一种胶体研磨均质设备的制作方法

本发明涉及胶体研磨技术领域，具体为一种胶体研磨均质设备。

背景技术：

众所周知，研磨设备的基本原理是流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间，使物料受到强大的剪切力，摩擦力及高频振动等作用，有效地被粉碎、乳化、均质、温合，从而获得满意的精细加工的产品，目前，现有的乳化机主要适合比较小的颗粒进料，而胶体磨则适合比较粗的颗粒进料，研磨后很难有效的溶解和乳化，胶体的品质大打折扣，同时现有的胶体研磨装置结构复杂，造价高，生产不便。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种胶体研磨均质设备，结构简单，造价低，控制及使用方便，分级对胶体进行研磨，使胶体内溶质完全的溶解，从而获得满意的高品质产品，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种胶体研磨均质设备，包括壳体，所述壳体的外侧面中部安装有控制开关，所述壳体的上表面外侧安装有减速电机，所述减速电机的输出轴上固定有主动齿轮，所述减速电机的输入端与控制开关的输出端相连，所述控制开关的输入端与外部电源的输出端相连，所述壳体上表面中部的安装孔内设有轴座，所述轴座内转动连接有转轴，所述转轴的上端面转动连接有旋转接头，所述转轴的上端外侧面固定有与主动齿轮相啮合的从动齿轮，所述壳体的内侧面中部固定有隔板，所述隔板上侧的壳体内侧面安装有第一研磨装置，所述隔板下侧的壳体内侧面安装有第二研磨装置。

作为本发明的一种优选技术方案，所述壳体的内侧面下端设有层板，所述层板与壳体下表面之间安装有超声波发生器，所述超声波发生器的输入端与控制开关的输出端相连。

作为本发明的一种优选技术方案，所述层板上侧的壳体侧面安装有出料管，所述出料管的中部安装有出料阀。

作为本发明的一种优选技术方案，所述转轴包括进料管，所述进料管的下端侧面设有喷料口，所述进料管的下端固定有连接柱，所述连接柱的侧面固定有搅拌辊，所述连接柱的下端设有下料器，所述下料器的下端连接有分离管，所述分离管的中部安装有分离器。

作为本发明的一种优选技术方案，所述下料器为椎体壳，所述下料器的侧面设有下料口，且下料器与分离管相通。

作为本发明的一种优选技术方案，所述分离器设在隔板下侧的分离管中部，所述分离器为与分离管相通的圆柱体壳，所述分离器的侧面均匀的分布有泄压阀，所述分离器的内腔中部通过支杆固定有挡板。

作为本发明的一种优选技术方案，所述第一研磨装置包括固定在壳体内侧面的固定盘，所述固定盘上侧的壳体内侧面设有连接盘，所述连接盘内转动连接有转动盘，所述转动盘的内环面与转轴固定连接。

作为本发明的一种优选技术方案，所述固定板的外侧边缘设有出料口，所述转动盘的内侧部分设有进料口，所述固定盘与转动盘的接触面上均分布有磨齿。

作为本发明的一种优选技术方案，所述第二研磨装置包括固定在壳体内侧面的固定板，所述固定板的中部通孔上焊接有支撑筒，所述支撑筒的外侧套接有与支撑筒转动连接的磨轮，所述磨轮通过连接柱与分离器固定相连。

作为本发明的一种优选技术方案，所述固定板的上表面边缘固定有与磨轮配套的环形磨床，所述固定板的上表面内侧均匀的分布有漏料口。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本胶体研磨均质设备，结构简单，通过第一研磨装置和第二研磨装置对胶体分级研磨，第一研磨装置为粗研磨，通过分离器对胶体进行组分分离，未溶解充分的胶体再进入第二研磨装置进行二级研磨，研磨充分，保证胶体加工的品质，两级分离由同一减速电机带动，减少了动力机构，安装方便，搅拌辊转动能使隔板上侧的胶体增加向下的压力，方便分离器的分离，超声波发生器对充分研磨后的胶体进行震荡保存，便于胶体的乳化和即时使用，控制简单，研磨效率高，使用方便。

附图说明

图1为本发明结构示意图；

图2为本发明剖面结构示意图。

图中：1壳体、101出料管、102出料阀、2控制开关、3减速电机、301主动齿轮、4轴座、5转轴、501进料管、5011喷料口、502连接柱、503下料器、5031下料口、504分离管、6第一研磨装置、601固定盘、6011出料口、602连接盘、603转动盘、6031进料口、7隔板、8分离器、801泄压阀、802挡板、9第二研磨装置、901固定板、902支撑筒、903磨轮、9031连接柱、904环形磨床、905漏料口、10旋转接头、11从动齿轮、12搅拌辊、13层板、14超声波发生器。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-2，本发明提供一种技术方案：一种胶体研磨均质设备，包括壳体1，壳体1的外侧面中部安装有控制开关2，壳体1的内侧面下端设有层板13，层板13与壳体1下表面之间安装有超声波发生器14，层板13上侧的壳体1侧面安装有出料管101，出料管101的中部安装有出料阀102，超声波发生器14的输入端与控制开关2的输出端相连，超声波发生器14对充分研磨后的胶体进行震荡保存，便于胶体的乳化和即时使用，壳体1的上表面外侧安装有减速电机3，减速电机3的输出轴上固定有主动齿轮301，减速电机3的输入端与控制开关2的输出端相连，控制开关2的输入端与外部电源的输出端相连，壳体1上表面中部的安装孔内设有轴座4，轴座4内转动连接有转轴5，转轴5的上端面转动连接有旋转接头10，通过旋转接头10与外部进料管路相接，转轴5的上端外侧面固定有与主动齿轮301相啮合的从动齿轮11，减速电机3带动转轴5整体进行转动，转轴5包括进料管501，进料管501的下端侧面设有喷料口5011，进料管501的下端固定有连接柱502，连接柱502的侧面固定有搅拌辊12，搅拌辊12转动能使上侧的胶体增加向下的压力，方便下料，连接柱502的下端设有下料器503，下料器503的下端连接有分离管504，下料器503为椎体壳，下料器503的侧面设有下料口5031，且下料器503与分离管504相通，分离管504的中部安装有分离器8，分离器8设在隔板7下侧的分离管504中部，分离器8为与分离管504相通的圆柱体壳，分离器8的侧面均匀的分布有泄压阀801，分离器8的内腔中部通过支杆固定有挡板802，壳体1的内侧面中部固定有隔板7，隔板7上侧的壳体1内侧面安装有第一研磨装置6，第一研磨装置6包括固定在壳体1内侧面的固定盘601，固定盘601上侧的壳体1内侧面设有连接盘602，连接盘602内转动连接有转动盘603，转动盘603的内环面与转轴5固定连接，固定板601的外侧边缘设有出料口6011，转动盘603的内侧部分设有进料口6031，固定盘601与转动盘603的接触面上均分布有磨齿，水平打磨的设置缩减了壳体1的高度，同时胶体的研磨路径长，研磨充分，隔板7下侧的壳体1内侧面安装有第二研磨装置9，第二研磨装置9包括固定在壳体1内侧面的固定板901，固定板901的中部通孔上焊接有支撑筒902，支撑筒902的外侧套接有与支撑筒902转动连接的磨轮903，磨轮903通过连接柱9031与分离器8固定相连，固定板901的上表面边缘固定有与磨轮903配套的环形磨床904，固定板901的上表面内侧均匀的分布有漏料口905，控制开关2上设有与减速电机3和超声波发生器14一一对应的按钮，本胶体研磨均质设备，结构简单，通过第一研磨装置6和第二研磨装置9对胶体分级研磨，第一研磨装置6为粗研磨，通过分离器8对胶体进行组分分离，未溶解充分的胶体再进入第二研磨装置9进行二级研磨，研磨充分，保证胶体加工的品质，两级分离由同一减速电机3带动，减少了动力机构，安装方便，控制简单，研磨效率高。

在使用时：旋转接头10接外部的进料管路，减速电机3工作通过主动齿轮301和从动齿轮11的配合带动转轴5进行整体转动，为第一研磨装置6的转动盘603、第二研磨装置9的磨轮903以及搅拌辊12提供动力，胶体先经过进料管501进入到转动盘603上侧的壳体1内腔，经过进料口6031进入到转动盘603和固定盘601之间进行粗打磨，磨料经过出料口6011落下，经过搅拌辊12的均质和增压后胶体从下料口5031进入到分离器8内，挡板802避免胶体直接从分离管504下侧露出，进入分离器8的胶体由于离心力甩向外侧，因胶体内溶质的溶解度不同形成分层，内侧溶解充分的胶体经过分离管504落至层板13上，外侧未完全溶解的胶体通过泄压阀801排出，经过环形磨床904和磨轮903研磨后从漏料口905漏落至层板13上。

本发明结构简单，造价低，控制及使用方便，分级对胶体进行研磨，使胶体内溶质完全的溶解，从而获得满意的高品质产品，极大地提高了胶体研磨的效率。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。