一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置的制作方法

本实用新型涉及抽滤装置技术领域，尤其涉及一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置。

背景技术：

纳米Tio2凝胶存在氯离子等其他杂质，一般用蒸馏水稀释洗涤，再通过需要抽滤装置负压抽滤，一般需要3～4遍的。

一般情况下，在对纳米凝胶进行抽滤时，抽滤漏斗最下方即靠近漏斗过滤陶瓷膜处，会产生积压，容易导致陶瓷膜堵塞，影响抽滤的效果。因此需要一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在易堵塞的缺点，而提出的一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置，包括底座，底座上设有盛料容器，盛料容器顶部设有开口，开口上设有抽滤漏斗，抽滤漏斗内设有陶瓷膜，盛料容器一侧设有出气口，出气口通过气管与真空泵连接，所述盛料容器的两侧对称设有两个导轨，所述导轨垂直固定在底座上，所述盛料容器上方设有安装板，所述安装板的两侧均设有滑块，所述滑块侧面设有定位孔，定位孔内插装有定位销，定位销端部卡在导轨上，所述安装板上设有上料容器，所述上料容器的底部设有上料管，所述上料管的端部穿过安装板延伸到抽滤漏斗内，所述安装板上安装有微型电机，所述微型电机的输出端连接有转轴，所述转轴的端部穿过安装板延伸到陶瓷膜表面，且转轴的端部安装有多个刀式搅拌片，所述刀式搅拌片的刀口紧贴陶瓷膜设置。

优选的，所述转轴的端部设有圆柱形的刀座，所述刀座轴向均布有四个安装口，所述刀式搅拌片插在安装口内，所述安装口和刀式搅拌片上均设有螺纹孔，螺纹孔内插装有定位螺栓。

优选的，所述盛料容器的开口内安装有胶塞，所述胶塞上设有通孔，所述抽滤漏斗的底部卡在胶塞的通孔内。

优选的，所述刀式搅拌片为不锈钢刮刀片。

本实用新型提出的一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置，有益效果在于：微型电机带动刀式搅拌片旋转，通过搅拌片的匀速搅拌，可以防止凝胶物堵塞陶瓷膜孔，且搅拌片活动安装在刀座上，便于维护替换。本实用新型操作简单、使用方便，有效解决了纳米凝胶抽滤易堵塞的问题。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置的刀座处的结构示意图。

图中：上料容器1、微型电机2、安装板3、滑块4、导轨5、出气口6、真空泵7、陶瓷膜8、盛料容器9、抽滤漏斗10、转轴11、刀座12、刀式搅拌片13、底座14、胶塞15、上料管16、安装口17。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1，一种适用于纳米凝胶的改进型抽滤装置，包括底座14，底座14上设有盛料容器9，盛料容器9顶部设有开口，开口上设有抽滤漏斗10，盛料容器9的开口内安装有胶塞15，胶塞15上设有通孔，抽滤漏斗10的底部卡在胶塞15的通孔内，抽滤漏斗10内设有陶瓷膜8，盛料容器9一侧设有出气口6，出气口6通过气管与真空泵7连接，真空泵7对盛料容器9进行抽真空，待过滤的纳米凝胶经抽滤漏斗10内的陶瓷膜8过滤后进入盛料容器9。

盛料容器9的两侧对称设有两个导轨5，导轨5垂直固定在底座14上，盛料容器9上方设有安装板3，安装板3的两侧均设有滑块4，滑块4侧面设有定位孔，定位孔内插装有定位销，定位销端部卡在导轨5上，安装板3上设有上料容器1，上料容器1的底部设有上料管16，上料管16的端部穿过安装板3延伸到抽滤漏斗10内，上料容器1用于存放待过滤的原料，原料通过底部的上料管16进入抽滤漏斗10内进行过滤，安装板3可以通过滑块4沿导轨5上下滑动以调整到合适的位置。

安装板3上安装有微型电机2，微型电机2的输出端连接有转轴11，转轴11的端部穿过安装板3延伸到陶瓷膜8表面，且转轴11的端部安装有多个刀式搅拌片13，刀式搅拌片13为不锈钢刮刀片，刀式搅拌片13的刀口紧贴陶瓷膜8设置。微型电机2驱动刀式搅拌片13对陶瓷膜8表面进行搅拌，防止膜孔堵塞，有效提高了过滤效率。

参照图2，转轴11的端部设有圆柱形的刀座12，刀座12轴向均布有四个安装口17，刀式搅拌片13插在安装口17内，安装口17和刀式搅拌片13上均设有螺纹孔，螺纹孔内插装有定位螺栓。刀式搅拌片13活动安装在刀座12上，通过旋转定位螺栓可以方便对刀式搅拌片13进行更换，方便维护。

工作流程：真空泵7对盛料容器9进行抽真空，待过滤的纳米凝胶放置在上料容器1内，之后经上料管16进入抽滤漏斗10内再经过陶瓷膜8进入盛料容器9内完成过滤，微型电机2驱动刀式搅拌片13对陶瓷膜8表面进行搅拌，防止膜孔堵塞。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。