步提高。
[0099]<基底层>
[0100]在图示的结构中，在基材Pl与覆膜P3之间，设置有基底层P2。
[0101]由此，例如，能够使基材Pl与覆膜P3的贴合性(经由基底层P2的贴合性)特别优异。此外，例如，能够使基底层P2作为着色层发挥功能，由此实现钟表用外装部件PlO的美学外观的进一步提高。此外，能够使基底层P2作为间隔层发挥功能，由此得到覆膜P3凸出那样的具有立体感的外观。
[0102]基底层P2的平均厚度优选为0.01 μπι以上且10 μ m以下。
[0103]由此，基底层P2能够更有效地发挥上述那样的功能。
[0104]基底层P2可由任意材料构成，但优选由TiN构成。
[0105]由此，能够使基材Pl与覆膜P3的贴合性(经由基底层P2的贴合性)特别优异，特别是，在覆膜P3由金属材料、金属氧化物或金属氮化物构成的情况下，能够使贴合性特别优异。此外，由于TiN是在上述那样的厚度下具有高透明性的材料，因此，能够有效地防止对作为钟表用外装部件PlO整体的外观带来不良影响。
[0106]此外，在图示的结构中，在基材Pl的设置有覆膜P3—侧的整个面设置有基底层P2，但例如也可以是，基底层P2仅选择性地设置在与覆膜P3接触的部位。此外，基底层P2也可以仅设置在设置有覆膜P3的部位中的一部分。
[0107]此外，在图示的结构中，对具有I层基底层P2的情况进行了说明，但钟表用外装部件也可以具有2层以上的基底层。
[0108]基底层P2可以在各部位具有均匀的组成，也可以具有不同的组成。例如，可以由使成分不同的层沿厚度方向层叠而成的层叠体构成，或者由使成分倾斜地变化的倾斜材料构成。
[0109]〈反射防止膜〉
[0110]在图示的结构中，在覆膜P3的与面向基材Pl的面相反的一面侧，设置有反射防止膜P4。
[0111]由此，能够有效地防止外界光的不期望的映入，能够使钟表用外装部件PlO的美学外观特别优异。
[0112]此外，在钟表用外装部件PlO应用了玻璃罩(挡风玻璃)的情况下，能够得到上述那样提高美学外观的效果，而且，能够提高表盘的可视性，并能够使作为钟表整体的美学外观特别优异。此外，时刻等的识别性也提尚等、作为实用品的功能也提尚。
[0113]反射防止膜P4的厚度没有特别限定，但优选为0.2 μπι以上且10 μm以下，更优选为0.3 μπι以上且7 μπι以下。
[0114]由此，既能够有效地防止钟表用外装部件PlO大型化、厚型化，又能够更有效地发挥上述那样的功能。
[0115]此外，在图示的结构中，在基材Pl的设置有覆膜Ρ3的一侧的整个面上设置有反射防止膜Ρ4，但例如也可以是，反射防止膜Ρ4仅选择性地设置在基材Pl的设置有覆膜Ρ3的一侧的面中的一部分。
[0116]接下来，说明将本发明的钟表用外装部件应用于玻璃罩(挡风玻璃)的情况下的具体的一例。
[0117]如图2所示，在作为玻璃罩的本实施方式的钟表用外装部件PlO中，在俯视时的外周部附近，选择性地设置覆膜。
[0118]特别是，在图示的结构中，以规定的图案(蔓藤花纹)来设置覆膜。这样，即使是复杂图案的覆膜Ρ3，根据本发明，也能够使得制造时的材料浪费少，且对环境的负担小。
[0119]〈〈钟表用外装部件的制造方法》
[0120]接下来，对本发明的钟表用外装部件的制造方法进行说明。
[0121]图3是示意性示出本发明的钟表用外装部件的制造方法的优选实施方式中的各工序的剖视图。
[0122]如图3所不，本实施方式的制造方法具有:基材准备工序(Ia)，准备基材Pl ;基底层形成工序(Ib)，在基材Pl的表面形成基底层P2 ;覆膜形成工序(Ic)，利用气溶胶沉积法，在基底层P2的表面，形成覆膜P3 ;以及反射防止膜形成工序(Id)，在基材Pl的设置有基底层P2、覆膜P3的一面侧形成反射防止膜P4。
[0123]〈基材准备工序〉
[0124]在基材准备工序中，准备上述那样的基材Pl (Ia)。
[0125]在本工序中准备的基材Pl可以实施水洗、碱洗、酸洗、利用有机溶剂的清洗等洁净化处理。
[0126]此外，为了提高与在基材Pl上形成的层的贴合性等，可以实施表面处理。
[0127]〈基底层形成工序〉
[0128]接下来，在基材Pl的表面形成基底层P2 (lb)。
[0129]作为在本工序中形成的基底层P2，优选满足上述那样的条件。
[0130]基底层P2例如可以利用真空蒸镀、离子镀、溅射、化学蒸镀法(CVD)等气相成膜法(干式镀覆法)、湿式镀覆法、浸渍等来形成。
[0131]〈覆膜形成工序〉
[0132]接下来，在基底层P2的表面的一部分中，利用气溶胶沉积法形成覆膜P3(lc)。
[0133]作为在本工序中形成的覆膜P3，优选满足上述那样的条件。
[0134]关于在本工序中使用覆膜形成用装置，后面将详细记述。
[0135]〈反射防止膜形成工序〉
[0136]接下来，在基材Pl的设置有基底层P2、覆膜P3的一面侧，形成反射防止膜P4(ld) ο
[0137]作为在本工序中形成的反射防止膜P4，优选满足上述那样的条件。
[0138]反射防止膜P4例如可以利用真空蒸镀、离子镀、溅射、化学蒸镀法(CVD)等气相成膜法(干式镀覆法)、湿式镀覆法、浸渍等来形成。
[0139]〈覆膜形成用装置〉
[0140]接下来，对在覆膜P3的形成中使用的覆膜形成用装置进行说明。
[0141]图4是示出在覆膜的形成中使用的覆膜形成装置的优选实施方式的纵截面侧视图，图5是示出覆膜形成装置具有的粉碎器的结构的一例的纵截面侧视图，图6是图4所示的覆膜形成装置的主要部分的框图。此外，以下，为了便于说明，在图4中，示出X轴、y轴以及z轴作为彼此垂直的3个轴。X轴是沿着水平方向中的一个方向的轴，y轴是水平方向且沿着与所述X轴垂直的方向的轴，z轴是沿着铅直方向(上下方向)的轴。此外，将图示的各箭头的末端侧称作“正侧(+侧)”，将基端侧称作“负侧(_侧)”。此外，将图4中的上侧称作“上(上方)”，将下侧称作“下(下方)”。此外，在图4中，省略了设置在基材Pl上的基底层P2的图不。
[0142]覆膜形成装置I是形成覆膜P3的“气溶胶沉积装置”。
[0143]气溶胶沉积装置是如下的装置:从喷嘴朝基材吹送另外准备的、使微粒(覆膜的材料的微粒)在气体中分散而成的气溶胶，利用其冲击力，在基材上形成覆膜。
[0144]如图4、图5、图6所示，覆膜形成装置I具有气溶胶产生器15、粉碎器4、成膜室16、连接管2、连接管8、气体供给单元3、压力调整单元5、移动单元6、控制部7。
[0145]气溶胶产生器15构成为能够维持气密性，其内部能够收纳成为覆膜P3的微粒P31。
[0146]粉碎器4通过连接管8与气溶胶产生器15连接。
[0147]粉碎器4具有粉碎由气溶胶产生器15产生的气溶胶中包含的微粒P31的功能。
[0148]成膜室16与气溶胶产生器15、粉碎器4独立地设置。该成膜室16构成为能够维持气密性，其内部能够收纳多个基材Pl。
[0149]此外，成膜室16内的室温例如借助水冷、即借助通过配管的制冷剂而被调整为25°C以上且30°C以下。
[0150]连接管2连接粉碎器4和成膜室16，其内腔部22作为使形成覆膜P3的微粒P31通过的流路而发挥功能。
[0151]连接管2的朝其一端开口的第I开口部(一端开口部)25面向粉碎器4内，朝另一端开口的第2开口部(另一端开口部)21面向成膜室16内。
[0152]通过这样的结构，气溶胶产生器15与成膜室16经由连接管8、粉碎器4以及连接管2连通。
[0153]第2开口部21被配置为平行于成膜室16中收纳的基材Pl的面方向。进而，通过连接管2 (内腔部22)的微粒P31从第2开口部21被吹送到基材Pl上。由此，在基材Pl上(特别是本实施方式中的基底层P2的表面)形成覆膜P3。这样，在连接管2中，第2开口部21侧的部分作为喷嘴部24发挥功能。
[0154]此外，连接管2的平均内径没有特别限定，例如优选为Imm以上且1mm以下。此夕卜，第2开口部21的内径没有特别限定，但例如优选为0.1mm以上且Imm以下。
[0155]此外，作为连接管2的构成材料，没有特别限定，例如可以使用不锈钢等那样的金属材料。
[0156]此外，在连接管2的外周部，优选设置对该连接管2进行加热的加热机构90。利用该加热机构90，能够防止在连接管2中通过的微粒P31附着于连接管2的内周部(内壁)。此外，作为加热温度，没有特别限定，但例如优选为100°C以上且300°C以下，更优选为250°C以上且300°C以下。
[0157]如图4所示，气体供给单元3向气溶胶产生器15内供给气体。此外，作为该供给量，没有特别限定，但例如优选