1.一种高浓度气态汞发生器，其特征在于，包括：
封装液态汞的汞源容器，该汞源容器内设置至少一层隔离装置，所述隔离装置上留有气体通孔；
容置汞源容器的温控装置；
连通汞源容器的小流量载气管路；
小流量载气携带汞蒸气与大流量稀释气管路连通。
2.根据权利要求1所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述隔离装置为带凹孔的玻璃板。
3.根据权利要求1或2所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述温控装置包括温控加热炉以及支撑温控加热炉的支架。
4.根据权利要求3所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述温控加热炉内设有风扇，具体用于使温控加热炉内部的气流分布均匀。
5.根据权利要求4所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述温控加热炉内还设有温度传感器和温度控制器，分别用于监测加热炉内温度和调节控制加热炉内温度，所述温度传感器和温度控制器连接。
6.根据权利要求1或2或5所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述小流量载气管路通过流量控制箱与汞源容器连通，所述大流量稀释气管路通过流量控制箱与汞源容器的输出端连通。
7.根据权利要求6所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述流量控制箱内包括：分别与小流量载气管路和大流量稀释气管路连通的载气质量流量计和稀释气质量流量计。
8.根据权利要求7所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述流量控制箱内还包括：连通载气质量流量计和汞源容器的第一单向阀，以及连通稀释气质量流量计和汞源容器输出端的第二单向阀。
9.根据权利要求1或8所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，还包括：与汞源容器输出端连通的模拟气体管路，所述模拟气体管路通过流量控制箱与汞源容器的输出端连通。
10.根据权利要求9所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述流量控制箱内包括：与模拟气体管路连通的稀释气浮子流量计。
11.根据权利要求10所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述流量控制箱内还包括：连通稀释气浮子流量计和汞源容器输出端的第三单向阀。
12.根据权利要求1或10所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，还包括：置于小流量载气管路与汞源容器之间的预热盘管，具体用于为小流量载气增加预热，使其受热均匀。
13.根据权利要求12所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述预热盘管置于温控装置内。
14.根据权利要求1或13所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，还包括：与汞源容器输出端连通的后端反应系统，用于小流量载气携带汞蒸气与大流量稀释气混合后的含汞气体参与反应。
15.根据权利要求14所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，还包括：泄压阀和尾气净化器，具体用于当输送到后端反应系统的含汞气体气路发生堵塞时，气体压力超过设定气压，泄压阀即自动打开，使含汞气体经过尾气净化器净化后排放。
16.根据权利要求1或15所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述汞源容器采用石英玻璃容器。
17.根据权利要求16所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述小流量载气和大流量稀释气的气源采用氮气N2或者压缩空气。
18.根据权利要求17所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述小流量载气的流量范围为10ml/min-100ml/min，大流量稀释气的流量范围为2L/min-30L/min。
19.根据权利要求1或18所述的高浓度气态汞发生器，其特征在于，所述温控装置内温度范围为30-200℃。