一种表面活性剂生产取样设备的制作方法

本实用新型涉及表面活性剂生产技术领域，尤其涉及一种表面活性剂生产取样设备。

背景技术：

表面活性剂是指加入少量能使其溶液体系的界面状态发生明显变化的物质，具有固定的亲水亲油基团，在溶液的表面能定向排列，目前，表面活性剂的制作需要经过搅拌这道工序，需要搅拌的原材料大部分为液体，通过搅拌操作将各种原液混合起来。

公开号为cn210846037u的专利公开了一种表面活性剂生产装置，包括装置主体，所述装置主体底部的外侧固定有支撑腿，且装置主体内部的一侧设置有延伸至其上方的取样管，所述取样管一侧的顶端连接有连接筒，且取样管一侧的顶端连通有贯穿连接筒的吸筒，所述吸筒的内部活动连接有活塞，且活塞远离取样管的一侧连接有延伸至吸筒外部的推拉杆。但是该装置搅拌效果不好，存在搅拌不均匀的情况。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种表面活性剂生产取样设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种表面活性剂生产取样设备，包括底座，所述底座的顶部开设有环形滑轨，环形滑轨上等距离均匀滑动安装有多个滑块，多个滑块的顶端均延伸至底座的上方，且固定安装有同一个装置主体，装置主体的四周固定套接有外齿圈，底座顶部的一侧固定安装有支撑板，支撑板的顶部固定安装有横板，且横板位于装置主体的上方，横板底部远离支撑板的一侧固定安装有电机，电机的输出轴上固定安装有转轴，转轴上固定套接有第一传动轮和第一齿轮，且第一传动轮位于第一齿轮的上方，横板的底部转动安装有第一搅拌轴，第一搅拌轴的底端延伸至装置主体内，且固定套接有第二齿轮，第一搅拌轴的两侧均等距离均匀固定安装有多个位于装置主体内的第一搅拌叶，且多个第一搅拌叶均位于第二齿轮的上方。

优选的，所述外齿圈位于支撑板和第一齿轮之间，且第一齿轮与外齿圈相啮合。

优选的，所述第一搅拌轴上固定套接有位于装置主体上方的第二传动轮，且第二传动轮和第一传动轮之间套接有同一个传动带。

优选的，所述装置主体底部内壁上转动安装有两个第二搅拌轴，且第一搅拌轴位于两个第二搅拌轴之间。

优选的，两个第二搅拌轴上均固定套接有第三齿轮，且两个第三齿轮均与第二齿轮相啮合。

优选的，两个第二搅拌轴两侧的顶部均固定安装有第二搅拌叶。

本实用新型中，所述一种表面活性剂生产取样设备，使用时，先将表面活性剂的原料从进料管导入装置主体内，然后接通电源，按下电机的启动开关，启动电机，电机的输出轴能够带动转轴转动，从而带动固定套接在转轴上的第一传动轮和第一齿轮转动，因第一齿轮和外齿圈相啮合，故而能够带动外齿圈反方向转动，因外齿圈固定套接在装置主体上，故而能够使得装置主体转动，继而带动装置主体内的原料反方向转动，同时因第一传动轮和第二传动轮之间套接有同一个传动带，故而随着第一传动轮的转动，能够通过传动带带动第二传动轮转动，而第二传动轮是固定套接在第一搅拌轴上的，故而能够使得第一搅拌轴转动，从而带动固定安装在第一搅拌轴上的多个第一搅拌叶转动，继而对装置主体内的原料进行搅拌，此时因第一搅拌叶的搅拌方向和装置主体内的原料转动方向相反，能够很大程度的提高搅拌效率，同时因第二齿轮固定套接在第一搅拌轴上，故而能够带动第二齿轮转动，因第二齿轮均与两个第三齿轮相啮合，故而能够带动两个第三齿轮反方向转动，因第三齿轮、第二搅拌轴和第二搅拌叶之间的固定连接关系，从而能够带动第二搅拌叶转动，继而能够有效的防止装置主体底部的原料沉淀，进一步的提升了搅拌效果。本实用新型结构简单，设计合理，操作方便，能够在只采用一个驱动装置的前提下，对表面活性剂原液进行快速、均匀的搅拌，不仅增强了搅拌效果，而且降低了生产成本，适合推广使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种表面活性剂生产取样设备的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种表面活性剂生产取样设备的图1的部分结构俯视示意图；

图3为本实用新型提出的一种表面活性剂生产取样设备的图1的a部分结构示意图。

图中：1底座、2环形滑轨、3滑块、4装置主体、5外齿圈、6支撑板、7横板、8电机、9转轴、10第一传动轮、11第一齿轮、12第一搅拌轴、13第二齿轮、14第二传动轮、15传动带、16第一搅拌叶、17第二搅拌轴、18第三齿轮、19第二搅拌叶。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例一

参照图1-3，一种表面活性剂生产取样设备，包括底座1，所述底座1的顶部开设有环形滑轨2，环形滑轨2上等距离均匀滑动安装有多个滑块3，多个滑块3的顶端均延伸至底座1的上方，且固定安装有同一个装置主体4，装置主体4的四周固定套接有外齿圈5，底座1顶部的一侧固定安装有支撑板6，支撑板6的顶部固定安装有横板7，且横板7位于装置主体4的上方，横板7底部远离支撑板6的一侧固定安装有电机8，电机8的输出轴上固定安装有转轴9，转轴9上固定套接有第一传动轮10和第一齿轮11，且第一传动轮10位于第一齿轮11的上方，横板7的底部转动安装有第一搅拌轴12，第一搅拌轴12的底端延伸至装置主体4内，且固定套接有第二齿轮13，第一搅拌轴12的两侧均等距离均匀固定安装有多个位于装置主体4内的第一搅拌叶16，且多个第一搅拌叶16均位于第二齿轮13的上方。

本实用新型中，外齿圈5位于支撑板6和第一齿轮11之间，且第一齿轮11与外齿圈5相啮合，第一齿轮11转动能够带动外齿圈5转动。

本实用新型中，第一搅拌轴12上固定套接有位于装置主体4上方的第二传动轮14，且第二传动轮14和第一传动轮10之间套接有同一个传动带15，第一传动轮10转动，能够通过传动带15带动第二传动轮14转动。

本实用新型中，装置主体4底部内壁上转动安装有两个第二搅拌轴17，且第一搅拌轴12位于两个第二搅拌轴17之间。

本实用新型中，两个第二搅拌轴17上均固定套接有第三齿轮18，且两个第三齿轮18均与第二齿轮13相啮合，第二齿轮13转动，能够带动两个第三齿轮18转动。

本实用新型中，两个第二搅拌轴17两侧的顶部均固定安装有第二搅拌叶19，搅拌轴17转动能够带动第二搅拌叶19转动，从而对装置主体4底部的原料进行搅拌，防止底部沉淀。

实施例二

参照图1-3，一种表面活性剂生产取样设备，包括底座1，所述底座1的顶部开设有环形滑轨2，环形滑轨2上等距离均匀滑动安装有多个滑块3，多个滑块3的顶端均延伸至底座1的上方，且固定安装有同一个装置主体4，装置主体4的四周固定套接有外齿圈5，底座1顶部的一侧固定安装有支撑板6，支撑板6的顶部固定安装有横板7，且横板7位于装置主体4的上方，横板7底部远离支撑板6的一侧固定安装有电机8，电机8的输出轴上固定安装有转轴9，转轴9上固定套接有第一传动轮10和第一齿轮11，且第一传动轮10位于第一齿轮11的上方，横板7的底部转动安装有第一搅拌轴12，第一搅拌轴12的底端延伸至装置主体4内，且固定套接有第二齿轮13，第一搅拌轴12的两侧均等距离均匀固定安装有多个位于装置主体4内的第一搅拌叶16，且多个第一搅拌叶16均位于第二齿轮13的上方。

本实用新型中，外齿圈5位于支撑板6和第一齿轮11之间，且第一齿轮11与外齿圈5相啮合，第一齿轮11转动能够带动外齿圈5转动。

本实用新型中，第一搅拌轴12上固定套接有位于装置主体4上方的第二传动轮14，且第二传动轮14和第一传动轮10之间套接有同一个传动带15，第一传动轮10转动，能够通过传动带15带动第二传动轮14转动。

本实用新型中，装置主体4底部内壁上转动安装有两个第二搅拌轴17，且第一搅拌轴12位于两个第二搅拌轴17之间。

本实用新型中，两个第二搅拌轴17上均固定套接有第三齿轮18，且两个第三齿轮18均与第二齿轮13相啮合，第二齿轮13转动，能够带动两个第三齿轮18转动。

本实用新型中，两个第二搅拌轴17两侧的顶部均固定安装有第二搅拌叶19，搅拌轴17转动能够带动第二搅拌叶19转动，从而对装置主体4底部的原料进行搅拌，防止底部沉淀。

本实用新型中，使用时，先将表面活性剂的原料从进料管导入装置主体4内，然后接通电源，按下电机8的启动开关，启动电机8，电机8的输出轴能够带动转轴9转动，从而带动固定套接在转轴9上的第一传动轮10和第一齿轮11转动，因第一齿轮11和外齿圈5相啮合，故而能够带动外齿圈5反方向转动，因外齿圈5固定套接在装置主体4上，故而能够使得装置主体4转动，继而带动装置主体4内的原料反方向转动，同时因第一传动轮10和第二传动轮14之间套接有同一个传动带15，故而随着第一传动轮10的转动，能够通过传动带15带动第二传动轮14转动，而第二传动轮14是固定套接在第一搅拌轴12上的，故而能够使得第一搅拌轴12转动，从而带动固定安装在第一搅拌轴12上的多个第一搅拌叶16转动，继而对装置主体4内的原料进行搅拌，此时因第一搅拌叶16的搅拌方向和装置主体4内的原料转动方向相反，能够很大程度的提高搅拌效率，同时因第二齿轮13固定套接在第一搅拌轴12上，故而能够带动第二齿轮13转动，因第二齿轮13均与两个第三齿轮18相啮合，故而能够带动两个第三齿轮18反方向转动，因第三齿轮18、第二搅拌轴17和第二搅拌叶19之间的固定连接关系，从而能够带动第二搅拌叶19转动，继而能够有效的防止装置主体4底部的原料沉淀，进一步的提升了搅拌效果。本实用新型结构简单，设计合理，操作方便，能够在只采用一个驱动装置的前提下，对表面活性剂原液进行快速、均匀的搅拌，不仅增强了搅拌效果，而且降低了生产成本，适合推广使用。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。