专利名称：一种气体分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种气体分布器。
技术背景在化工生产中，通常要将气体引入塔中与塔内设置的处理层(如过滤层、吸附层、催化剂层等)接触而进行处理或化学反应。然而直接通入气体会造成气体局部集中而分布不均匀，影响处理和反应效果。
发明内容本实用新型的目的是提供一种气体分布器，该气体分布器可以用于将气体均匀分布于塔中以利于处理或化学反应的有效进行。本实用新型提供的技术方案是—种气体分布器，包括具有进气口的筒状器体，进气口设在筒状器体顶部的中心位置，筒状器体周侧设有环形通道，筒状器体内均匀分布有联通进气口与环形通道的多个气体通道，气体通道的底面和环形通道的底面均设有出气孔。所述环形通道的侧面设有出气孔。本实用新型由于采用上述结构，使用时安装在塔的顶部，气体从进气口引入，进入气体通道和环形通道，并经气体通道和环形通道的出气孔均匀分布到塔中以对气体进行处理或使化学反应有效进行。
图I为本实用新型的结构示意图；图2为图I的左视图。
具体实施方式
参见图I-图2，本实用新型包括具有进气口 5的筒状器体1，进气口 5设在筒状器体I顶部的中心位置，筒状器体I周侧设有环形通道2，筒状器体I内均匀分布有联通进气口 5与环形通道2的多个气体通道3，气体通道3的底面和环形通道2的底面均设有出气孔4。所述环形通道的侧面也设有出气孔4。本实用新型使用时可安装在塔的顶部，气体从进气口引入，进入气体通道和环形通道，并经气体通道和环形通道的出气孔均匀分布到塔中，使气体从上至下均匀接触并通过处理层，以对气体进行处理或使化学反应有效进行。本实用新型结构简单，气体分布效果好。
权利要求1.一种气体分布器，包括具有进气口的筒状器体，其特征是进气口设在筒状器体顶部的中心位置，筒状器体周侧设有环形通道，筒状器体内均匀分布有联通进气口与环形通道的多个气体通道，气体通道的底面和环形通道的底面均设有出气孔。
2.根据权利要求I所述的气体分布器，其特征是所述环形通道的侧面设有出气孔。
专利摘要本实用新型涉及一种气体分布器，包括具有进气口的筒状器体，进气口设在筒状器体顶部的中心位置，筒状器体周侧设有环形通道，筒状器体内均匀分布有联通进气口与环形通道的多个气体通道，气体通道的底面和环形通道的底面均设有出气孔。本实用新型使用时安装在塔的顶部，气体从进气口引入，进入气体通道和环形通道，并经气体通道和环形通道的出气孔均匀分布到塔中以对气体进行处理或使化学反应有效进行。
文档编号B01J4/00GK202366683SQ20112055882
公开日2012年8月8日 申请日期2011年12月28日 优先权日2011年12月28日
发明者刘国栋, 周耀安, 曾宪成, 沈海波, 田文慧, 钱林杰 申请人:武汉江汉化工设计有限公司