一种陶瓷基板表面选择性制备金锡共晶焊料的方法与流程

文档序号:12416462阅读:1190来源:国知局
一种陶瓷基板表面选择性制备金锡共晶焊料的方法与流程

本发明涉及一种焊料制备方法,具体地说,涉及一种陶瓷基板表面选择性制备金锡共晶焊料的方法。



背景技术:

金锡合金焊料具有强度高,抗氧化性能好,抗热疲劳和蠕变性能优良,熔点低,流动性好等特点,是光电子封装领域中最理想的焊料。随着光电子器件的快速发展,对金锡合金焊料的需求也越来越大。由于目前金锡共晶焊料的制作方法一般为物理法,如金锡焊料预成型片;也有采用电沉积的方法的,但是其配方多为氰化金等氰化物体系,对环境污染严重且镀液的稳定性差,易分解。

在高导热基板实现散热时,焊料的导热效果严重影响了整个部件的散热效果,从而使散热的效率降低。



技术实现要素:

本发明的目的是解决现有技术的不足,提供一种陶瓷基板表面选择性制备金锡共晶焊料的方法,用电镀和光刻工艺联合制备陶瓷表面金锡共晶焊垫,可用于在陶瓷基板上选择性制备金锡共晶焊料,具有可实现选择性电沉积,凸点厚度可控等优点,适合于光电子领域的封装。

本发明是通过以下技术方案实现的:

一种陶瓷基板表面选择性制备金锡共晶焊料的方法,其特征在于包括以下步骤:(1)陶瓷基板上物理法或电化学方法镀上金属层;(2)在金属层上用光刻技术进行处理得到图形层;(3)用金属的蚀刻液对金属层进行蚀刻,得到图形化的金属层;(4)在图形化的金属层上电沉积金锡合金,形成焊料,电沉积采用的金锡合金电镀液为无氰体系的电镀液,包括金盐、锡盐,光亮剂、络合剂和抗氧化剂。

进一步地,所述陶瓷基板为氧化铝陶瓷基板或氮化铝陶瓷基板。

进一步地,所述陶瓷基板的厚度为0.5~5μm。

进一步地,所述金属层的厚度在1~100nm。

进一步地,所述光刻技术是光刻胶技术,包括正胶刻技术或负胶刻技术。

进一步地,所述图形层为连接的图形。

优选地,金锡合金电镀液中还包括铟盐和镓盐。铟盐和镓盐的加入,进一步保障了金锡合金电镀液的稳定性,且使金锡共晶焊料的熔点降低至276℃±0.2℃。

优选地,金锡合金电镀液的pH为3~7。

与现有技术相比,本发明具有以下特点:

1.现有技术所制得的金锡合金共晶焊料多为预成型片,其形状一定,由于金锡合金脆性大不适合机械加工,无法得到多种形状的焊料,而本发明能够选择性电沉积金锡共晶焊料,可以制备各种图形形状的凸点焊料;

2.本发明电沉积法制备的金锡合金共晶焊料具有成本低、生产效率高、适合复杂形状和小尺寸镀件等特点;

3.本发明通过电沉积的方法制备金锡共晶焊料,所制得的焊料凸点的厚度可控且厚度在10~50μm,通过控制电流密度和电镀时间可以得到不同厚度的凸点,满足不同的封装需求;

4.本发明的金锡合金焊料制备工艺,其金锡合金不仅具有良好的润湿性、焊接性和抗腐蚀性,同时本发明所述的镀液为无氰的电镀体系,相比其他氰化物体系镀金具有环保无害等优点,且其稳定性也较高;

5.本发明制备的金锡共晶焊料熔点在280℃±0.2℃,焊接性能好,气密性高;

6.本发明制备的金锡共晶焊料具有光亮平整的特点,在与需要焊接的物品上能够形成气密性良好的焊接层,且具有良好的机械性能。

附图说明

图1是实施例1的陶瓷基板上蚀刻后得到的阵列图形示意图;

图2是实施例2制备得到的金锡共晶凸点放大示意图;

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1

在厚度为0.5μm的氧化铝陶瓷基板上通过溅射厚度为20nm的第一导电层,再电镀铜作为第二导电层(厚度为50nm),通过光刻技术进行处理得到图形层,再通过蚀刻铜得到如图1所示阵列图形。对该阵列图形电镀金锡合金焊料,金锡合金电镀液为无氰体系的电镀液,pH为3~7,包括金盐、锡盐,光亮剂、络合剂和抗氧化剂,最后得到图形化的金锡共晶焊料。

实施例2

在厚度为0.5μm的高导热的氮化铝基板上通过电化学方法镀上金层(厚度为1nm),然后通过正胶刻工艺和蚀刻技术得到图形化的金层,在金层上实现电镀金锡合金焊料,电镀液为无氰体系的电镀液,包括金盐、锡盐,光亮剂、络合剂、抗氧化剂和铟盐、镓盐。最后得到图形化的金锡共晶焊料(其中两个金锡共晶凸点放大图如图2)。

实施例3

在厚度为5μm的氧化铝陶瓷基板上通过电化学方法镀上金层(厚度为

100nm),然后在金层上通过负胶刻处理得到图形层,用金的蚀刻液对金层蚀刻得到图形化的金层,在金层上实现电镀金锡合金焊料,电镀液为无氰体系的电镀液,包括金盐、锡盐,光亮剂、络合剂、抗氧化剂和铟盐、镓盐。最后得到图形化的金锡共晶焊料。

实施例4

在厚度为5μm的高导热的氮化铝基板上通过溅射厚度为30nm第一导电层,再电镀铜作为第二导电层(厚度为20nm),通过光刻技术进行处理得到图形层,再蚀刻铜得到图形化铜层,在图形化铜层上实现电镀金锡合金焊料,电镀液为无氰体系的电镀液,pH为3~7,包括金盐、锡盐,光亮剂、络合剂和抗氧化剂。最后得到图形化的金锡共晶焊料。

本发明并不局限于上述实施方式,如果对本发明的各种改动或变形不脱离本发明的精神和范围,倘若这些改动和变形属于本发明的权利要求和等同技术范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变形。

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