分簇射孔用扶正降阻装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种分簇射孔用扶正降阻装置，适用于在常规油气及非常规油气开发领域的分簇射孔。
【背景技术】
[0002]现有技术中，分簇射孔技术在非常规油气层开采领域中的应用越来越多，例如，中国专利公开号204357403U公开的分簇定向射孔结构，其公开日为2015-05-27。
[0003]但随着分簇射孔技术在非常规油气层开采领域中的不断推广应用，施工作业所面临的井况愈加复杂，如水平井射孔施工作业需求的增加，射孔枪串簇数的增多，枪串长度的增加等也导致施工遇卡情况时有发生。因此非常有必要对下井管串在井筒中的运动采取扶正及减阻措施，提高管串的通过能力。但现有分簇射孔作业中还没有此类装置的发明及运用。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的在于克服现有技术存在的上述问题，提供一种分簇射孔用扶正降阻装置。本实用新型用于分簇射孔作业中对下井管串在井下套管中运动时进行扶正降阻，抗冲击及径向载荷承受能力强。
[0005]为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下:
[0006]一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体，其特征在于:所述装置本体两端为连接端，装置本体上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体径向均匀分布的滚动轴承，且多个滚动轴承位于同一圆周上。
[0007]所述装置本体上开有本体凹槽，滚动轴承通过轴承轴设置在本体凹槽中，轴承轴两端通过销钉固定在本体凹槽中。
[0008]所述相邻两组滚动轴承结构交错分布。
[0009]所述每组滚动轴承结构包括5个滚动轴承。
[0010]所述滚动轴承结构为两组，组与组之间的相位差为36°。
[0011]采用本实用新型的优点在于:
[0012]1、本实用新型利用滚动轴承径向载荷承受能力强、摩擦阻力小、启动灵敏、易于更换等优点，嵌入转换接头，分布于分簇射孔枪串中通过能力最弱的几个关键部位，在起下枪串时对整个枪串起到扶正降阻的作用。
[0013]2、本实用新型采用滚动轴承代替普通滚珠，避免因井液中细小颗粒堆积及侵蚀导致转动失灵，并具备更强的载荷承受能力。
[0014]3、本实用新型中，滚动轴承结构在分布上，采取两组圆周交错安装形式，每组沿圆周径向均布5个轴承，组与组之间相位差为36°，以此保证始终都有1个轴承与套管壁接触，发挥扶正及降阻作用。
[0015]4、本实用新型中，轴承的安装采用销钉固定轴承轴两端在本体凹槽中的方式，拆装快捷。
[0016]5、本实用新型能有效降低分簇射孔下井管串传输摩擦阻力，提高管串通过能力，适用于射孔施工作业，尤其适合分簇射孔施工作业，随着分簇射孔作业的不断推广应用，有效避免下井管串遇卡事故发生的扶正减阻装置有着广阔的市场前景。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型主视结构示意图
[0018]图2为本实用新型剖视结构示意图
[0019]图中标记为:1、装置本体，2、滚动轴承，3、轴承轴，4、销钉。
【具体实施方式】
[0020]实施例1
[0021]一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体1，所述装置本体1两端为连接端，装置本体1上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体1径向均匀分布的滚动轴承2，且同一组中的多个滚动轴承2位于同一圆周上。
[0022]本实施例中，所述装置本体1上开有本体凹槽，滚动轴承2通过轴承轴3设置在本体凹槽中，轴承轴3两端通过销钉4固定在本体凹槽中。
[0023]本实施例中，所述相邻两组滚动轴承结构交错分布。即相邻两组滚动轴承结构中，其中一组中的滚动轴承，位于另一组与其相邻的两滚动轴承之间的上方或下方，且在与其相邻的两滚动轴承的中线上。
[0024]本实施例中，所述每组滚动轴承结构包括5个滚动轴承2。
[0025]本实施例中，所述滚动轴承结构为两组，组与组之间的相位差为36°。
[0026]本实用新型应用在分簇射孔管串中多个连接段之间，通过利用嵌入滚动轴承将滑动摩擦变为滚动摩擦的原理，降低枪串的传输摩擦阻力，同时也对枪串在套管中的位置起到扶正作用，减小遇卡几率，以此保障施工的顺利进行。
[0027]实施例2
[0028]本实施例结合附图对本实用新型做进一步说明。
[0029]如图所示，图中装置本体1，两端的扣型连接端根据装置在分簇射孔管串中所处位置而定；滚动轴承2，共10个，分成两组沿径向均布在本体上，滚动轴承2设置在轴承轴3上，通过销钉4将轴承轴固定在装置本体1上。
[0030]本实用新型装配结构如下:将滚动轴承2依次放入本体凹槽内，分别穿入轴承轴3，各拧上两颗固定销钉4将其定位。
[0031]下井施工前依次将安装好的扶正降阻装置分别连接在分簇射孔管串的各个预定部位即可，对管串在套管运动时起到扶正降阻作用，为分簇射孔作业提供安全技术保障。
[0032]本实用新型主要解决的技术问题有:1、解决扶正降阻装置上滚珠的选型，普通滚珠表面硬度及抗疲劳强度较低，耐磨性及冲击韧性达不到要求，而且井液中所含颗粒进入滚珠安装缝隙堆积，造成滚珠转动失灵进而失去降阻功能；2、滚珠的分布，即必须保证无论下井管串发生任何扭转角度，均有轴承与井筒壁接触发挥减阻作用；3、解决滚珠的嵌入安装固定方式，并做到拆装、更换简便。
【主权项】
1.一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体(1)，其特征在于:所述装置本体(1)两端为连接端，装置本体(1)上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体(1)径向均匀分布的滚动轴承(2)，且多个滚动轴承(2)位于同一圆周上。2.根据权利要求1所述的分簇射孔用扶正降阻装置，其特征在于:所述装置本体(1)上开有本体凹槽，滚动轴承(2)通过轴承轴(3)设置在本体凹槽中，轴承轴(3)两端通过销钉(4)固定在本体凹槽中。3.根据权利要求2所述的分簇射孔用扶正降阻装置，其特征在于:所述相邻两组滚动轴承结构交错分布。4.根据权利要求3所述的分簇射孔用扶正降阻装置，其特征在于:所述每组滚动轴承结构包括5个滚动轴承(2)。5.根据权利要求4所述的分簇射孔用扶正降阻装置，其特征在于:所述滚动轴承结构为两组，组与组之间的相位差为36°。
【专利摘要】本实用新型公开了一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体，所述装置本体两端为连接端，装置本体上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体径向均匀分布的滚动轴承，且多个滚动轴承位于同一圆周上。本实用新型用于分簇射孔作业中对下井管串在井下套管中运动时进行扶正降阻，抗冲击及径向载荷承受能力强。
【IPC分类】E21B17/10, E21B43/116
【公开号】CN204960904
【申请号】CN201520729774
【发明人】陈华彬, 唐凯, 郭晓燕, 任国辉, 陈建波, 杨登波, 欧跃强, 李妍僖
【申请人】中国石油集团川庆钻探工程有限公司
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年9月21日