专利名称：污水处理装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种水处理系统，具体涉及一种污水处理装置。
背景技术：
硅屑泥被认为是最难处理的无机盐垢之一。湿态的硅屑泥外观呈黑色，结构比较 疏松但密度大于水。当硅片表面被纯水冲刷，硅片表面的硅屑与水混合形成硅屑泥。由于 现有的划片机直接连接排水管道，硅屑泥会与水一起进入排水管道内。由于排水管道相对 平直，硅屑泥会逐渐沉积在排水管道内，很容易造成排水管道的堵塞。一旦排水管道堵塞， 会引起设备反水，进而引发设备停机的事故，这时就必须疏通排水管道，花费大量的时间、 人力解决管道堵塞的问题。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种污水处理装置，它可以将污水中的硅 屑泥与液体分离。为解决上述技术问题，本实用新型污水处理装置的技术解决方案为包括水槽，水槽一侧设进水口，另一侧设排水口，进水口位于水槽的上部，排水口 位于水槽的下部；水槽内的底部设置有下挡泥板。所述水槽内的顶部设置有上挡泥板，上挡泥板与进水口之间的水平距离小于下挡 泥板与进水口之间的水平距离。所述上、下挡泥板的总高度不小于水槽的高度。所述水槽的底部设滑轮。所述水槽设置于硅片划片机与其排水管道之间。本实用新型可以达到的技术效果是本实用新型能够将硅片划片机排出的污水中的硅屑泥与液体分离，并将硅屑泥暂 存在水槽中，避免硅屑泥进入排水管道，能够从根本上防止排水管道被硅屑泥堵塞，保持排 水管道的通畅。本实用新型的使用能够保证排水管道的流量，确保设备的安全运行，实现可 持续生产。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细的说明
图1是本实用新型污水处理装置的结构示意图。图中附图标记说明1为水槽，2为上挡泥板，3为下挡泥板，4为滑轮，5为进水口，6为排水口。
具体实施方式
如
图1所示，本实用新型污水处理装置，包括水槽1，水槽1 一侧设进水口 5，另一 侧设排水口 6，进水口 5位于水槽1的上部，排水口 6位于水槽1的下部；水槽1底部设滑 轮4 ；水槽1内设上、下挡泥板，上挡泥板2设置于水槽1顶部，下挡泥板3设置于水槽1底 部，上、下挡泥板2、3之间设有间隙，上挡泥板2与进水口 5之间的水平距离小于下挡泥板 3与进水口 5之间的水平距离，上、下挡泥板2、3的总高度不小于水槽1的高度。水槽1设置于硅片划片机与其排水管道之间，进水口 5与硅片划片机之间通过软 管连接，出水口 6与排水管道之间通过法兰连接。水槽1底部设有四个滑轮4，以便于拆卸水槽1进行清洗。当硅片划片机排出的污水从进水口 5进入水槽1，由于污水中的硅屑泥密度大于 水，在挡泥板2、3的作用下，硅屑泥沉积在水槽1的进水侧，实现硅屑泥与液体的分离；而不 含硅屑泥的液体则通过上、下挡泥板2、3之间的间隙通过水槽1的排水侧从排水口 6排出。本实用新型在使用过程中只需定期清洗水槽，而无需再定期对整个排水管道进行 解体清洗。
权利要求一种污水处理装置，其特征在于包括水槽，水槽一侧设进水口，另一侧设排水口，进水口位于水槽的上部，排水口位于水槽的下部；水槽内的底部设置有下挡泥板。
2.根据权利要求1所述的污水处理装置，其特征在于所述水槽内的顶部设置有上挡 泥板，上挡泥板与进水口之间的水平距离小于下挡泥板与进水口之间的水平距离。
3.根据权利要求2所述的污水处理装置，其特征在于所述上、下挡泥板的总高度不小 于水槽的高度。
4.根据权利要求1至3任一项所述的污水处理装置，其特征在于所述水槽的底部设滑轮。
5.根据权利要求1至3任一项所述的污水处理装置，其特征在于所述水槽设置于硅 片划片机与其排水管道之间。
专利摘要本实用新型公开了一种污水处理装置，包括水槽，水槽一侧设进水口，另一侧设排水口，进水口位于水槽的上部，排水口位于水槽的下部；水槽内的底部设置有下挡泥板。所述水槽内的顶部设置有上挡泥板，上挡泥板与进水口之间的水平距离小于下挡泥板与进水口之间的水平距离。本实用新型能够将硅片划片机排出的污水中的硅屑泥与液体分离，并将硅屑泥暂存在水槽中，避免硅屑泥进入排水管道，能够从根本上防止排水管道被硅屑泥堵塞，保持排水管道的通畅。
文档编号B01D21/08GK201625442SQ20102003633
公开日2010年11月10日 申请日期2010年1月18日 优先权日2010年1月18日
发明者杨卫枫 申请人:上海华虹Nec电子有限公司