专利名称：钨-钴-稀土合金电镀液的制作方法
技术领域：
:
本发明涉及材料表面处理领域中的钨一钴一稀土合金电镀液，特别是对金属材料表面进 行钨钴 一 稀土合金施镀的电镀液配方。
目前，装饰性及功能性的铬镀层发展迅猛，得到了广泛的应用。但在电镀过程中，电流 效率很低，且六价铬毒性大，严重污染环境。随着科学技术的进步和工业的迅速发展，人们 对环保意识也逐步增强各国也加强了管理和限制。因此，研究代铬镀层一直是人们专注的课 题。
一种可能解决的方案视电镀钨合金。钨熔点高、硬度大、化学稳定性好，虽然不能自水 溶液中单独沉积，但能与钴元素通过诱导共沉积机理以合金形式析出，得到具有耐蚀、耐磨 性能、良好的磁性能、催化特性和吸波特性的W-Co合金镀层，其镀层外观色泽很接近镀铬 层，镀液的分散能力与覆盖能力也较好。由于存在W-Co合金镀液温度较高，沉积速度小且 不容易控制及涂层硬度较小等缺点而限制了其应用。
稀土以独特的物理化学特性，微小的用量残生显著的效果而被广泛的用于材料表面处理 领域，然而在W-Co合金镀中添加稀土的复合镀液却没有报道过。
本发明目的在于提供的一种适用于室温，沉积速度快，易控制和操作的钨一钴一稀土合 金电镀液。
本发明的钨一钴一稀土合金电镀液电镀液配方组成为
背景技术：
:
发明内容:
钨酸钠(Na2WCV2H2(D) 硫酸钴(CoS04)
稀土
60~100克/升
15~30克/升
l克/升
氯化钠(NaCl)
柠檬酸
6~10克/升
80~100克/升
酒石酸钾钠
60~100克/升
光亮添加剂
2~4克/升
辅助络合剂
4~6克/升
PH值 5 6
电流密度 4 8A/dm2
温度 室温25 °C
加水至 1000ml
本发明与现有的技术相比，具有如下的优点
1. 由于本发明采用多元络和剂与稀土组成的电镀液，降低了制备合金镀层的温度，施镀 过程不用加温，提高了镀层的沉积速度。
2. 本发明配方中的各种化学试剂对环境危害小，工艺稳定，溶液成分简单且维护调整方 便，稳定性好，配制后可长期存放，无酸雾放出，工作环境好，效率高。
具体实施例方式
下面结合实施例，对本发明作进一步说明，以便于该专利的实施。 实施例1
1. 配制混合稀土溶液，分别称取CeO2和La2O3各0.5克，将其混合，加入10毫升浓硝 酸将其溶解。
2. 在常温状态下，称取钨酸钠80克，硫酸钴20克，氯化钠8克，柠檬酸90克，酒石 酸钾钠90克，光亮添加剂葡萄糖和硫脲各1.5克，辅助络合剂硼酸4克，先将上述药品分别 用少量蒸馏水溶解，然后混合稀释至800毫升。
3. 将1中配置好混合稀土溶液中与2中配置好的溶液混合，加入蒸馏水至1000毫升， 便完成了整个镀液的配制过程，配制好的溶液的pH值为5 6。
4. 在室温条件下，阳极采用为石墨做电极，阴极为施镀镀零件，电流密度为6A/dn^下进 行电镀，即可得到光亮的钨一钴一稀土合金镀层。
权利要求
1.一种钨-钴-稀土合金电镀液，其特征在于其电镀液配方如下钨酸钠(Na2WO4·2H2O)60～100克/升硫酸钴(CoSO4) 15～30克/升稀土1克/升氯化钠(NaCl)6～10克/升柠檬酸 80～100克/升酒石酸钾钠 60～100克/升光亮添加剂 2～4克/升辅助络合剂 4～6克/升PH值5～6电流密度4～8A/dm2温度室温25℃加水至 1000ml。
2. 根据权利要求l所述的钨一钴一稀土合金电镀液，其特征在于所述的光亮添加剂为 葡萄糖和硫脲，其比例为1: 1。
3. 根据权利要求1所述的钨一钴一稀土合金电镀液，其特征在于所述的稀土为混合稀 土Ce02和La203，其比例为1: 1。
4. 根据权利要求l所述的钨一钴一稀土合金电镀液，其特征在于所述的辅助络合剂为 硼酸。
全文摘要
本发明公开了一种钨-钴-稀土合金电镀液配方，以解决目前对环境污染严重的铬镀层，本发明的配方包括钨酸钠、硫酸钴、稀土、氯化钠、柠檬酸、酒石酸钾钠、光亮添加剂和辅助络合剂。由于本发明采用多元络和剂与稀土组成的电镀液，降低了制备合金镀层的温度，施镀过程不用加温，提高了镀层的沉积速度。而且，电镀液配方中的各种化学试剂对环境危害小，工艺稳定，溶液成分简单且维护调整方便，稳定性好，配制后可长期存放，无酸雾放出，工作环境好，效率高。
文档编号C25D3/56GK101182645SQ20071013858
公开日2008年5月21日 申请日期2007年8月2日 优先权日2007年8月2日
发明者俊 刘, 李金辉, 颢 陈, 陈一胜 申请人:江西理工大学