一种立式磨机的制作方法

本发明涉及工程机械领域，更具体地说，特别涉及一种立式磨机。

背景技术：

磨机是物料被破碎之后再进行粉碎的关键设备。磨机可以广泛应用于水泥、硅酸盐制品、新型建筑材料、耐火材料、化肥、有色金属选矿、玻璃陶瓷等生产行业，可以对各种矿石和其它可磨性物料进行干式或湿式粉磨，因此，磨机在各行业得到了广泛应用。现有的磨机一般包括立式磨机或者卧式磨机，其中，立式磨机由于占地面积小而深受广大用户喜爱。

立式磨机一般包括给料机构、研磨机构、出料机构和驱动机构，其中，研磨机构为立式磨机的主体机构，研磨机构的设计极大决定了物料的加工质量。由于常规立式磨机为保证物料最终的研磨粒径符合规定要求，出料机构处一般设计有筛网，不符合规定粒径的物料被拦截在筛网上方继续研磨，研磨至符合规定粒径大小的物料则可以透过筛网的细孔落下被收集使用，实际操作中，由于立式磨机使用时其内腔往往充满了各种粗细不同的物料，同时，物料中往往还混杂了研磨介质球，而物料和研磨介质球由于重力作用而往往会堆积挤压在筛网上，如此，很容易导致筛网被堵塞，极大影响了物料的正常出料。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题为提供一种立式磨机，该立式磨机通过其结构设计，能有效确保研磨后物料正常出料。

一种立式磨机，包括壳体，所述壳体底板上设置有贯穿所述壳体内外的进料管，所述进料管上端设置有溢流口且所述溢流口靠近所述壳体顶部内壁，所述壳体顶板上设置有贯穿所述壳体内外的出料管，所述出料管内插设有转轴，所述转轴外壁与所述出料管内壁之间设置有导料通道，所述转轴下端设置有离心盘且所述离心盘位于所述溢流口上方，所述离心盘下方设置有研磨杆，所述离心盘外壁与所述壳体顶部内壁之间设置有出料通道，所述离心盘上表面设置有与所述出料通道相通的凹槽且所述凹槽环绕在所述转轴外周，所述导料通道下方与所述凹槽相导通，所述导料通道上方与外部相导通。

优选地，所述进料管、所述出料管、所述转轴均沿所述壳体中轴线方向布置。

优选地，所述壳体顶部设置有加珠斗，所述加珠斗用于所述壳体内腔研磨介质球的添加。

优选地，所述研磨杆设置有至少2根且呈环状布置在所述壳体内腔。

优选地，所述研磨杆上设置有层层相间隔布置的拨珠杆。

优选地，所述离心盘上表面设置有脱球片，所述脱球片用于剥离物料中混杂的研磨介质球。

优选地，所述凹槽内设置有导料面，所述导料面用于将所述凹槽中的物料导向所述导料通道下方。

优选地，所述导料通道上方连接有出料室，所述出料室与外部相导通。

本发明的有益效果是：本发明提供的该立式磨机具体实施时，待研磨物料通过进料管输入，然后通过进料管上端设置的溢流口溢流进入壳体内腔，转轴带动离心盘与研磨杆一起旋转，研磨杆对物料进行研磨，随着物料的持续输入与研磨，研磨至一定程度且混杂有大颗粒物料、小颗粒物料以及研磨介质球的混合物进入出料通道，此时，离心盘会将大颗粒物料以及研磨介质球甩向远处而从混合物中分离出去，小颗粒物料则被继续挤压并沿出料通道落入至凹槽内，当合格的小颗粒物料源源不断的涌向凹槽时，小颗粒物料便会逐渐沿导料通道向外部流动，直至被推导外部被收集。相对于传统的立式磨机而言，本方案完全摒弃了传统筛网的出料方式，无需担心出料被堵塞的情况，能有效确保物料的正常出料。此外，本发明采用进料管溢流这种进料方式可以有效避免设备停机时研磨介质球和物料倒流流入其它管道，可以有效防止设备阀门堵塞或者泵体损害，同时还可以有效防止倒流的浆料凝固堵塞管道和研磨腔。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所公开的立式磨机的整体结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。

基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上方”、“下方”、“顶部”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

参见图1，图1提供了本发明一种立式磨机的具体实施例，其中，图1为本发明实施例所公开的立式磨机的整体结构示意图。

如图1所示，本发明提供的该立式磨机为下部进料、上部出料的立式磨机。本发明提供的该立式磨机包括壳体1，进料管2，溢流口3，出料管4，转轴5，导料通道6，离心盘7，研磨杆8，出料通道9，凹槽10，加珠斗11，拨珠杆12，脱球片13，导料面14，出料室15。

本方案中，该立式磨机包括壳体1，壳体1用于给物料的研磨提供空间。具体地，壳体1的形状与尺寸可以根据实际需要进行选择设计，本实施例所用的壳体1即选用了一种u型壳体。

本方案中，壳体1底板上设置有贯穿所述壳体1内外的进料管2，所述进料管2上端设置有溢流口3且所述溢流口3靠近所述壳体1顶部内壁。进料管2用于待研磨物料的输入，进料管2下端一般与外设隔膜泵相连接，使用过程中，可以通过隔膜泵的压力持续推进待研磨物料，从而将待研磨物料源源不断的注入至壳体1内腔。

具体地，本方案摒弃了传统立式磨机直接从壳体底板开设进料口输料的进料方式，本方案将进料管2插进壳体1内腔并使溢流口3靠近壳体1顶部内壁，然后再通过外部泵送设备推进物料从而使物料从处于高处位置的溢流口3掉落到壳体1内腔，采用上述这种溢流进料方式可以有效避免设备停机时研磨介质球和物料倒流流入其它管道，可以有效防止设备阀门堵塞或者泵体损害，同时还可以有效防止倒流的浆料凝固堵塞管道和研磨腔。

本方案中，壳体1顶板上设置有贯穿所述壳体1内外的出料管4，所述出料管4内插设有转轴5，所述转轴5外壁与所述出料管4内壁之间设置有导料通道6。具体地，转轴5与外设驱动装置相连，用于给物料的研磨及分离提供动力输出。导料通道6用于将壳体1内腔已研磨至合格粒径的小颗粒物料输出。本实施例中，进料管2、出料管4、转轴5均沿所述壳体1中轴线方向布置。

本方案中，转轴5下端设置有离心盘7且所述离心盘7位于所述溢流口3上方，离心盘7用于大颗粒物料、小颗粒物料以及研磨介质球的分离。离心盘7下方设置有研磨杆8，研磨杆8用于物料的研磨。所述离心盘7外壁与所述壳体1顶部内壁之间设置有出料通道9，所述离心盘7上表面设置有与所述出料通道9相通的凹槽10且所述凹槽10环绕在所述转轴5外周，所述导料通道6下方与所述凹槽10相导通，所述导料通道6上方与外部相导通。

具体地，由于物料所受离心力与物料的重量呈正比，因此，重量大的大颗粒与研磨介质球会被离心盘7甩向远处而远离离心盘7，这些不合格的物料会与壳体1内壁碰撞继续研磨或在自身重力作用下落回壳体1内腔继续研磨；重量小的且被研磨至规定粒径大小的小颗粒物料则没有被离心盘7甩远，当合格的小颗粒物料在挤压力或提升力作用下源源不断向离心盘7方向运动时，合格的小颗粒物料则会沿出料通道9运动而落入凹槽10内。当合格的小颗粒物料源源不断的涌向凹槽10时，小颗粒物料便会逐渐沿导料通道6向外部传动，直至落到外部被收集。

整体而言，本发明提供的该立式磨机具体实施时，待研磨物料通过进料管2输入，然后通过进料管2上端设置的溢流口3溢流进入壳体1内腔，转轴5带动离心盘7与研磨杆8一起旋转，研磨杆8对物料进行研磨，随着物料的持续输入与研磨，研磨至一定程度且混杂有大颗粒物料、小颗粒物料以及研磨介质球的混合物进入出料通道9，此时，离心盘7会将大颗粒物料以及研磨介质球甩向远处而从混合物中分离出去，小颗粒物料则被继续挤压并沿出料通道9落入至凹槽10内，当合格的小颗粒物料源源不断的涌向凹槽10时，小颗粒物料便会逐渐沿导料通道6向外部流动，直至被推到外部被收集。

相对于传统的立式磨机而言，本方案完全摒弃了传统筛网的出料方式，无需担心出料被堵塞的情况，能有效确保物料的正常出料。此外，本发明采用进料管2溢流这种进料方式可以有效避免设备停机时研磨介质球和物料倒流流入其它管道，可以有效防止设备阀门堵塞或者泵体损害，同时还可以有效防止倒流的浆料凝固堵塞管道和研磨腔。

本实施例中，为进一步方便壳体1内腔研磨介质球的添加，优选地，所述壳体1顶部设置有加珠斗11，所述加珠斗11用于所述壳体1内腔研磨介质球的添加。

本实施例中，为进一步提高物料的研磨质量，优选地，所述研磨杆8设置有至少2根且呈环状布置在所述壳体1内腔。

本实施例中，为进一步方便壳体1内腔研磨介质球的搅动，优选地，所述研磨杆8上设置有层层相间隔布置的拨珠杆12。

本实施例中，为进一步方便研磨介质球从混合物中分离出去，优选地，所述离心盘7上端面设置有脱球片13，所述脱球片13用于剥离物料中混杂的研磨介质球。

本实施例中，为进一步方便物料的导向出料，优选地，所述凹槽10内设置有导料面14，所述导料面14用于将所述凹槽10中的物料导向所述导料通道6下方。

本实施例中，为进一步方便研磨至合格粒径大小物料的收集存储，优选地，所述导料通道6上方连接有出料室15，所述出料室15与外部相导通。此外，本发明可以采用负压方式出料，只需在出料室15上连接抽风机，然后控制抽风机的抽风流量即可。

以上对本发明所提供的一种立式磨机进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。