技术特征：
1.一种催化氧化处理等离子产生臭氧装置，其结构包括散热块(1)、防护框架(2)、控制器(3)、防护柜门(4)、机体(5)、支撑脚(6)、输送管(7),其特征在于：所述散热块(1)嵌入安装在机体(5)的左端上，所述防护框架(2)与机体(5)为一体化结构，所述控制器(3)嵌入安装在机体(5)的顶端上，所述防护柜门(4)与机体(5)的前端铰链连接，所述支撑脚(6)与机体(5)的底端为一体化结构，所述输送管(7)的右端与机体(5)的左端相焊接，所述输送管(7)包括螺纹块(71)、凸块(72)、外壳(73)、推气槽(74)、推气管道(75)、吹气槽(76)、喷块(77)、密封层(78)、推气杆(79)、受压推块(710)，所述螺纹块(71)与外壳(73)的左部分为一体化结构，所述凸块(72)设于外壳(73)内，所述推气槽(74)与外壳(73)为一体化结构，所述推气管道(75)设于吹气槽(76)上，所述喷块(77)嵌入安装在外壳(73)内的右端上，所述密封层(78)嵌入安装在吹气槽(76)的左端上，所述推气杆(79)与受压推块(710)为一体化结构，所述外壳(73)的右端与机体(5)的左端相焊接。2.根据权利要求1所述的一种催化氧化处理等离子产生臭氧装置，其特征在于：所述防护柜门(4)位于控制器(3)的下方，所述散热块(1)位于输送管(7)的正上方。3.根据权利要求1所述的一种催化氧化处理等离子产生臭氧装置，其特征在于：所述推气槽(74)为环形凹槽结构。4.根据权利要求1所述的一种催化氧化处理等离子产生臭氧装置，其特征在于：所述受压推块(710)为环板结构，其上设有半圆凹槽结构。5.根据权利要求1所述的一种催化氧化处理等离子产生臭氧装置，其特征在于：所述密封层(78)为环装结构，其内为空槽结构。