1.应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，包括：
钕铁硼磁体支撑板，其上放置有多个下表面待喷涂的钕铁硼磁体；
压板，其压在所述钕铁硼磁体的已喷涂的上表面上；
机架，所述机架上设置一电机；
转轴，其水平设置在所述电机的输出端
支架，其以所述转轴所在水平线为中心可旋转地与所述转轴连接；
驱动装置，其设置在所述支架上；
固定夹持板，其水平固定在所述支架上；
移动夹持板，其设置在所述支架，且在驱动装置的驱动下朝向或远离所述固定夹持板运动。
2.如权利要求1所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，还包括一推杆，所述推杆输出端与所述支架连接。
3.如权利要求2所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，所述支架包括与所述转轴固定连接的两个竖杆，和设置在两个所述竖杆之间的上部横板和下部横板；
其中，所述固定夹持板设置在所述下部横板的上端面上；所述驱动装置设置在所述上部横板的上端面上。
4.如权利要求3所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，所述支架还包括竖直设置在所述上部横板上端面上的滑轨；
所述移动夹持板通过滑块设置在所述滑轨中，所述驱动装置驱动所述滑块在所述滑轨中往复运动。
5.如权利要求4所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，还包括限位装置，所述限位装置包括一光线传感器。
6.如权利要求5所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，所述钕铁硼磁体支撑板上标记有定位信息，所述钕铁硼磁体按照所述定位信息设置在所述钕铁硼磁体支撑板上。
7.如权利要求6所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，还包括一定位板；
所述定位板上开设有多个与所述定位信息相匹配的通孔；所述定位板设置在所述钕铁硼磁体支撑板和所述压板之间，且所述通孔中容纳所述钕铁硼磁体。
8.如权利要求7所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，所述通孔尺寸值大于所述钕铁硼磁体的尺寸值，所述通孔与所述钕铁硼磁体配合。
9.如权利要求8所述的应用于钕铁硼磁体喷涂工艺中的翻面组件，其特征在于，所述上部横板的上端面上和下部横板的下端面上均设置有缓冲垫。