后的清洁布进行收集。综上所述，在这个清洁过程中，通过卷轴的旋转带动清洁布出入腔室，因此避免了现有技术中采用吸尘器清洁时产生的气流波动对曝光机内部环境因素的影响。此外整个清洁过程有控制器操控完成，因此相对于人工清洁而言，生产效率尚O
【附图说明】
[0019]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本发明实施例提供的一种腔室清洁装置的结构示意图；
[0021]图2为图1中供给设备和还原设备的详细结构示意图；
[0022]图3为图2中C向局部视图；
[0023]图4为图1中清洁轨道的预设轨迹示意图；
[0024]图5为图4中位置调节器40的详细结构示意图；
[0025]图6为图5中水平调节部件和竖直调节部件的具体结构示意图；
[0026]图7为本发明实施例提供的一种腔室清洁装置控制方法的流程图；
[0027]图8为本发明实施例提供的一种设置卷轴更换过程的腔室清洁装置控制方法的流程图；
[0028]图9为本发明实施例提供的一种涉及检测报警过程的腔室清洁装置控制方法的流程图；
[0029]图10为本发明实施例提供的一种位置调节器的调节方法流程图。
[0030]附图标记:
[0031]01-腔室；02_清洁轨道；10-控制器；20_供给设备；201_位于第一工位的卷轴；202-位于第二工位的卷轴；2001_第一卷轴；2002_第二卷轴；2003_第三卷轴；210_清洁布；2100_第一清洁布；2101_第二清洁布；211-第一链接扣；212_第二链接扣；220_供给导轨；221-限位区；230_卷轴驱动部件；240_第一连接器；241_第二连接器；30_传输入口 ；31_传输出口 ；32_还原设备；301-还原入口 ；302_还原出口 ；310_还原导轨；40-位置调节器；401-竖直调节部件；402_水平调节部件；403_导向部件；404_第一转轴；405_第二转轴；A-第一工位；B-第二工位；D-预设位置。
【具体实施方式】
[0032]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0033]本发明实施例提供一种腔室清洁装置，用于对腔室进行清洁，如图1所示，可以包括用于提供控制信号的控制器10、供给设备20，以及设置于腔室01内部的清洁轨道02。
[0034]其中，供给设备20通过输送入口 30与清洁轨道02的起始端相连接，并通过输送出口 31与清洁轨道02的末端相连接。
[0035]供给设备20设置有第一工位A和第二工位B，其中，第一工位A与输送入口 30相对应，第二工位B与输送出口处31相对应。
[0036]供给设备20可以包括至少两个卷轴，以及部分位于清洁轨道02上的清洁布210。具体的，位于第一工位A的卷轴201与清洁布210的一端相连接，可以在控制器10的控制下进行旋转，将清洁布210从输送入口 30传送至清洁轨道02上。位于第二工位B的卷轴202与清洁布210的另一端相连接，可以在控制器10的控制下进行旋转，将穿过输送出口的清洁后的清洁布210进行收集。
[0037]需要说明的是，第一、上述控制器10可以是PC(Personal Computer，个人计算机)。这样一来，工作人员可以根据