一种电镀液槽系统的制作方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电镀领域，尤其是涉及一种电镀液槽系统。
【【背景技术】】
[0002]金属在各种不同环境下使用时，由于外界介质在金属表面上的化学和电化学作用而产生了金属腐蚀。金属腐蚀的结果，不仅是金属本身的损失，而且由于金属制品结构的损坏而失去使用价值造成人力物力的浪费，其价值比金属本身要大很多倍。因此，在大量生产金属和金属制品的同时，就必须与金属的腐蚀进行斗争。电镀工艺是增加金属防护性能及改善金属表面质量的最有效的方法之一。金属制品进行电镀就是为了保护金属不受腐蚀、改善金属制品的性能和增加制品表面的美观。
[0003]金属的电镀过程通常都是在电镀液槽内进行。传统的电镀液槽通常只有单个或者多个独立的电镀液槽。在这种情况下，当产品电镀完一层金属要进行下一层金属电镀时，就需要把产品从一个电镀液槽中提起再运送至另外一个电镀液槽中放下进行电镀。这种电镀液槽使得电镀时需要增加运输设备把产品从一个电镀液槽运至其他电镀液槽，这样既增加了设备投入成本，又难以保证整个电镀过程的连续性和电镀的质量。
[0004]除了电镀液槽本身会对电镀作业的质量产生影响外，当电镀液槽内的药水不同时，也会对电镀液槽产生不同的要求。比如K4沙丁镍这种电解质，其有效成分颗粒较大，在过滤循环及补液过程中易发生分解并产生沉淀物，从而使K4沙丁镍电镀液的使用寿命缩短，并使电镀产生的K4沙丁镍镀层厚度不均匀。
【【实用新型内容】】
[0005]为克服现有电镀液槽装置不能连续进行电镀，并且电镀过程中电镀层厚度不均匀的缺点，本实用新型提供一种可以进行连续电镀，在电镀过程中电镀层均匀的电镀液槽系统。
[0006]本实用新型解决技术问题方案是提供一种电镀液槽系统，包括相配合的电镀液子槽和电镀液母槽，电镀液母槽内设置有液位隔板，液位隔板把电镀液母槽分为集液槽和供液槽，集液槽和供液槽之间设置有至少一第一电镀液通路和第二电镀液通路，所述第二电镀液通路依次连通于供液槽，电镀液子槽以及集液槽。
[0007]优选地，所述液体隔板的高度为电镀液母槽高度的三分之一至五分之四。
[0008]优选地，所述电镀液子槽内部设置有一子槽隔板，所述子槽隔板将所述电镀液子槽分隔为一电镀空间与一空腔结构，所述电镀空间位于空腔结构上方，子槽隔板上设置了多个孔洞，空腔结构的底部设置有一子槽连接口。
[0009]优选地，所述子槽连接口对应在子槽隔板上的位置与所述子槽隔板上的多个孔洞位置错开。
[0010]优选地，所述电镀液子槽设置在电镀液母槽的上部、或中部或侧部。
[0011 ] 优选地，所述电镀液子槽设置在电镀液母槽的侧部，电镀液母槽与电镀液子槽的侧壁上设置有连通所述二者的管道。
[0012]优选地，所述电镀液子槽和电镀液母槽上分别设置电镀液子槽凹形槽口和电镀液母槽凹形槽口。
[0013]优选地，所述电镀液母槽上设置总液位控制器，总液位控制器包括上液位感应器、下液位感应器和总液位管，所述总液位管上设置有电子磁阀开关，所述电子磁阀开关电性连接于上液位感应器、下液位感应器。
[0014]优选地，所述电镀液母槽上设置子母槽连接结构，所述电镀液子槽架设于子母槽连接结构上。
[0015]优选地，所述第一电镀液通路至少包括一循环出液口与一循环进液口，所述循环出液口设置在集液槽底部，所述循环进液口设置在供液槽底部。
[0016]与现有技术相比，本实用新型的一种电镀液槽系统包括相配合的电镀液母槽和电镀液子槽，这样相互配合的位置关系可以根据实际需要充分合理利用设备空间，用最理想的位置关系来进行电镀作业的连续生产；电镀液母槽内包括一块液位隔板，该液位隔板将电镀液母槽划分为集液槽和供液槽，经过电镀作业的电镀液回流至集液槽，这样就可以避免两个槽内的新旧电镀液混合在一起，保证了电镀液的质量。另外，液位隔板的高度是电镀液母槽侧壁高度的三分之一至五分之四，这样的高度设置既可以防止新旧电镀液混合在一起，但是当集液槽内的电镀液液面高过这一高度时，其上部质量比较好的电镀液可以从液位隔板溢出，流入供液槽内，保证了供液槽对电镀液的持续供应。电镀液子槽内部设置有一子槽隔板，所述子槽隔板将所述电镀液子槽分隔为一电镀空间(图中未不出)与一空腔结构，所述电镀空间(图中未示出)位于空腔结构上方，子槽隔板上设置了多个孔洞，子槽连接口对应在子槽隔板上的位置与所述子槽隔板上的多个孔洞位置错开，空腔结构的底部设置有一子槽连接口。这样的设置可以在电镀液进入到电镀液子槽时起到分流缓冲的作用，减轻对电镀液的扰动。电镀液母槽上设置总液位控制器，总液位控制器包括上液位感应器、下液位感应器和总液位管，所述总液位管上设置有电子磁阀开关(图中未示出)，所述电子磁阀开关(图中未示出)电性连接于上液位感应器和下液位感应器，总液位控制器可以对电镀液槽系统内的总液位起到控制作用，防止液位过高溢出浪费和防止液位过低造成机器设备故障。此外，通过过滤补液装置、上液位栗和下液位栗对电镀液实现的连续循环，可以在较短的时间内清除电镀作业产生的沉淀物，不断补充质量好的电镀液，保证了电镀作业的质量。尤其适合K4沙丁镍电镀液的电镀生产。
【【附图说明】】
[0017]图1是本实用新型中电镀液槽装置第一实施例的示意图；
[0018]图2是本实用新型中电镀液槽装置第二实施例的示意图；
[0019]图3是本实用新型中电镀液槽装置第三实施例的示意图；
[0020]图4是本实用新型中电镀液槽装置第四实施例的示意图。
【【具体实施方式】】
[0021]为了使本实用新型的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0022]请参阅图1，本实用新型提供了一种电镀液槽系统5，该电镀液槽系统5包括电镀液母槽51、电镀液子槽52、过滤补液装置53、上液位栗54和下液位栗55。其中，该电镀液子槽52设于电镀液母槽51上方(在所有实施例中，上、下、左、右、内、外等位置限定词仅限于指定视图上的相对位置，而非绝对位置)，上液位栗54—端与电镀液子槽52的底部相连，另一端伸入供液槽513内。下液位栗55 —端与电镀液母槽51的底部相连，另一端与过滤补液装置53相连。
[0023]电镀液母槽51为一上表面敞开的槽体，该电镀液母槽51内设置有一块液位隔板511，该液位隔板511将电镀液母槽51划分为集液槽512和供液槽513，集液槽512和供液槽513在液位隔板511的高度范围内完全隔开。电镀液母槽51底板设置有循环出液口 514和循环进液口 515，循环出液口 514贯穿集液槽512底部，循环进液口 515贯穿供液槽513底部，循环出液口 514和循环进液口 515之间有至少一第一电镀液通路。集液槽512、电镀液子槽52和供液槽513形成第二电镀液通路。电镀液母槽51内还设置有子母槽连接结构516，用于连接电镀液母槽51和电镀液子槽52。另外，电镀液母槽51内还设置有总液位控制器517，用来控制电镀液槽系统5内的总液位。电镀液母槽51在电镀作业方向上的一对侧壁上设置有电镀液母槽凹形槽口 518，方便形成电镀作业通路，以实现连续电镀。
[0024]液位隔板511是一块长方体薄板，其沿着电镀作业的方向设置在电镀液母槽51的底板上，液位隔板511的底端跟电镀液母槽51的底板封闭连接，液位隔板511的两侧端分别和电镀液母槽51的两侧壁封闭连接。这样使得液位隔板511可以在自身高度范围内将电镀液母槽51划分为集液槽512和供液槽513，防止低于液位隔板511高