技术特征：
技术总结
本发明提出了一种太赫兹焦平面响应率及响应率不均匀性测试系统，包括：太赫兹辐射源、太赫兹功率计、三维位移台和计算机；所述太赫兹辐射源对被测太赫兹焦平面进行直接照射，所述三维位移台用于对所述太赫兹功率计及被测太赫兹焦平面进行平移以及二维扫描，在太赫兹激光照射截面方向上对太赫兹功率计进行二维平面扫描，对每个像元都进行光照；所述计算机采用激光能量曲面拟合的方式，求得太赫兹功率计每个像元上的太赫兹光功率值，得出响应率及响应率不均匀性的值；采用优化后的高斯曲面拟合模型，实现激光能量形状的拟合。本发明使用太赫兹辐射源来实现响应率和响应率非均匀性的测试，无需面源黑体，节省了测试成本。
技术研发人员：王洪超;吴斌;刘红元;杨延召;李国超;张万成
受保护的技术使用者：中国电子科技集团公司第四十一研究所
技术研发日：2018.11.15
技术公布日：2019.02.12