技术特征：
技术总结
本发明公开了一种高发射率阳极氧化膜层的制备方法，属于铝及其铝合金表面处理技术领域，该方法能够提供一种致密、均匀、不开裂的阳极氧化膜；该方法的步骤为：(1)前处理；(2)阳极氧化；(3)扩孔氧化；(4)着色预处理；(5)着色；采用硫酸己二酸阳极氧化工艺步骤制备的阳极氧化膜层厚度薄(约5~7m)、致密、均匀，孔隙率较低，可避免由于空间环境变化导致膜层出现裂纹，解决膜层开裂问题。该方法制备的阳极氧化膜的发射率比较高。
技术研发人员：程永青
受保护的技术使用者：湖北安登环保科技有限公司
技术研发日：2018.06.21
技术公布日：2018.11.09