专利名称：基板处理装置的计划生成方法及其程序的制作方法
技术领域：
本发明涉及对半导体晶片或液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称基板)实施洗净、蚀刻、干燥等规定处理的基板处理装置的计划(schedule)生成方 法及其程序。
背景技术：
现有的这种方法，在通过具有多个处理部的基板处理装置来处理多个批 组(lot)时，为了按照包含多个处理工序的制法(recipe)在各处理部顺次处 理各批组，控制部预先确定各批组的处理顺序，在按照该计划来搬运各批组 的同时，顺次进行处理，其中所述处理部用于对基板进行处理。具体而言，根据表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的 系谱图(系譜図)，在对任意一个批组配置了最初的处理工序之后，在以该 处理工序为基点探索系谱图的同时，在各批组下一处理工序中，在各个前处 理工序中结束预定时刻最早的批组的处理工序将被配置为下一处理工序(例 如参照日本国特开2003-241818号公报、特开2003-243274号公报)。在实际开始处理批组之前，所述的基板处理装置的计划生成方法确定对 哪一个批组通过哪一个处理部在哪一个时刻进行处理，因此能够有效地配置 批组的各处理工序，提高基板处理装置的运转率。如上所述，在生成计划需要较长时间的情况下，将生成计划所需的时间 与预先确定的基准时间进行比较，在超过基准时间的情况下，将基准时间加 上规定时间来作为新的基准时间，即使在生成计划需要较长时间的情况下， 计划完成时刻也不会超过所计划的时刻的情况(参照日本专利第3712370号 公报)。但是，在具有这种结构的现有技术中存在以下问题。艮P、现有的基板处理装置的计划生成方法，为了抑制待机时间提高运转 率，有时生成计划需要较长时间。并且，为了防止由此引起的问题，需要使 此后接下来被配置的批组的处理工序的配置位置后移，其结果是，反而可能
导致增加待机时间而且无法提高运转率，并且存在因作为计划对象的批组减 少而无法生成灵活的计划的问题。另外，计划对象减少也导致运转率降低等 问题。发明内容本发明针对上述课题而做出，其目的在于提供一种基板处理装置的计划 生成方法及其程序，由于具有多种配置方法，能够防止计划生成时间增加， 并且能够提高运转率。此外，本发明另一 目的在于提供一种基板处理装置的计划生成方法及其 程序，通过与无法配置的原因相对应地进行工序块配置的试验，能够防止计 划生成时间增加，并且能够提高运转率。此外，本发明另一目的在于提供一种基板处理装置的计划生成方法及其 程序，通过对处理开始顺序靠前的批组的工序块进行优先配置，能够防止计 划生成时间增加，并且能够提高运转率。此外，本发明另一目的在于提供一种基板处理装置的计划生成方法及其 程序，通过对与先配置的批组相同的批组的处理工序进行优先配置，能够防 止计划生成时间增加，并且能够提高运转率。此外，本发明另一 目的在于提供一种基板处理装置的计划生成方法及其 程序，通过对具有待机时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置， 能够防止计划生成时间增加，并且能够提高运转率。为了实现上述目，本发明采用以下结构。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，'在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第一配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的 组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理 工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配
置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处 理工序，所述第一配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序，并 且所述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况 下，取消该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级 的分支点开始进行重新搜索。
根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序对应的 组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工序 为基点来探索系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，将这些前处理工 序中的结束预定时刻最早的批组的处理工序作为下一处理工序配置，从而预 先生成计划(基本配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处 理工序，并且在该处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许 时间的情况下，取消该处理工序的配置，并且在系谱图中从比该处理工序上 一级的分支点还上一级的分支点开始重新搜索，从而生成计划(第一配置方 法)。
因此，使用基本配置方法预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序，并优先选择配置所述下一处理工序，从而能 够预先生成可縮短到下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，在第一配 置方法中，由于不必对在系谱图中位于比具有无法配置的原因的处理工序更 下级的处理工序进行配置试验，因此能够减少试验次数。其结果是，与基本 配置方法相比较能够縮短生成计划的时间。这样，通过各自特征不同的基本 配置方法和第一配置方法同时生成多个计划，选择在规定时间内完成了计划 的一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，并且能够避免产生无效待机 时间，从而提高运转率。
本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第二配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，
所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的 组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理 工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配 置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处 理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时， 在按照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序 后，对在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工 序进行优先配置。根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序对应的 组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工序 为基点探索系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，将对这些前处理工 序中的结束预定时刻最早的批组的处理工序作为下一处理工序配置，从而预 先生成计划(基本配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处 理工序，并且在按照最初指定的各批组的处理开始顺序对各批组配置最初的 处理工序后，在各批组的下一处理工序中，对处理开始顺序靠前的批组的处 理工序进行优先配置(第二配置方法)。因此，使用基本配置方法预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序，并优先选择配置所述下一处理工序，从而能 够预先生成可縮短到下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，第二配置 方法能够避免以下情况，即，由于物理上的限制而无法配置，发生回溯系谱 图等处理工序的配置倒退的情况。因此，能够縮短生成计划的时间，与基本 配置方法比较能够縮短生成计划的时间。这样，通过各自特征不同的基本配 置方法和第二配置方法同时生成多个计划，选择在规定时间内完成了计划的 一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，能够避免产生无效待机时间， 从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第三配置方法，
从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各ffi:组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理 工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配 置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时， 在存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序 的情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序对应的 组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工序 为基点探索系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，将对这些前处理工 序中的结束预定时刻最早的批组的处理工序作为下一处理工序配置，从而预 先生成计划(基本配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处 理工序，在存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的 处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置(第三配置方法)。因此，使用基本配置方法预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序，并优先选择配置所述下一处理工序，从而能 够预先生成可縮短到下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，第三配置 方法对与先配置的批组相同的批组的处理工序进行优先配置，从而在进行从 装置停止状态重新开始处理的计划生成时，能够縮短生成计划的时间。这样， 通过各自特征不同的基本配置方法和第三配置方法同时生成多个计划，选择 在规定时间内完成了计划的一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，能 够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第四配置方法, 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定
时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的 组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理 工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配 置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处 理工序，所述第四配置方法是在按照所述基本配置方法配置处理工序时， 对具有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先 配置。根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序对应的 组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工序 为基点探索系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，将对这些前处理工 序中的结束预定时刻最早的批组的处理工序作为下一处理工序配置，从而预 先生成计划(基本配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处 理工序，并且将具有在处理部中可待机的容许时间短的处理工序的批组的处 理工序进行优先配置(第四配置方法)。因此，使用基本配置方法预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序，并优先选择配置所述下一处理工序，从而能 够预先生成可縮短到下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，即使在物 理上能够配置容许时间短的处理工序，也会由于无法确保容许时间而无法配 置，容易发生在系谱图中的倒退。因此，第四配置方法对容许时间短的处理 工序进行优先配置，从而易于避免由容许时间引起的无法配置，因此能够縮 短生成计划的时间。其结果是，与基本配置方法相比较能够縮短生成计划的 时间。这样，通过各自特征不同的基本配置方法和第四配置方法同时生成多 个计划，选择在规定时间内完成了计划的一个计划，从而能够防止计划生成 时间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第一配置方法和第二配置方法，
从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工 序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理 工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一 处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处 理工序，来作为下一处理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置 方法配置处理工序时，在按照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组 配置最初的处理工序后，对在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序 靠前的批组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且在该处理工 序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且在系谱图中从比该处理工序上一级的分支点还上一级的 分支点开始重新搜索，从而生成计划(第一配置方法)。与此同时，控制部 根据基本配置方法配置处理工序，并且在按照最初指定的各批组的处理开始 顺序对各批组配置最初的处理工序后，在各批组的下一处理工序中，对处理 开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置(第二配置方法)。因此，在使用基本配置方法的同时，通过第一配置方法生成计划，从而 不必对在系谱图中位于比具有无法配置的原因的处理工序更下级的处理工序 进行配置试验，因此能够减少试验次数。其结果是，与基本配置方法比较能 够縮短生成计划的时间。另外，第二配置方法能够避免以下情况，S卩，由于 物理上的限制而无法配置，发生回溯系谱图等处理工序的配置倒退的情况。 因此，能够縮短生成计划的时间。其结果是，与基本配置方法相比较能够縮 短生成计划的时间。这样，通过各自特征不同的第一配置方法和第二配置方 法同时生成多个计划，选择在规定时间内完成了计划的一个计划，从而能够 防止计划生成时间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基
板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第一配置方法和第三配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处理工 序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点开始 进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工 序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理 工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一 处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处 理工序，来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置 方法配置处理工序时，在存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置 的所述批组的处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且在该处理工 序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且在系谱图中从比该处理工序上一级的分支点还上一级的 分支点开始重新搜索，从而生成计划(第一配置方法)。与此同时，控制部 根据基本配置方法配置处理工序，在存在有能够接在先配置的批组的处理工 序之后配置的所述批组的处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优 先配置(第三配置方法)。因此，在使用基本配置方法的同时，通过第一配置方法生成计划，从而 不必对在系谱图中处于比具有无法配置的原因的处理工序更下级的处理工序 进行配置试验，因此能够减少试验次数。其结果是，与基本配置方法比较能 够縮短生成计划的时间。另外，在第三配置方法中，对与先配置的批组相同 的批组的处理工序进行优先配置，从而在进行从装置停止状态重新开始处理 的计划生成时能够縮短生成计划的时间。这样，通过各自特征不同的第一配 置方法和第三配置方法同时生成多个计划，选择在规定时间内完成了计划的 一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，能够避免产生无效待机时间，
从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第一配置方法和第四配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处理工 序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点开始 进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工 序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理 工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一 处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处 理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置 方法配置处理工序时，对具有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批 组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且在该处理工 序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处 理工序的配置，并且在系谱图中从比该处理工序上一级的分支点还上一级的 分支点开始重新搜索，从而生成计划(第一配置方法)。与此同时，控制部 根据基本配置方法配置处理工序，并且对具有在处理部中可待机的容许时间 短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置(第四配置方法)。因此，在使用基本配置方法的同时，通过第一配置方法生成计划，从而 不必对在系谱图中处于比具有无法配置的原因的处理工序更下级的处理工序 进行配置试验，因此能够减少试验次数。其结果是，与基本配置方法比较能 够縮短生成计划的时间。另外，即使能够在物理上配置容许时间短的处理工 序，也会由于无法确保容许时间而无法配置，容易在发生系谱图中的倒退。 因此，第四配置方法对容许时间短的处理工序进行优先配置，从而易于避免 由容许时间引起的无法配置，因此能够縮短生成计划的时间。其结果是，与
基本配置方法相比较能够縮短生成计划的时间。这样，通过各自特征不同的 第一配置方法和第四配置方法同时生成多个计划，选择在规定时间内完成了 计划的一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，能够避免产生无效待机 时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第二配置方法和第三配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最初指 定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各批组 的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配 置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次 序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在 以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中， 搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作 为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理 工序时，在存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的 处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最初 指定的各批组的处理开始顺序对各批组配置最初的处理工序后，在各批组的 下一处理工序中，对处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置(第 二配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且在 存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的 情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置(第三配置方法)。因此，在使用基本配置方法的同时，通过第二配置方法来生成计划，能 够避免以下情况，即，由于物理上的限制而无法配置，发生回溯系谱图等处 理工序的配置倒退的情况。因此，能够縮短生成计划的时间。另外，在第三 配置方法中，对与先配置的批组相同的批组的处理工序进行优先配置，从而
在进行从装置停止状态重新开始处理的计划生成时，能够縮短生成计划的时 间。这样，通过各自特征不同的第二配置方法和第三配置方法同时生成多个 计划，选择在规定时间内完成了计划的一个计划，从而能够防止计划生成时 间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第二配置方法和第四配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最初指 定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各批组 的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配 置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次 序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在 以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中， 搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作 为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理 工序时，对具有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序 进行优先配置。根据本发明，控制部在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最初 指定的各批组的处理开始顺序对各批组配置最初的处理工序后，在各批组的 下一处理工序中，对处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置(第 二配置方法)。与此同时，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且对 具有在处理部中可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先 配置(第四配置方法)。因此，在使用基本配置方法的同时，通过第二配置方法来生成计划，从 而能够避免以下情况，即，由于物理上的限制而无法配置，发生回溯系谱图 等处理工序的配置倒退的情况。因此，能够縮短生成计划的时间。另外，即 使物理上能够对容许时间短的处理工序进行配置，也会由于无法确保容许时
间而无法配置，容易在系谱图中发生倒退。因此，第四配置方法对容许时间 短的处理工序进行优先配置，从而易于避免由容许时间引起的无法配置，因 此能够縮短生成计划的时间。其结果是，与基本配置方法相比较能够縮短生 成计划的时间。这样，通过各自特征不同的第二配置方法和第四配置方法同 时生成多个计划，选择在规定时间内完成了计划的一个计划，从而能够防止 计划生成时间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第三配置方法和第四配置方法， 从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定 时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行， 所述第三配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在存在有能够 接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况下，对 所述批组的处理工序进行优先配置，其中，所述基本配置方法是按照表示 与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批 组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序探索所述系谱图的同时，在 各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最 早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据 所述基本配置方法配置处理工序时，对具有在处理部可待机的容许时间短的 处理工序的批组的处理工序进行优先配置。根据本发明，控制部根据基本配置方法配置处理工序，并且在存在有能 够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况下， 对所述批组的处理工序进行优先配置(第三配置方法)。与此同时，控制部 根据基本配置方法配置处理工序，并且对具有在处理部中可待机的容许时间 短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置(第四配置方法)。因此，在第三配置方法中，在进行从装置停止状态重新开始处理的计划 生成时，能够縮短生成计划的时间。另外，即使物理上能够对容许时间短的 处理工序进行配置，也会由于无法确保容许时间而无法配置，容易发生在系 谱图中的倒退。因此，第四配置方法对容许时间短的处理工序进行优先配置,
从而易于避免由于容许时间引起的无法配置，因此能够縮短生成计划的时间。 其结果是，与基本配置方法相比较能够縮短生成计划的时间。这样，通过各 自特征不同的第三配置方法和第四配置方法同时生成多个计划，选择在规定 时间内完成了计划的一个计划，从而能够防止计划生成时间增加，能够避免 产生无效待机时间，从而提高运转率。并且在本发明中，优选在选择所述计划的步骤中，所述控制部从在规定 时间内完成的计划中选择最早完成处理的唯一一个计划。如果在规定时间内完成的计划有多个，则选择其中最早完成处理的计划， 从而能够提高装置的运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤根据基本配置方法配置处理工序的 步骤；并用特别配置方法生成计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执 行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序来作为下一 处理工序，所述特别配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时 所述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况 下，取消该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级 的分支点开始进行重新搜索。根据本发明，控制部按照表示了与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理 工序为基点探索系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，将这些前处理 工序中的结束预定时刻最早的批组的处理工序作为下一处理工序来进行配 置，从而预先生成计划(基本配置方法)。与此同时，控制部并用特别配置 方法，在该处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的 情况下，取消该处理工序的配置，并且在系谱图中从比该处理工序上一级的 分支点还上一级的分支点开始重新搜索，从而生成计划(特别配置方法)。
因此，使用基本配置方法预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序，并优先选择配置所述下一处理工序，从而能 够预先生成可縮短到下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，在特别配 置方法中，由于不进行在系谱图中位于比具有无法配置的原因的处理工序更 下级的处理工序的配置试验，因此能够减少试验次数。其结果是，与仅使用 基本配置方法的计划生成相比较，能够縮短生成计划的时间，能够防止计划 生成时间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的 处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序 后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，搜索配置各批组的下 一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在按照最初指定的各批组 的处理开始顺序对各批组配置了最初的处理工序后，对在各批组的下一处理 工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置，从而生成 计划的步骤，上述的两步骤由所述控制部来执行。根据本发明，控制部按照表示了与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理 工序为基点探索系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序时，在按照 最初指定的各批组的处理开始顺序对各批组配置最初的处理工序后，在各批 组的下一处理工序中，对所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先 配置。因此，通过在执行处理前预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，因此能够縮短到下一处理工 序结束为止的时间。另外，通过对处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置，从而在配置了某个批组的工序块后配置不同的批组的工序块时， 能够避免以下情况，即，由于物理上的限制而无法配置，发生回溯系谱图等 处理工序的配置倒退的情况。其结果是，能够縮短生成计划的时间，能够避
免产生无效待机时间，从而提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的 处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序 后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，搜索配置各批组的下 一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在存在有能够接在先配置 的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况下，对所述批组的 处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤，上述的两步骤由所述控制部 来执行。根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应 的组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工 序为基点探索系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序时，在存在有 能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况 下，对所述批组的处理工序进行优先配置。因此，通过在执行处理前预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，将先结束前处理工序的批组 的处理工序作为下一处理工序优先选择配置，从而能够预先生成能够縮短到 下一处理工序结束为止的时间的计划。另外，通过对与先配置的批组相同的 批组的处理工序进行优先配置，从而在进行从装置停止状态重新开始处理的 计划生成时能够縮短生成计划的时间。其结果是，能够防止计划生成时间增 加，避免产生无效待机时间并提高运转率。本发明是一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基 板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包 含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的 处理顺序，其特征在于，包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的 处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序 后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，搜索配置各批组的下 一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，对具有在处理部可待机的
容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步 骤，上述的两步骤由所述控制部来执行。根据本发明，控制部按照表示与各批组的各处理工序的处理次序对应的 组合的系谱图，在配置任意一个批组的最初的处理工序后，在以该处理工序 为基点探索系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序时，对具有在处 理部中可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置。因此，通过在执行处理前预先生成计划，从而能够对前处理工序的后续 作业与后处理工序的前续作业进行重复地配置，能够预先生成可縮短到下一 处理工序结束为止的时间的计划。但是，即使物理上能够对容许时间短的处 理工序进行配置，也会由于无法确保容许时间而无法配置，容易发生在系谱 图中的倒退。因此，通过对容许时间短的处理工序进行优先配置，从而易于 避免由容许时间引起的无法配置，因此能够縮短生成计划的时间。其结果是， 能够防止计划生成时间增加，能够避免产生无效待机时间，从而提高运转率。
图1是表示实施例的基板处理装置的概略结构的俯视图。图2是表示实施例的基板处理装置的概略结构的框图。图3是表示计划的主程序的流程图。图4是表示基本配置方法的流程的流程图。图5A是单批的批组1的时序图的具体例。图5B是单批的批组2的时序图的具体例。图6是表示基本配置方法的计划的组合例的示意图。图7A是表示基本配置方法的配置过程的步骤1的时序图。图7B是表示基本配置方法的配置过程的步骤2的时序图。图7C是表示基本配置方法的配置过程的步骤3的时序图。图8A是表示基本配置方法的配置过程的步骤4的时序图。图8B是表示基本配置方法的配置过程的步骤5的时序图。图8C是表示基本配置方法的配置过程的步骤6的时序图。图9A是表示基本配置方法的配置过程的步骤7的时序图。图9B是表示基本配置方法的配置过程的步骤8的时序图。 图9C是表示基本配置方法的配置过程的步骤9的时序图。 图10A是表示基本配置方法的配置过程的步骤10的时序图。 图10B是表示基本配置方法的配置过程的步骤11的时序图。 图10C是表示基本配置方法的配置过程的步骤12的时序图。 图IIA是表示基本配置方法的配置过程的步骤13的时序图。 图11B是表示基本配置方法的配置过程的步骤14的时序图。 图IIC是表示基本配置方法的配置过程的步骤15的时序图。 图12A是表示基本配置方法的配置过程的步骤16的时序图。 图12B是表示基本配置方法的配置过程的步骤17的时序图。 图12C是表示基本配置方法的配置过程的步骤18的时序图。 图13A是表示基本配置方法的配置过程的步骤19的时序图。 图13B是表示基本配置方法的配置过程的步骤20的时序图。 图13C是表示基本配置方法的配置过程的步骤21的时序图。 图14A是表示基本配置方法的配置过程的步骤22的时序图。 图14B是表示基本配置方法的配置过程的步骤23的时序图。 图14C是表示基本配置方法的配置过程的步骤24的时序图。 图15A是表示基本配置方法的配置过程的步骤25的时序图。 图15B是表示基本配置方法的配置过程的步骤26的时序图。 图15C是表示基本配置方法的配置过程的步骤27的时序图。 图16A是表示基本配置方法的配置过程的步骤28的时序图。 图16B是表示基本配置方法的配置过程的步骤29的时序图。 图16C是表示基本配置方法的配置过程的步骤30的时序图。 图17A是表示基本配置方法的配置过程的步骤31的时序图。 图17B是表示基本配置方法的配置过程的步骤32的时序图。 图17C是表示基本配置方法的配置过程的步骤33的时序图。 图18A是表示基本配置方法的配置过程的步骤34的时序图。 图18B是表示基本配置方法的配置过程的步骤35的时序图。 图18C是表示基本配置方法的配置过程的步骤36的时序图。 图19A是表示基本配置方法的配置过程的步骤37的时序图。 图19B是表示基本配置方法的配置过程的步骤38的时序图。
图19C是表示基本配置方法的配置过程的步骤39的时序图。 图20A是表示基本配置方法的配置过程的步骤40的时序图。 图20B是表示基本配置方法的配置过程的步骤41的时序图。 图20C是表示基本配置方法的配置过程的步骤42的时序图。 图21A是表示基本配置方法的配置过程的步骤43的时序图。 图21B是表示基本配置方法的配置过程的步骤44的时序图。 图22是表示第一配置方法的流程的流程图。 图23是表示第一配置方法的计划的组合例的示意图。 图24A是表示第一配置方法的配置过程的步骤1的时序图。 图24B是表示第一配置方法的配置过程的步骤2的时序图。 图24C是表示第一配置方法的配置过程的步骤3的时序图。 图25A是表示第一配置方法的配置过程的步骤4的时序图。 图25B是表示第一配置方法的配置过程的步骤5的时序图。 图25C是表示第一配置方法的配置过程的步骤6的时序图。 图26A是表示第一配置方法的配置过程的步骤7的时序图。 图26B是表示第一配置方法的配置过程的步骤8的时序图。 图26C是表示第一配置方法的配置过程的步骤9的时序图。 图27A是表示第一配置方法的配置过程的步骤10的时序图。 图27B是表示第一配置方法的配置过程的步骤11的时序图。 图27C是表示第一配置方法的配置过程的步骤12的时序图。 图28A是表示第一配置方法的配置过程的步骤13的时序图。 图28B是表示第一配置方法的配置过程的步骤14的时序图。 图28C是表示第一配置方法的配置过程的步骤15的时序图。 图29A是表示第一配置方法的配置过程的步骤16的时序图。 图29B是表示第一配置方法的配置过程的步骤17的时序图。 图29C是表示第一配置方法的配置过程的步骤18的时序图。 图30A是表示第一配置方法的配置过程的步骤19的时序图。 图30B是表示第一配置方法的配置过程的步骤20的时序图。 图30C是表示第一配置方法的配置过程的步骤21的时序图。 图31A是表示第一配置方法的配置过程的步骤22的时序图。
图3IB是表示第一配置方法的配置过程的步骤23的时序图。 图31C是表示第一配置方法的配置过程的步骤24的时序图。 图32A是表示第一配置方法的配置过程的步骤25的时序图。 图32B是表示第一配置方法的配置过程的步骤26的时序图。 图32C是表示第一配置方法的配置过程的步骤27的时序图。 图33A是表示第一配置方法的配置过程的步骤28的时序图。 图33B是表示第一配置方法的配置过程的步骤29的时序图。 图33C是表示第一配置方法的配置过程的步骤30的时序图。、 图34A是表示第一配置方法的配置过程的步骤31的时序图。 图34B是表示第一配置方法的配置过程的步骤32的时序图。 图34C是表示第一配置方法的配置过程的步骤33的时序图。 图35A是表示第一配置方法的配置过程的步骤34的时序图。 图35B是表示第一配置方法的配置过程的步骤35的时序图。 图35C是表示第一配置方法的配置过程的步骤36的时序图。 图36是表示第二配置方法的流程的流程图。 图37是表示第二配置方法的计划的组合例的示意图。 图38A是表示第二配置方法的配置过程的步骤1的时序图。 图38B是表示第二配置方法的配置过程的步骤2的时序图。 图38C是表示第二配置方法的配置过程的步骤3的时序图。 图39A是表示第二配置方法的配置过程的步骤4的时序图。 图39B是表示第二配置方法的配置过程的步骤5的时序图。 图39C是表示第二配置方法的配置过程的步骤6的时序图。 图40A是表示第二配置方法的配置过程的步骤7的时序图。 图40B是表示第二配置方法的配置过程的步骤8的时序图。 图40C是表示第二配置方法的配置过程的步骤9的时序图。 图41A是表示第二配置方法的配置过程的步骤10的时序图。 图41B是表示第二配置方法的配置过程的步骤11的时序图。 图41C是表示第二配置方法的配置过程的步骤12的时序图。 图42A是表示第二配置方法的配置过程的步骤13的时序图。 图42B是表示第二配置方法的配置过程的步骤14的时序图。 图42C是表示第二配置方法的配置过程的步骤15的时序图。 图43A是单批的批组1的时序图的具体例。 图43B是单批的批组2的时序图的具体例。 图43C是单批的批组3的时序图的具体例。图44是表示使用基本配置方法处理3个^t组时的计划的组合例的示意图。图45是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的计划的组合例的示意图。图46A、 46B表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程，是表示开始前的状態的时序图。图46C是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤1的时序图。图47A是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤2 的时序图。图47B是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤3 的时序图。图47C是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤4 的时序图。图48A是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤5 的时序图。图48B是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤6 的时序图。图48C是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤7 的时序图。图49A是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤8 的时序图。图49B是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤9 的时序图。图49C是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤10 的时序图。图50A是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤11 的时序图。图50B是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤12 的时序图。图50C是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤13 的时序图。图51是表示在3个批组的情况下的基本配置方法的配置过程的步骤14 的时序图。图52是表示第三配置方法的流程的流程图。 图53是表示第三配置方法的计划的组合例的示意图。 图54是表示第三配置方法的计划的组合例的示意图。 图55A、 55B表示第三配置方法的配置过程，是表示开始前的状態的时 序图。图55C是表示第三配置方法的配置过程的步骤1的时序图。 图56A是表示第三配置方法的配置过程的步骤2的时序图。 图56B是表示第三配置方法的配置过程的步骤3的时序图。 图56C是表示第三配置方法的配置过程的步骤4的时序图。 图57A是表示第三配置方法的配置过程的步骤5的时序图。 图57B是表示第三配置方法的配置过程的步骤6的时序图。 图57C是表示第三配置方法的配置过程的步骤7的时序图。 图58A是表示第三配置方法的配置过程的步骤8的时序图。 图58B是表示第三配置方法的配置过程的步骤9的时序图。 图58C是表示第三配置方法的配置过程的步骤10的时序图。 图59A是表示第三配置方法的配置过程的步骤11的时序图。 图59B是表示第三配置方法的配置过程的步骤12的时序图。 图60是表示第四配置方法的流程的流程图。 图61是表示第四配置方法的计划的组合例的示意图。 图62A是表示第四配置方法的配置过程的步骤1的时序图。 图62B是表示第四配置方法的配置过程的步骤2的时序图。 图62C是表示第四配置方法的配置过程的步骤3的时序图。
图63A是表示第四配置方法的配置过程的步骤4的时序图。 图63B是表示第四配置方法的配置过程的步骤5的时序图。 图63C是表示第四配置方法的配置过程的步骤6的时序图。 图64A是表示第四配置方法的配置过程的步骤7的时序图。 图64B是表示第四配置方法的配置过程的步骤8的时序图。 图64C是表示第四配置方法的配置过程的步骤9的时序图。 图65A是表示第四配置方法的配置过程的步骤10的时序图。 图65B是表示第四配置方法的配置过程的步骤11的时序图。 图65C是表示第四配置方法的配置过程的步骤12的时序图。 图66A是表示第四配置方法的配置过程的步骤13的时序图。 图66B是表示第四配置方法的配置过程的步骤14的时序图。 图66C是表示第四配置方法的配置过程的步骤15的时序图。
具体实施方式
以下，根据附图对本发明的优选实施例进行详细说明。 以下，参照附图对本发明的实施例进行说明。 图1是表示实施例的基板处理装置的概略结构的俯视图。 该基板处理装置例如是用于对基板W实施药液处理、洗净处理及干燥处 理的装置。水平姿态的多个(例如25个)基板W相对于FOUP (Front Opening Unified Pod:前端开口片盒)1以立起姿态容置在FOUP中。容置未处理的 基板W的FOUPl被承载在投入部3上。投入部3具有两个承载FOUPl的承 载台5。在基板处理装置上隔着中央部与投入部3相对的一侧配备有取出部7。 该取出部7将完成处理的基板W容置在FOUPl中并取出整个FOUPl。具有 这种功能的取出部7，与投入部3同样地具有两个用于承载F0UP1的承载台 9。在沿着投入部3和取出部7的位置上，配置有能够在它们之间移动的第 一搬运机构CTC。第一搬运机构CTC从在投入部3的承载台5上承载的 FOUPl中取出多个基板W，并且在将基板W的姿态从水平方向变换为垂直方 向后，向第二搬运机构WTR交接基板W。另外，第一搬运机构CTC在从第 二搬运机构WTR接受了完成处理的基板W后，将基板W的姿态从垂直方向 变换为水平方向，在取出部7的F0UP1中容置基板W。第二搬运机构WTR 能够沿着基板处理装置的长度方向移动。在上述第二搬运机构WTR的移动方向的最前侧配备有两个干燥处理部 LPD1， LPD2，用于将多个基板W容置在低压室内进行干燥。在第二搬运机构WTR的移动方向上，在与干燥处理部LPD2相邻的位置 上配备有第一处理部19。该第一处理部19具备纯水洗净处理部0NB1，其用 于对多个基板W实施纯水洗净处理，并且该第一处理部19具备药液处理部 CHB1,其使用处理液对多个基板W实施药液处理。另外，在该纯水洗净处理 部0NB1和药液处理部CHB1之间具备副搬运机构LF1，其在该纯水洗净处 理部0NB1和药液处理部CHB1之间搬运基板W。该副搬运机构LF1在第一 处理部19内进行基板搬运，并且与第二搬运机构WTR交接基板W。在与第一处理部19相邻的位置上配备有第二处理部20。该第二处理部 20具有与上述第一处理部19相同的结构。即该第二处理部20具备纯水洗净 处理部ONB2、药液处理部CHB2、副搬运机构LF2。另外，在与第二处理部20相邻的位置上配备有第三处理部21。该第三 处理部21具备纯水洗净处理部ONB3、药液处理部CHB3、副搬运机构LF3。另外，在与第三处理部21相邻的位置上配备有第四处理部22。该第四 处理部22具备纯水洗净处理部ONB4、药液处理部CHB4、副搬运机构LF4。并且，第一搬运机构CTC、第二搬运机构WTR、干燥处理部LPD1、LPD2、 第一处理部19(纯水洗净处理部ONB1 、药液处理部CHB1 、副搬运机构LF1)、 第二处理部20(纯水洗净处理部ONB2、药液处理部CHB2、副搬运机构LF2)、 第三处理部21 (纯水洗净处理部ONB3 、药液处理部CHB3 、副搬运机构LF3 )、 第四处理部22(纯水洗净处理部ONB4、药液处理部CHB4、副搬运机构LF4) 相当于本发明的"处理部"。具有上述结构的基板处理装置，如图2的框图所示，通过控制部31进行 整体控制。控制部31由CPU、计数器和计时器等构成，具有计划安排(scheduling) 功能部33、处理执行指示部35。与控制部连接的存储部37预先存储有"制 法(recipe)"(处理次序)、各种"计划生成程序"、控制各种计划生成程 序的"计划生成主程序"、执行所生成的计划的"处理程序"等，其中所述 "制法"由该基板处理装置的用户等预先生成，用于规定如何处理基板，并 且由包含一个处理工序或多个处理工序的工序块构成。此外还存储有通过计 划生成主程序来生成的多个计划，以及从中选择出的一个"计划"。另外，在存储部37中存储有:"规定时间"，其相当于安排计划的限制 时间；"容许时间"，是能够容许的时间，也就是在配置工序块时与下一工 序块之间的待机时间；与配置工序块的位置信息有关的"配置开始位置"； 表示各计划中多个批组的工序块的组合的数据(系谱图)等。计划安排功能部33将在投入部3上承载的FOUP1中容置的多个基板W 作为一个批组进行处理，按照由装置操作者指示的预先存储在存储部37中的 制法，在实际开始处理前，使用后述的各种计划生成方法来生成多个计划， 从而能够将每个批组的处理工序(工序块)按照时序有效地配置。由计划安排功能部33生成的各种计划存储在存储部37中，处理执行指 示部35按照从所述各种计划中选择出的一个计划，在适当的时刻进行与各处 理部等的处理有关的动作指示，其中从所述各种计划中选择出的一个计划的 方法如后所述。通过各种计划生成方法，计划安排功能部33的配置控制部39选择取舍 工序块，并且进行配置的试验。计划安排功能部33的计划安排时间监视部41的功能是:通过计时器(图 示省略)对从开始执行各种计划生成方法的时刻起所经过的时间进行计时， 计测至U规定时间为止的时间。计划安排功能部33的计划选择部43从在规定时间内完成的计划中选择 最早结束的计划，并且将该计划通知处理执行指示部35。计划安排功能部33执行具有基本配置方法、第一配置方法、第二配置方 法、第三配置方法、第四配置方法的多个计划生成方法，下面对这些计划生 成方法进行说明。这些计划生成方法由主程序制御。图3是表示计划的主程 序的流程图。步骤S1、 S2判断对象批组数是否适当，从而分支处理。在适当的情况下处理转入步 骤S3，在不适当的情况下转入步骤S2异常结束。 步骤S3 S5 通过以下说明的各种计划生成方法，开始计划的生成(步骤S3)。与此 同时，通过计划安排时间监视部41来开始规定时间的监视(步骤S4)，在 经过规定时间之前持续计时(步骤S5)。步骤S6， S7在通过各种计划生成方法来生成的计划中，根据是否至少完成了一个计 划来分支处理。在没有完成的情况下，作为批组数不适当的情况，从步骤S1 起重新执行。另一方面，在完成了至少一个计划的情况下，选择计划。另外， 在只完成一个计划的情况下，选择该计划，在完成了多个计划的情况下，从 中选择结束预定时刻最早的计划。另外，也可以在规定时间内，在只完成了 一个计划时选择该计划。<基本配置方法〉图4是表示基本配置方法的流程的流程图。图5A表示单批的批组1的 时序图的具体例。图5B表示单批的批组2的时序图的具体例。为了便于理解发明，下面如图5所示，以使用比实际制法更简化的制法 来处理批组的情况为例进行说明。具体而言，该制法包括与通过第一搬运 机构CTC进行的搬运处理有关的处理工序(工序块A)、与通过第二搬运机 构WTR进行的搬运处理以及通过第一处理部19的纯水洗净处理部0NB1进 行的纯水洗净处理有关的处理工序(工序块B)、与通过第二搬运机构WTR 进行的搬运处理以及通过干燥处理部LPD1进行的千燥处理有关的处理工序 (工序块C)、与通过第二搬运机构WTR进行的搬运处理以及通过第一搬 运机构CTC进行的搬运处理有关的处理工序(工序块D)。另外，在以下的 说明中，将单体的处理工序或者需要连续配置的多个处理工序称为"工序块"。 并且，为了在多个批组中易于区別而对工序块标记"批组-工序块"这样的附 图标记。艮卩，附图标记"1-A"表示批组1的工序块A。在上述的制法中，在优先将批组1最初配置工序块l-A的情况下，如图 6所示存在有工序块的组合。图6是表示基本配置方法的计划的组合例的示 意图(系谱图)。该图6中虚线框中的数字与以下说明中的步骤编号对应。步骤T1， T2取得最初的工序块，根据判断是否存在该取得的工序块来将处理分支。 步骤T3， T4
检索结束预定时刻最早的前工序块。此时，由于最初配置的工序块不存在前工序块，因此这种情况下的前工序块将指示ftk组开始的时刻(开始预定时刻)作为前工序块的结束预定时刻。然后，配置结束预定时刻最早的工序 块。步骤T5 T7根据是否满足"配置条件"将处理分支，所述"配置条件"是指，各批 组在各部中没有冲突，以及因进行配置而在与前工序块之间产生的待机时间 没有超过容许时间等。在满足配置条件的情况下，取得该配置的工序块的下 一工序块。然后，在将全部的工序块配置完之前重复执行上述步骤T3。步骤T8， T9在上述步骤T2中，当不存在工序块时，转入步骤T8。然后，根据是否 存在取得前所配置的工序块，再将处理分支。在没有工序块的情况下将处理 转入步骤T9，以后移该配置开始位置的方式来存储配置位置。步骤TIO， Tll在上述步骤T8中，在存在取得前所配置的工序块的情况下，将处理转入 步骤TIO，中止该工序块的配置。然后，中止该工序块以及同时取得的工序 块的配置，返回步骤T2。步骤T12在上述步骤T5中，在不满足配置条件的情况下，在步骤T12中排除无 法配置的工序块。然后，返回步骤T2。这里，参照图7 21，对具体的计划生成进行说明。图7 图21是表示 基本配置方法的配置过程的时序图。步骤1 3指示批组1比批组2先开始处理，在图7A所示的时刻(下向箭头)进 行指示。然后，首先对结束预定时刻(开始预定时刻)早的批组1的工序块 A (附图标记l-A)进行配置(步骤1)。接着，对批组1的工序块A (附图 标记l-A)的结束预定时刻和批组2的结束预定时刻(开始预定时刻)进行 比较，由于批组2的结束预定时刻早，将批组2的工序块A (附图标记2-A) 配置在批组1的工序块A (附图标记l-A)之后(图7B、步骤2)。但是， 由于在通过相同的第一搬运机构CTC进行处理中，批组1的工序块A (附图
标记1-A)与批组2的工序块B (附图标记2-B)冲突，因此无法配置批组 2的工序块A (附图标记2-A)。因此，接着将批组1的工序块B (附图标记 l-B)配置在批组1的工序块A (附图标记1-A)之后(图7C、步骤3)。 步骤4 6对批组1的工序块B (附图标记l-B )的结束预定时刻与批组2的结束 预定时刻(开始预定时刻)进行比较，由于批组2的结束预定时刻早，因此 配置批组2的工序块A (附图标记2-A)(图8A、步骤4)。接着，对批组 1的工序块B的结束预定时刻和批组2的工序块B (附图标记2-B)的结束 预定时刻进行比较，由于工序块2-A的结束预定时刻早，因此配置批组2的 工序块B (附图标记2-B)(图8B、步骤5)。接着，对批组1的工序块B (附图标记1-B)的结束预定时刻和批组2的工序块B (附图标记2-B)的 结束预定时刻进行比较，由于工序块1-B比工序块2-B结束预定时刻早，因 此配置批组1的工序块C (附图标记1-C)(图8C、步骤6)。 步骤7 9对工序块l-C和工序块2-B的结束预定时刻进行比较，由于工序块2-B 的结束预定时刻早，因此配置批组2的工序块C (附图标记2-C)(图9A、 步骤7)。这里，由于干燥处理部LPD1的关系，工序块2-C必须与前工序 块2-B保持少许时间间隔进行配置。如果该待机时间wT在容许时间以内， 则能够配置工序块2-C ，但是如果在这里待机时间wT超过容许时间则视为 不满足配置条件。因此，中止工序块2-C的配置，并且配置工序块1-D (图 9B、步骤8)。接着，由于对批组1配置了作为最终工序块的工序块1-D， 因此选项仅有工序块2-C。因此，配置该工序块2-C (图9C、步骤9)。该 情况下，在工序块2- C中产生待机时间wT，假设该待机时间wT超过容许时 间。步骤10 12由于不满足配置条件，因此中止其前工序块l-D和工序块l-C的配置。 由于没有在工序块1- C后配置工序块2- C的选项，因此先配置工序块2- C (图 IOA、步骤IO)。然后，由于与工序块2-C相比工序块l-B结束预定时刻早， 因此配置工序块1-C (图10B、步骤ll)。这样，没有从干燥处理部LPD1 搬出的批组2的工序块C (附图标记2-C)与批组1的工序块C (附图标记
l-C)冲突。因此，在工序块2-C之后先配置工序块2-D (图IOC、步骤12)。 步骤13 15由于配置了工序块2-D，选项仅有工序块1-C，因此配置工序块l-C (图 IIA、步骤13)。但是，在工序块l-C中产生待机时间wT，假设该待机时 间wT超过容许时间。因此，中止此前配置的工序块2-D、工序块2-C、工 序块2-B的配置，并且取代它们而配置工序块1-C (图11B、步骤14)。然 后，接在工序块2-A和工序块l-C中结束预定时刻早的工序块2-A之后，配 置工序块2-B (图11C、步骤15)。步骤16 18对工序块2-B和工序块l-C进行比较，接在结束预定时刻早的工序块2-B之后配置工序块2-C (图12A、步骤16)。该情况下，在干燥处理部LPD1 中批组1的工序块l-C与批组2的工序块2-C冲突，因此不满足配置条件。 因此，代替工序块2-C配置工序块l-D (图12B、步骤17)。由于对批组l 配置了全部工序块，因此选项仅有工序块2-C (图12C、步骤18)。但是， 假设待机时间wT超过容许时间。步骤19 21由于没有在工序块2-B之后配置工序块l-D的选项，因此在工序块2-B 之前先配置工序块1-D (图13A、步骤19)。然后，接在工序块2-A和工序 块1-D中结束预定时刻早的工序块2-A之后配置工序块2-B (图13B、步骤 20)。然后，接在工序块2-B和工序块l-D中结束预定时刻早的工序块2-B 之后配置工序块2-C (图13C、步骤21)。这里，假设待机时间wT超过容 许时间。步骤22 34同样地重复上述的次序，对两个批组试验工序块配置(图14 图18A、. 步骤22 34)。该试验由图6中虚线框中的附图标记1 34表示。 步骤35 44但是在上述试验中，最终无法配置全部的工序块，因此如图18C所示增 大批组1与批组2的投入间隔再重复试验(图18B 图21、步骤35 44)。通过上述基本配置方法，在步骤44中完成全部的工序块配置。该试验由 图6中虚线框中的附图标记1 44表示。
通过上述这样，执行基本配置方法的控制部31的计划安排功能部33预先进行计划根据表示了与各批组的各工序块的制法相对应的组合的数据(图6的系谱图)，在配置任意一个批组的最初的工序块后，以该工序块为基点探索系谱图，并且，在将各批组后工序块中，将在这些前工序块中结束预定 时刻最早的批组的工序块作为后工序块而进行配置。因此，使用基本配置方法预先进行计划，能够对前工序块的后续作业和 后工序块的前续作业进行重复地配置，将前工序块先结束的批组的工序块作 为后工序块，并优先选择来配置所述后工序块，从而能够预先生成可縮短直 到后工序块结束为止的时间的计划。<第一配置方法> (无法配置的原因)图22是表示第一配置方法的流程的流程图。图23是表示第一配置方法 的计划的组合例的示意图(系谱图)。并且，步骤U1 U7与上述基本配置方法的步骤T1 T7相同而省略该 说明。另外，步骤U8 U11与上述基本配置方法的步骤T8 T11相同而省 略该说明。该第一配置方法相当于本发明的特別配置方法。步骤U12、 IJ13在步骤U5中，在不满足配置条件的情况下，根据其原因是否为待机时 间超过容许时间而将处理分支(步骤U12)。即，在原因是待机时间超过容 许时间的情况下，将取得的工序块全部排除(步骤U13)。步骤U14在上述步骤U12中，在无法配置工序块不是因为待机时间的情况下，仅 排除无法配置的工序块，转入步骤U2。在上述制法中，使批组l先开始，在第一配置方法中生成计划的情况下， 如图23所示存在工序块的组合。图23是表示第一配置方法的计划的组合例 的示意图(系谱图)。在该图23中，虚线框中的数字与以下说明的步骤编号 相对应。这里，参照图24 图35对具体的计划生成进行说明。另外，图24 图 35是表示第一配置方法的配置过程的时序图。 步骤1 6在这些步骤中，由于无法配置的原因只是批组的冲突，因此进行与上述
基本配置方法相同的配置过程(图24 (步骤1 3)以及图25 (步骤4 6)。 步骤7 9对工序块l-C和工序块2-B进行比较，由于工序块2-B的结束预定时刻 早，因此配置批组2的工序块C (附图标记2-C)(图26A、步骤7)。如果 这里产生的待机时间Wt在容许时间以内，则能够配置工序块2-C，但如果在 这里待机时间Wt超过容许时间，则无法满足配置条件。因此排除工序块1-C 而在工序块2-B之后配置工序块2-C (图26B、步骤8)。接着，根据工序块 l-B与工序块2-C的结束预定时刻，配置工序块1-C (图26C、步骤9)。步骤10 12在步骤9中，在工序块1-C前产生待机时间Wt，该待机时间Wt超过容 许时间。在排除工序块2-C和工序块2-B后，配置工序块1-C (图27A、步 骤IO)。接着，对工序块2-A和工序块l-C进行比较，配置结束预定时刻早 的工序块2-B (图27B、步骤ll)。然后，对工序块2-B和工序块l-C进行 比较，接在结束预定时刻早的工序块2-B之后来配置工序块2-C (图27C、 步骤12) 0步骤13 15在步骤12中，在工序块2-C前产生待机时间Wt，该待机时间Wt超过 容许时间。在排除工序块2-C和工序块2-B后，由于没有在工序块2-B之后 配置工序块2-C的选项，因此先配置工序块1-D (图28A、步骤13)。对工 序块2-A和工序块l-D进行比较，配置结束预定时刻早的工序块2-B(图28B、 步骤14)。然后，根据工序块2-B和工序块l-D的结束预定时刻，接在工序 块2-B之后配置工序块2-C (图28C、步骤15)。步骤16 18在步骤15中，在工序块2-C前生成待机时间Wt，该待机时间Wt超过 容许时间。排除工序块2-C、工序块2-B、工序块2-A，由于没有在工序块2-A 之后配置工序块l-C的选项，因此在工序块2-A之前先配置工序块l-C (图 29A、步骤16)。然后，对工序块1-C的结束预定时刻和批组2的结束预定 时刻(开始预定时刻)进行比较，由于批组2的结束预定时刻(开始预定时 刻)早，因此配置工序块2-A (图29B、步骤17)。接着，对工序块2-A和 工序块l-C进行比较，接在结束预定时刻早的工序块2-A之后配置工序块2-B(图29C、步骤18)。 步骤19 21对工序块l-C和工序块2-B进行比较，接在结束预定时刻早的工序块2-B 之后，配置工序块2-C (图30A、步骤19)。但是，在这里待机时间Wt超 过容许时间。因此，排除工序块2-C和工序块2-B，取代它们而配置工序块 l-D (图30B、步骤20)。对批组1配置了全部的工序块，因此选项仅有工 序块2-B,配置工序块2-B (图30C、步骤21)。步骤22 24由于选项仅有工序块2-B之后的工序块2-C，因此配置工序块2-C (图 31A、步骤22)。这里在工序块2-C前产生待机时间Wt，该待机时间Wt超 过容许时间。因此，排除工序块2-C、工序块2-B、工序块2-A (图31B、步 骤23)。由于选项仅有工序块2-A，因此配置工序块2-A(图31C、步骤24)。步骤25 27由于选项仅有工序块2-A之后的工序块2-B，因此配置工序块2-B (图 32A、步骤25)。由于接下来的选项仅有工序块2-B之后的工序块2-C，因 此配置工序块2-C (图32B、步骤26)。这里在工序块2-C前产生待机时间 Wt，该待机时间Wt超过容许时间。由于在图23的组合中无法在全部路径中 配置，因此增加批组1与批组2的投入间隔再进行配置。首先，配置开始预 定时刻早的工序块1-A (图32C、歩骤27)。步骤28 30在工序块l-A的结束预定时刻与批组2的开始预定时刻中，批组2的开 始预定时刻早，因此配置工序块2-A (图33A、步骤28)。由于批组1和批 组2在第一搬运机构CTC中冲突，因此取消工序块2-A的配置，配置工序块 l-B (图33B、步骤29)。对批组2的开始预定时刻和工序块l-B的结束预 定时刻进行比较，配置开始预定时刻早的工序块2-A (图33C、步骤30)。步骤31 33对工序块l-B和工序块2-A进行比较，由于工序块2-A的结束预定时刻 早，因此接在工序块2-A之后配置工序块2-B (图34A、步骤31)。接着， 对工序块l-B和工序块l-C进行比较，接在结束预定时刻早的工序块l-B之 后，配置工序块1-C (图34B、步骤32)。然后，在工序块l-C和工序块2-B
中，由于工序块2-B的结束预定时刻早，因此接在工序块2-B之后配置工序 块2-C (图34C、步骤33)。 步骤34 36但是，由于批组1还没有从干燥处理部LPD1搬出，因此批组1的工序 块l-C与批组2的工序块2-C发生冲突。即，不能够将工序块l-C与工序块 2-C相邻地配置。因此，排除工序块2-C，由于选项仅有工序块l-D，因此配 置工序块1-D (图35A、步骤34)。由于对批组1配置了全部的工序块，因 此选项仅有工序块2-C，配置工序块2-C (图35B、步骤35)。在配置工序 块2-C后，由于选项仅有工序块2-D，因此配置工序块2-D (图35C、步骤 36)。如果使用上述第一配置方法，与基本配置方法的44个步骤相比能够通过 较少的36个步骤来完成全部的工序块配置。该试验如图23中虚线框中的附 图标记1 36所示。这样使用第一配置方法，在根据上述基本配置方法配置工序块，并且该 工序块所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该工序块的配置，并且按照表示与各批组的各工序块的制法相对应的组合的 数据(图23的系谱图)，从比该工序块上一级的分支点还上一级的分支点开 始重新进行搜索来生成计划。因此，不必对在系谱图中位于比具有无法配置 的原因的工序块更下级的组块进行配置的试验，从而能够减少试验次数。其 结果是，与上述的基本配置方法比较能够縮短作成计划的时间。<第二配置方法〉(投入批组顺序)图36是表示第二配置方法的流程的流程图，图37是表示第二配置方法 的计划的组合例的示意图(系谱图)。另夕卜，步骤V1、 V2、 V4 V7与上述基本配置方法的步骤T1， T2、 T4 T7相同而省略该详细说明。该第二配置方法相当于本发明的"基板处理装置 的计划生成方法"。 、步骤V3在取得的工序块中对批组的开始预定时刻早的工序块进行检索。 步骤V8 V11仅步骤V9和VI1与基本配置方法的步骤T8 T11和第一配置方法的步
骤U8 11不同。即，对于具有待机时间超过容许时间的工序块的批组，步 骤V9将该批组的最初的工序块的配置开始位置在时间上后移并存储。步骤 Vll将中止配置的工序块和待机时间超过容许时间的工序块排除。 步骤V12 V14步骤V13与第一配置方法的步骤U12 U14不同。g卩，步骤V13是存储 待机时间超过容许时间的批组的工序块的情况。在上述制法中，使批组l先开始，在第二配置方法中生成计划的情况下， 如图37所示存在工序块的组合。另外，在该图37中，虚线框中的数字与以 下说明的步骤编号相对应。这里，参照图38 图43对具体的计划生成进行说明。另外，图38 图 43是表示第二配置方法的配置过程的时序图。步骤1 3首先，对结束预定时刻(开始预定时刻)早的批组1配置工序块l-A (图 38A、步骤1)。接着，在工序块l-A和工序块2-A中，由于工序块l-A的 批组的开始预定时刻早，因此在该工序块1-A之后配置工序块1-B (图38B、 步骤2)。在工序块1-B和工序块2-A中，由于工序块l-B的开始预定时刻 早，因此在该工序块l-B之后配置工序块l-C (图38C、步骤3)。步骤4 6在工序块l-C和工序块2-A中，由于批组1的工序块l-C的开始预定时 刻早，因此在该工序块1-C之后配置工序块1-D (图39A、步骤4)。由于对 批组1配置了全部的工序块，因此选项仅有工序块2-A，配置工序块2-A(图 39B、步骤5)。接着，在工序块2-A之后配置工序块2-B (图39C、步骤6)。步骤7 9由于选项仅有工序块2-C，因此配置工序块2-C (图40A、步骤7)。但 是，该待机时间Wt超过容许时间。因此，存储因待机时间超过容许时间而 无法配置的情况，并且排除无法配置的工序块。具体而言，除批组2的全部 工序块和批组1的工序块l-A (图40B、步骤8)以外的部分。此后，增加批 组1和批组2的投入间隔再生成计划。首先，在批组1和批组2中，由于批 组l的开始预定时刻早，因此配置工序块1-A (图40B、步骤8)。在批组l 的工序块l-B和批组2的工序块2-A中，由于批组1的开始预定时刻早，因
此配置批组1的工序块l-B (图40C、步骤9)。 步骤10 12在批组1的工序块l-C和批组2的工序块2-A中，由于批组1的开始预 定时刻早，因此配置批组1的工序块l-C (图41A、步骤10)，接着在工序 块l-C和工序块2-A中，由于工序块l-C的批组1的开始预定时刻早，因此 配置工序块l-D (图41B、步骤11)。然后，对批组1配置了全部的工序块， 因此配置批组2的工序块2-A (图41C、步骤12)。但是，工序块1-A与工 序块2-A的时间间隔比之前的时间间隔大。步骤13 15由于选项仅有工序块2-B，因此配置工序块2-B (图42A、步骤13)。 由于选项仅有工序块2-C，因此配置工序块2-C (图42B、步骤14)。接着， 由于选项仅有工序块2-D，因此配置工序块2-D (图42C、步骤15)。如果使用上述的第二配置方法，则与基本配置方法的44个步骤相比能够 以较少的15个步骤完成全部的工序块配置。该试验由图37中虚线框中的附 图标记1 15表示。这样使用第二配置方法，通过对最初指定的各批组的处理开始顺序靠前 的批组的工序块进行优先配置，从而能够避免以下情况S卩，在配置了某个 批组的工序块后对不同的批组的工序块进行配置时，由于物理上的限制无法 配置，发生回溯系谱图之类的工序块配置倒退的情况。因此，能够縮短生成 计划的时间。<第三配置方法> (连续工序块)在说明该第三配置方法时，为了明确与基本配置方法的不同，使用与上 述制法不同的由图43表示的制法，并且将以3个批组为对象生成计划的情况 作为例子。图43A表示单批的批组1的时序图的具体例。图43B表示单批的 批组2的时序图的具体例。图43C表示单批的批组3的时序图的具体例。在批组数为3的情况下，如果采用上述制法则如图44、图45所示存在 工序块的组合。图44是表示在通过基本配置方法处理3个批组时计划的组合 例的示意图(系谱图)。在该图44中，虚线框中的数字与以下说明的步骤编 号对应。另外，该第三配置方法相当于本发明的"基板处理装置的计划生成方法"。<3个批组时的基本配置方法〉这里参照图46 图51对计划生成进行具体说明。图46 图51是表示3 个批组时的基本配置方法的配置过程的时序图。并且，在批组1和批组2之后设定批组3的开始预定时刻，该时机例如 图46A所示。S卩，当批组1在纯水洗净处理部ONB1中进行处理，批组2在 纯水洗净处理部ONB2中进行处理时，设定批组3的开始预定时刻。因此， 首先排除工序块l-B和工序块2-B的后工序块(图46B)，此时工序块l-B 和工序块2-B正在进行处理。步骤1此时，在工序块l-B的结束预定时刻、工序块2-B的结束预定时刻、批 组3的开始预定时刻中，批组3的开始预定时刻最早，因此配置工序块3-A (图46C、步骤l)。 步骤2 4在工序块l-B、工序块2-B、工序块3-A中，工序块3-A的结束预定时刻 最早，因此配置工序块3-B (图47A、步骤2)。但是，工序块2-B没有被从 纯水洗净处理部ONB2搬出，因此产生批组的冲突。从而，无法配置工序块 3-B。因此，将批组3的工序块3-A的配置位置在时间上后移来进行配置(图 47B、步骤3)。在工序块1-B、工序块2-B、工序块3-A中，工序块3-A的 结束预定时刻最早，因此配置工序块3-B (图47C、步骤4)。步骤5 7由于批组2和批组3在纯水洗净处理部ONB2中冲突，因此无法配置工 序块3-B。因此，排除工序块3-B，再次将工序块3-A在时间上后移(图48A、 步骤5)。然后，接在工序块1-B、工序块2-B、工序块3-A中结束预定时刻 最早的工序块2-B之后，配置工序块2-C (图48B、步骤6)。然后，对工序 块l-B、工序块2-C、工序块3-A，接在结束预定时刻最早的工序块3-A之后 配置工序块3-B (图48C、步骤7)。步骤8 10对于工序块1-B、工序块2-C、工序块3-B，接在结束预定时刻最早的工 序块l-B之后配置工序块l-C (图49A、步骤8)。但是由于批组发生冲突， 所以排除工序块l-C，并且接在工序块2-C和工序块3-B中结束预定时刻早
的工序块2-C之后配置工序块2-D (图49B、步骤9)。然后，接在工序块 l-B、工序块2-D、工序块3-B中结束预定时刻最早的工序块1-B之后配置工 序块1-C (图49C、步骤IO)。 步骤11 13接在工序块l-C、工序块3-B中结束预定时刻最早的工序块3-B之后配 置工序块3-C (图50A、步骤ll)。但是由于工序块1-C与工序块3-C冲突， 因此取消工序块3-C的配置，取代该工序块3-C而在工序块l-C之后配置工 序块l-D (图50B、步骤12)。接着，由于选项仅有工序块3-C,因此配置 工序块3-C (图50C、步骤13)。步骤14由于选项仅有工序块3-D,因此接在工序块3-C之后配置工序块3-D (图 51、步骤14)。如上所述，如果在3个批组的情况下使用基本配置方法，则能够在步骤 14中完成全部的工序块配置。该试验由图44中虚线框中的附图标记1 14下面对第三配置方法进行说明。图52是表示第三配置方法的流程的流程 图。图53和图54是表示第三配置方法的计划的组合例的示意图(系谱图)。 步骤W1、 W2在没有变为无法配置的状态的批组中，取得还没有开始的最初的工序块。 根据是否存在工序块将处理分支。 步骤W3 W8在取得的工序块中，对前工序块的结束预定时刻最早的工序块进行检索 (步骤W3)，配置该工序块(步骤W4)。然后，根据是否满足配置条件将 处理分支(步骤W5)。在满足配置条件的情况下，取得所配置的工序块之 后的工序块(步骤W6)，由于是相同批组的工序块，因此根据是否存在该 工序块的下一工序块将处理分支(步骤W7)。在没有下一工序块的情况下， 根据是否配置了全部的工序块将处理分支，在全部工序块的配置完成之前， 重复执行从步骤W3起的动作(步骤W8)。步骤W9在步骤W2中不存在工序块的情况下，对无法配置的状态进行重置，将
该批组的最初的工序块的配置开始位置在时间上后移并存储。步骤W10在步骤W5中，在不满足配置条件的情况下，排除无法配置的批组的工 序块，存储无法配置的情况。 步骤Wll在步骤W7中，在存在相同批组的工序块的情况下，根据能否满足配置 条件并可以进行配置，将处理分支。在满足配置条件可以配置的情况下转入 步骤W6，在无法配置的情况下转入步骤WIO。这里参照图55 图59对具体的计划生成进行说明。图55 图59是表示 第三配置方法的配置过程的时序图。并且，与上述基本配置方法相同，在批组1和批组2之后设定批组3的 开始预定时刻，其时机例如如图55A所示。因此，首先排除工序块1-B和工 序块2-B的后工序块(图55B)，此时工序块1-B和工序块2-B正在处理中。步骤l此时，在工序块l-B的结束预定时刻、工序块2-B的结束预定时刻、批 组3的开始预定时刻中，批组3的开始预定时刻最早，因此配置工序块3-A (图55C、步骤l)。 步骤2 4由于配置了工序块3-A，接着配置工序块3-B (图56A、步骤2)。但是， 由于工序块2-B与工序块3-B冲突，因此取消工序块3-B的配置并存储该情 况。由于无法配置批组3的工序块3-B，因此删除工序块3-A、 3-B，接着配 置结束预定时刻早的工序块2-C (图56B、步骤3)。然后，由于存在相同的 批组3的工序块2-D，在工序块2-C之后配置工序块2-D (图56C、步骤4)。步骤5 7由于对批组2完成了全部工序块的配置，接着对开始预定时刻早的批组 3的工序块3-A进行配置(图57A、步骤5)。但是，由于前一次配置是无法 配置的情况，所以将其配置开始位置在时间上后移并存储。因此，与步骤2(图56A)比较的话，该配置位置在时间上错开。由于配置了工序块3-A， 接着配置工序块3-B (图57B、步骤6)。但是，由于不能满足配置条件从而 进行配置，因此排除工序块3-B并且排除工序块3-A，配置批组l的工序块 l-C (图57C、步骤7)。 步骤8 10由于配置了步骤1-C，接着配置工序块1-D (图58A、步骤8)。由于完 成了批组1的全部工序块的配置，因此对批组3进行配置。此时，由于在之 前的步骤5 (图57A)中将配置位置错开，因此工序块3-A配置在时间上滞 后的位置(图58B、步骤9)。由于配置了工序块3-A，接着配置工序块3-B (图58C、步骤IO)。步骤11、 12由于配置了工序块3-B，接着配置工序块3-C (图59A、步骤11)。由 于配置了工序块3-C，接着配置工序块3-D (图59B、步骤12)。如果使用上述第三配置方法，则与基本配置方法14个步骤相比，能够以 较少的12个步骤完成全部工序块的配置。该试验由图53和图54中虚线框中 的附图标记1 14表示。 .这样在第三配置方法中，对与先配置的批组相同的批组的工序块进行优 先配置，从而，对于从装置停止状态开始重新进行处理的计划，能够縮短生 成计划的时间。<第四配置方法〉图60是表示第四配置方法的流程的流程图，图61是表示第四配置方法 的计划的组合例的示意图(系谱图)。另外，步骤X1、 X2、 X4 X7与上述基本配置方法的步骤T1， T2、 T4 T7相同，省略该说明。该第四配置方法相当于本发明的"基板处理装置的计划生成方法"。步骤X3在取得的工序块中，检索前工序块中容许时间最短的工序块。但是，在 最初的各工序块彼此的比较中，对各工序块的开始预定时刻进行比较，选择 开始预定时刻早的工序块。步骤x8 xn步骤X9和步骤X11不同于基本配置方法。S卩，在步骤X9中，如果是 待机时间超过容许时间的批组的工序块，则将配置开始位置后移并存储。在 步骤X11中，再次取得与中止配置的工序块同时取得的工序块，将中止配置
的工序块和待机时间超过容许时间的批组的工序块排除。步骤X12 X14这些步骤与上述第二配置方法相同。在上述基本配置方法、第一配置方法、第二配置方法的制法中，使批组 l先开始，在第四配置方法中生成计划的情况下，存在如图61所示的工序块 的组合。另外，在该图61中，虚线框中的数字与以下说明的步骤编号相对应。这里参照图62 图66对计划生成进行具体说明。图62 图66是表示第 四配置方法的配置过程的时序图。但是在该例中，第一搬运机构CTC的容许 时间=0，干燥处理部LPD1的容许时间=~，第一处理部的纯水洗净处理部 0NB1和第二处理部的纯水洗净处理部ONB2的容许时间=°°。步骤1 3首先，对于结束预定时刻(开始预定时刻)早的批组1配置工序块l-A (图62A、步骤l)。接着，可配置的为工序块1-B和工序块2-A，由于在各 前工序块l-A和批组2的开始预定时刻中，工序块l-A的容许时间短，所以 在其后配置工序块1-B (图62B、步骤2)。接着，可配置的为工序块1-C和 工序块2-A，由于在各前工序块l-B和批组2的开始预定时刻中，工序块l-B 的容许时间短，因此在工序块l-B之后配置工序块l-C (图62C、步骤2)。步骤4 5接着可配置为工序块l-D和批组2的工序块2-A，各前工序块l-C和批 组2的开始预定时刻的容许时间相同，因此对工序块l-C和工序块2-A进行 比较，配置开始预定时刻早的工序块2-A (图63A、步骤4)。然后，对可配 置的工序块l-D和工序块2-B的前工序块，即工序块l-C (容许时间= 0 和工序块2-A (容许时间=0)的容许时间进行比较，在容许时间短的工序块 2-A之后配置工序块2-B (图63B、步骤5)。接着，对可配置的工序块l-D 和工序块2-C的前工序块，即工序块l-C (容许时间=。)和工序块2-B (容 许时间=180秒)的容许时间进行比较，在容许时间短的工序块2-B之后配 置工序块2-C (图63C、步骤6)。步骤7 9但是，假设这里工序块2-C的待机时间Wt超过容许时间。因此，增大 批组1与批组2的投入间隔再次生成计划。首先，配置开始预定时刻早的批
组1的工序块l-A (图64A、步骤7)。在可配置的工序块l-B的前工序块 l-A和在可配置的工序块2-A之前的批组2的开始预定时刻中，由于工序块 l-A的容许时间短，因此在工序块l-A之后配置工序块l-B(图64B、步骤8)。 接着，配置容许时间短的工序块l-C (图64C、步骤9)。 步骤10 12在可配置的工序块l-D和工序块2-A的各相当于前工序块的工序块l-C 和开始预定时刻中，由于工序块2-A的开始预定时刻早，因此配置工序块2-A (图65A、步骤IO)。接着，由于在相当于前工序块的工序块l-C (容许时 间= 0和工序块2-A (容许时间二O秒)中，工序块2-A的容许时间短，因 此在工序块2-A之后配置工序块2-B (图65B、步骤ll)。然后，由于在相 当于前工序块的工序块l-C (容许时间=°°)和工序块2-B (容许时间=180 秒)中，工序块2-B的容许时间短，因此在工序块2-B之后配置工序块2-C (图65C、步骤12)。 步骤13 15但是，如果配置工序块2-C，则在干燥处理部LPD1中批组1与批组2 冲突，因此排除工序块2-C配置工序块l-D (图66A、步骤13)。由于对批 组1完成了全部工序块的配置，因此选项仅有工序块2-C，配置工序块2-C (图66B、步骤14)。由于选项仅有工序块2-D，因此配置工序块2-D (图 66C、步骤15)。如果使用上述的第四配置方法，则与基本配置方法的44个步骤相比能够 以较少的15个步骤完成全部工序块的配置。该试验由图61中虚线框内的附 图标记1 15表示。如果使用上述第四配置方法，则能够避免以下情况即使容许时间短的工序块在物理上能够配置，但是因无法确保容许时间而导致无法配置，从而 在组合(系谱图)中发生倒退的情况较多。因此，通过对容许时间短的工序 块进行优先配置，从而易于避免由于容许时间引起的无法配置，能够縮短生 成计划时间。使用上述的基本配置方法、第一配置方法、第二配置方法、第三配置方 法、第四配置方法的计划生成方法来生成计划，在规定时间内生成计划的计 划中，通过执行结束预定时刻早的计划，从而能够提高基板处理装置的运转
率。并且，由于具有多种配置方法，从而能够防止计划生成时间增加。 本发明不仅限于上述实施方式，可以如下所述进行变形实施。(1) 在上述实施例中，将基本配置方法与第一配置方法、第二配置方法、 第三配置方法、第四配置方法组合而成的计划方法作为例子进行了说明，但 是本发明也可以将基本配置方法与至少任意一个配置方法组合。(2) 在上述实施例中，采用对两个批组或三个批组同时进行处理的情况 下的计划作为例子，但是本发明对于以4个以上的批组为对象来生成计划的 情况也适用。(3) 在上述实施例中，以对批组进行水洗处理、干燥处理的制法为例进 行了说明，但是本发明不仅限于该制法，也可以适用于各种制法。
权利要求
1. 一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第一配置方法，从而生成多个计划的步骤，在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第一配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序，并且所述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点开始进行重新搜索。
2. 如权利要求1所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第二配置方法，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在按 照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对 在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置。
3. 如权利要求1所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第三配置方法，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
4. 如权利要求2所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第三配置方法，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
5. 如权利要求1~4中任一项所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于，在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
6. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实施 处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有多 个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺 序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第二配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在按照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对 在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置。
7. 如权利要求6所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于，在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第三配置方法，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
8. 如权利要求6或7所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于，在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
9. 一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有多 个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺 序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
10. 如权利要求9所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，赊了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
11. 一种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤执行基本配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第四配置方法是在按照所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
12. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤 执行第一配置方法和第二配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的 下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在按 照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对 在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置。
13. 如权利要求12所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第三配置方法，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
14. 如权利要求12或13所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征 在于，在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
15. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于， 包括以下步骤执行第一配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的 下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
16. 如权利要求15所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
17. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤 执行第一配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的 下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
18. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤-执行第二配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最 初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各 批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先 配置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理 次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后， 在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序， 来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
19. 如权利要求18所述的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于， 在所述生成多个计划的步骤中，除了各配置方法以外还具有第四配置方法，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
20. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第二配置方法和第西配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最 初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各 批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先 配置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理 次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后， 在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序 中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序， 来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配置。
21. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤执行第三配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述第三配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在存在有 能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况 下，对所述批组的处理工序进行优先配置，其中，所述基本配置方法是按 照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意 一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序探索所述系谱图的同 时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定 时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
22. 如权利要求l、 6、 9、 11、 12、 15、 17、 18、 20、 21中任一项所述 的基板处理装置的计划生成方法，其特征在于，在选择所述计划的步骤中，所述控制部从在规定时间内完成的计划中选 择最早完成处理的唯一一个计划。
23. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行基本配置方法和第一配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第一配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序，并且所 述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下， 取消该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分 支点开始进行重新搜索。
24. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行基本配置方法和第二配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在按 照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对 在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置。
25. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行基本配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下 一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
26. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行基本配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在按照所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
27. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第一配置方法和第二配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的 下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第二配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在按 照最初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对 在各批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行 优先配置。
28. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第一配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的 下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
29. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第一配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第一配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序，并且所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处 理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的 处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组 的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
30. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第二配置方法和第三配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最 初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各 批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先 配置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理 次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后， 在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序 中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序， 来作为下一处理工序，所述第三配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，在存 在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情 况下，对所述批组的处理工序进行优先配置。
31. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第二配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第二配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在按照最 初指定的各批组的处理开始顺序来对各批组配置最初的处理工序后，对在各 批组的下一处理工序中的所述处理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先 配置，其中，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理 次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后， 在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序 中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序， 来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
32. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤执行第三配置方法和第四配置方法，从而生成多个计划的步骤， 在生成所述多个计划的同时,从其中选择在规定时间内完成了计划的一 个计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述第三配置方法是在根据基本配置方法配置处理工序时，在存在有 能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况 下，对所述批组的处理工序进行优先配置，其中，所述基本配置方法是按 照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意 一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱 图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序，来作为下一处理工序，所述第四配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时，对具 有在处理部可待机的容许时间短的处理工序的批组的处理工序进行优先配 置。
33. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤根据基本配置方法配置处理工序的步骤；并用特别配置方法生成计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部来执行，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对 应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序来作为下一 处理工序，所述特别配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序时所述处 理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下，取消 该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分支点 开始进行重新搜索。
34. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤根据基本配置方法配置处理工序的步骤；并用特别配置方法生成计划的步骤；使所述控制部执行上述的两步骤，所述基本配置方法是按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述 处理工序为基点探索所述系谱图的同时，在各批组的下一处理工序中，搜索 并配置各自的前处理工序的结束预定时刻最早的批组的处理工序来作为下一 处理工序，所述特别配置方法是在根据所述基本配置方法配置处理工序，并且所 述处理工序所产生的待机时间超过在处理部中可待机的容许时间的情况下， 取消该处理工序的配置，并且从比该处理工序上一级的分支点还上一级的分 支点开始进行重新搜索。
35. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所 述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在按照最初指定的各批组的处理开始顺序 对各批组配置了最初的处理工序后，对在各批组的下一处理工序中的所述处 理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤，上述的两步骤由所述控制部来执行。
36. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所 述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在按照最初指定的各批组的处理开始顺序 对各批组配置了最初的处理工序后，对在各批组的下一处理工序中的所述处 理开始顺序靠前的批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤， 使所述控制部执行上述的两步骤。
37. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在存在有能够接在先配置的批组的处理工 序之后配置的所述批组的处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优 先配置，从而生成计划的步骤，上述的两步骤由所述控制部来执行。
38. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，在存在有能够接在先配置的批组的处理工序之后配置的所述批组的处理工序的情况下，对所述批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤，使所述控制部执行上述的两步骤。
39. —种基板处理装置的计划生成方法，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于， 包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所 述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，对具有在处理部可待机的容许时间短的处 理工序的批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤，上述的两步骤由所述控制部来执行。
40. —种基板处理装置的计划生成程序，在通过具有多个用于对基板实 施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有 多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理 顺序，其特征在于，所述程序包括以下步骤按照表示与各批组的各处理工序的处理次序相对应的组合的系谱图，在 对任意一个批组配置了最初的处理工序后，在以所述处理工序为基点探索所 述系谱图的同时，搜索配置各批组的下一处理工序的步骤；在搜索配置下一处理工序时，对具有在处理部可待机的容许时间短的处 理工序的批组的处理工序进行优先配置，从而生成计划的步骤，使所述控制部执行上述的两步骤。
全文摘要
本发明提供一种基板处理装置的计划生成方法及其程序。在通过具有多个用于对基板实施处理的处理部的基板处理装置来处理多个批组时，控制部为了按照包含有多个处理工序的处理次序在各处理部中顺次处理各批组而确定各批组的处理顺序，所述方法包括以下步骤。即，执行基本配置方法和第一配置方法，从而生成多个计划的步骤，以及在生成所述多个计划的同时，从其中选择在规定时间内完成了计划的一个计划的步骤；上述的两步骤由所述控制部执行。
文档编号G05B19/418GK101398684SQ200810136129
公开日2009年4月1日 申请日期2008年7月10日 优先权日2007年7月10日
发明者山本真弘, 山田大吾 申请人:大日本网屏制造株式会社