一种浸胶槽的制作方法

文档序号:9057988阅读:169来源:国知局
一种浸胶槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种浸胶装置,特别涉及一种能够刮胶的浸胶槽。
【背景技术】
[0002]浸胶槽广泛应用于芳纶线等的浸胶工艺中,现有浸胶槽中,浸胶过后的芳纶线经由两个交错设置的光辊引出,由于芳纶线浸胶后携带大量胶液,胶液会残留在光辊上,影响光辊的性能,且造成了胶液的浪费。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于:提供一种浸胶槽,以解决现有浸胶槽在出线时,芳纶线经由光辊后会在光辊上留下大量胶液,影响光辊性能,同时造成胶液浪费的问题。
[0004]本实用新型的方案如下:一种浸胶槽,包括槽体和两个光辊,两个光辊相互平行且均与槽体的开口面相平行,两个光辊交错设置于槽体的开口处,其中至少一个光辊的一侧设置有刮胶板,刮胶板与光辊相平行;
[0005]优选地,两个光辊沿竖直方向交错设置,且两个光辊的轴芯在水平方向的距离小于等于两个光辊的半径之和,使浸胶后的芳纶线等经由光辊引出,多余的胶液留于光辊上并最终落回浸胶槽内;
[0006]优选地,仅位于上方的光辊的一侧设置有刮胶板;
[0007]优选地,刮胶板的刮胶面朝向其所对应的光辊设置,刮胶板上与刮胶面相对的另一侧上设置有驱动刮胶板平移的电动推杆;每个刮胶板上对应设置有两个电动推杆,同一刮胶板上的两个电动推杆分别设置在该刮胶板的两端处;刮胶板及电动推杆均固定设置于槽体的开口面上;
[0008]优选地,刮胶板的长度大于等于所对应的光辊的主体长度。
[0009]本实用新型与现有技术相比,主要优点是在光辊的一侧加装刮胶板后,有效及时地将光辊上的胶液刮掉并使胶液重新落入浸胶槽内,使光辊表面更加干净,保证其使用性能,节约胶液,降低成本,同时,光辊经刮胶板后即可保证表面的平整度,使其能够有效地引导出线及刮掉芳纶线上的多余胶液。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型的主视结构示意图;
[0011]图2是图1的俯视图。
【具体实施方式】
[0012]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将参照附图对本实用新型作进一步地详细描述,
[0013]实施例:
[0014]参照图1和图2,本实施例所述一种浸胶槽,包括:
[0015]槽体I和两个光辊2,两个光辊2相互平行且均与槽体I的开口面相平行,两个光辊2交错设置于槽体I的开口处(两个光辊2沿竖直方向交错设置,且两个光辊2的轴芯在水平方向的距离小于等于两个光辊2的半径之和),位于上方的光辊2的一侧设置有刮胶板3 (刮胶板3的长度大于等于所对应的光辊2的主体长度),刮胶板3与光辊2相平行;刮胶板3的刮胶面朝向其所对应的光辊2设置,刮胶板3上与刮胶面相对的另一侧上设置有驱动刮胶板3平移的电动推杆4,每个刮胶板3上对应设置有两个电动推杆4,同一刮胶板3上的两个电动推杆4分别设置在该刮胶板3的两端处,刮胶板3及电动推杆4均固定设置于槽体I的开口面上。
【主权项】
1.一种浸胶槽,包括槽体(I)和两个光辊(2),两个光辊(2)相互平行且均与槽体(I)的开口面相平行,两个光辊(2)交错设置于槽体(I)的开口处,其中至少一个光辊(2)的一侧设置有刮胶板(3),刮胶板(3)与光辊(2)相平行。2.根据权利要求1所述一种浸胶槽,其特征在于:两个光辊(2)沿竖直方向交错设置,且两个光辊(2)的轴芯在水平方向的距离小于等于两个光辊(2)的半径之和。3.根据权利要求1所述一种浸胶槽,其特征在于:仅位于上方的光辊(2)的一侧设置有刮胶板(3)。4.根据权利要求1所述一种浸胶槽,其特征在于:刮胶板(3)的刮胶面朝向其所对应的光辊(2)设置,刮胶板(3)上与刮胶面相对的另一侧上设置有驱动刮胶板(3)平移的电动推杆⑷。5.根据权利要求4所述一种浸胶槽,其特征在于:每个刮胶板(3)上对应设置有两个电动推杆(4),同一刮胶板(3)上的两个电动推杆(4)分别设置在该刮胶板(3)的两端处。6.根据权利要求1所述一种浸胶槽,其特征在于:刮胶板(3)的长度大于等于所对应的光辊(2)的主体长度。7.根据权利要求4或5所述一种浸胶槽,其特征在于:刮胶板(3)及电动推杆(4)均固定设置于槽体(I)的开口面上。
【专利摘要】本实用新型提供一种浸胶槽,包括槽体和两个光辊,两个光辊相互平行且均与槽体的开口面相平行,两个光辊交错设置于槽体的开口处,其中至少一个光辊的一侧设置有刮胶板,刮胶板与光辊相平行。以解决现有浸胶槽在出线时,芳纶线经由光辊后会在光辊上留下大量胶液,影响光辊性能,同时造成胶液浪费的问题。本实用新型属于浸胶领域。
【IPC分类】B05C3/132, B05C11/10
【公开号】CN204710652
【申请号】CN201520370220
【发明人】茅惠新, 叶舟, 谭经朋, 李勇, 宋明根
【申请人】浙江尤夫高新纤维股份有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月2日
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