一种液位监控装置的制作方法

文档序号:15124097发布日期:2018-08-07 23:48阅读:423来源:国知局

本实用新型涉及铝箔生产领域,特别涉及一种用于监控铸轧机前箱、流槽液位的液位监控装置。



背景技术:

当铸轧速度、铝液温度和铸轧辊冷却强度一定的条件下,前箱液位直接影响铸轧带坯的厚度。同时为了保证铸轧过程的连续性,当铸轧速度变化时,所需金属液位应稳定在一定的范围内。

现下的液位控制监控和调控,多是由专人持续进行监控,并通过手动拨动手竿,达到调节液位高度的目的,劳动强度极大,极易出现质量问题,且出现问题时,无法进行追溯及趋势分析。



技术实现要素:

针对上述问题,本实用新型提出了一种液位监控装置。

具体的技术方案如下:

一种液位监控装置,用于监控和调整铸轧机的流槽内的铝液液位,包括PLC控制器、位移传感器、报警器和调节机构,其特征在于,所述流槽包括进液端和出液端,所述进液端和出液端呈L形弯折并连通,所述PLC控制器与位移传感器、报警器和调节机构电性相连,并控制位移传感器、报警器和调节机构,所述位移传感器为激光CCD位移传感器,其通过调节支架固定设置于出液端的正上方,其感应端竖直朝下设置;

所述调节支架包括2个纵向支架、2个横向支架和伸缩气缸,所述2个纵向支架的两端立于出液端上,所述横向支架的两端与2个纵向支架的上端固定连接,所述伸缩气缸设置于横向支架的中部下端,并与横向支架固定连接,伸缩气缸的伸缩端竖直朝下设置,并与位移传感器固定连接,伸缩气缸控制位移传感器的竖直高度;

所述调节机构包括伺服电机和调节板,所述伺服电机固定设置于进液端的正上方,其转动端竖直朝下设置,所述调节板呈倒梯形的平面直板,调节板的上半部上设有呈中空圆柱形的连接柱,调节板的下端两侧呈圆弧形,其所呈的圆弧形所对应的圆心角为α,所述α为60°~70°,调节板通过连接柱与伺服电机连接;

进一步的,所述报警器为声光报警器;

进一步的,所述调节板的形状与流槽的纵截面契合;

进一步的,所述伸缩气缸与PLC控制器电性相连。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型提出的一种液位监控装置,用于监控和调整铸轧机的流槽内的铝液液位,包括PLC控制器、位移传感器、报警器和调节机构,PLC控制器与位移传感器、报警器和调节机构电性相连,位移传感器定设置于流槽的出液端上,调节机构包括伺服电机和调节板,本实用新型结构简单,设计合理,位移传感器发出稳定光源,根据铝液液面上的光斑变化,计算出铝液液位,PLC根据位移传感器返回的液位变化值,控制伺服电机转动,带动调节板转动,调整进液端的进液面积,进而调整铝液液位,从而保证了铝液液位在一定精度范围内的恒定,保证了铝箔的生产质量,同时设置了报警器,如长时间铝液液位不在控制范围内(位移传感器传达的液面高度长时间不在预先设定的范围值内),用于提醒工作人员前来查看。

附图说明

图1本实用新型侧视图。

图2 A-A向截面图。

图3调节板示意图。

图4流槽俯视图。

具体实施方式

为使本实用新型的技术方案更加清晰明确,下面结合附图对本实用新型进行进一步描述,任何对本实用新型技术方案的技术特征进行等价替换和常规推理得出的方案均落入本实用新型保护范围。

如图所示的一种液位监控装置,用于监控和调整铸轧机的流槽1内的铝液液位,包括PLC控制器2、位移传感器3、报警器4和调节机构5,其特征在于,所述流槽1包括进液端6和出液端7,所述进液端6和出液端7呈L形弯折并连通,所述PLC控制器2与位移传感器3、报警器4和调节机构5电性相连,并控制位移传感器3、报警器4和调节机构5,所述位移传感器3为激光CCD位移传感器,其通过调节支架8固定设置于出液端7的正上方,其感应端竖直朝下设置;

所述调节支架8包括2个纵向支架9、2个横向支架10和伸缩气缸11,所述2个纵向支架9的两端立于出液端7上,所述横向支架10的两端与2个纵向支架9的上端固定连接,所述伸缩气缸11设置于横向支架10的中部下端,并与横向支架10固定连接,伸缩气缸11的伸缩端竖直朝下设置,并与位移传感器3固定连接,伸缩气缸11控制位移传感器3的竖直高度;

所述调节机构5包括伺服电机12和调节板13,所述伺服电机12固定设置于进液端6的正上方,其转动端竖直朝下设置,所述调节板13呈倒梯形的平面直板,调节板13的上半部上设有呈中空圆柱形的连接柱14,调节板13的下端两侧呈圆弧形,其所呈的圆弧形所对应的圆心角为α,所述α为60°~70°,调节板13通过连接柱14与伺服电机12连接;

进一步的,所述报警器4为声光报警器;

进一步的,所述调节板13的形状与流槽1的纵截面契合;

进一步的,所述伸缩气缸11与PLC控制器2电性相连。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1