一种基于硅硅键合的高精度压力传感器的制作方法

文档序号:12253365阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于硅硅键合的高精度压力传感器,它包括有敏感硅片层及衬底硅片层,其特征是:敏感硅片层结构如下:凹形敏感硅片层的上表面设置有隔离层,隔离层上表面设置有焊盘、金属引线、屏蔽层、衬底焊盘,隔离层下表面设置有N+隔离区、P+连结区和压敏电阻,屏蔽层与N+隔离区通过引线孔连通,焊盘与金属引线连结在一起,金属引线与P+连结区通过引线孔连通,P+连结区之间设置有压敏电阻,凹形敏感硅片层的底部设置有截面为倒凹字形的硅杯,该硅杯区域为压力膜片;敏感硅片层的硅杯杯口与衬底硅片层键合在一起,衬底硅片层的中心位置制备有导压通孔。

2.根据权利要求1所述的基于硅硅键合的高精度压力传感器,其特征在于:所述压敏电阻和P+连接区外侧隔离有一圈N+隔离区层。

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