需要长时间激发、检测的痕量元素的分析。
[0069]2、性能稳定，分析结果准确:
[0070]通过精确的温控设计，使得X射线荧光光谱仪在工作过程中性能稳定。一方面，增加X射线管的单次激发时间，获得更平滑的光谱；另一方面保证探测器内维持在设定的制冷温度，保证探测器的良好分辨率，改进探测器的稳定性，从而确保分析结果的准确性、可靠性。
[0071]实施例2
[0072]请参阅图1，本实施例提供一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置，包括:X射线管1、X射线管温度传感器21、环境温度传感器22、环境湿度传感器23、导热结构3、TEC制冷器4、散热片51、进风口风扇52、出风口风扇53和控制模块6。
[0073]所述X射线管温度传感器21检测X射线管I的表面温度，并反馈给所述控制模块6 ；
[0074]所述TEC制冷器4对导热结构3、X射线管I进行制冷；
[0075]所述导热结构3由导热凝胶制成，具有很好的导热性，能够将X射线管I散出的热量快速传导到所述TEC制冷器4制冷，也能将TEC制冷器4的冷源快速传导给X射线管1，降低其表面温度；
[0076]所述散热片51与所述TEC制冷器4相连，TEC制冷器4在制冷过程中产生的热量导入到散热片51上，环境空气经由进风口风扇52、出风口风扇53，带走散热片51上的空气，以达到降温的目的；
[0077]所述控制模块6接收所述X射线管温度传感器21、环境温度传感器22反馈的温度信息，控制TEC制冷器4制冷，进风口风扇52、出风口风扇53工作，以维持X射线管I的表面温度与环境温度一致。
[0078]本实施例还提供一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控方法，包含以下步骤:
[0079](Al)环境温度传感器监测到当前环境温度为15°C，X射线管温度传感器监测到当前X射线管I表面温度为15.6°C，两者温度信息反馈到控制模块；
[0080](A2)所述控制模块控制TEC制冷器对X射线管制冷，控制模块接收X射线管温度传感器反馈的X射线管表面温度与环境温度传感器反馈的环境温度之差的绝对值在0.20C以内，即控制模块接收到X射线管温度传感器反馈的X射线管的表面温度为14.8°C?15.2°C之间时，停止TEC冷却器制冷；
[0081](A3)控制模块接收到X射线管的表面温度高于环境温度0.2°C以上时，再次控制TEC制冷器对X射线管制冷，以维持X射线管表面的温度与环境温度之差在±0.2°C之内。
[0082]作为优选，所述环境温度为每次X射线管激发之前，控制模块控制环境温度传感器反馈的激发前10秒内的环境温度。
[0083]进一步，所述温控方法采用前述能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置对温度进行控制。
[0084]作为优选，所述能量色散X射线荧光光谱仪的温控方法进一步包括以下步骤:
[0085](BI)环境湿度传感器监测环境湿度，所述控制模块接收环境湿度信息；
[0086](B2)环境湿度较高时，所述控制模块协调散热器和制冷器共同工作，将X射线管温度控制在环境温度15°C与X射线管工作温度上限之间；环境湿度较低时，所述控制模块控制X射线管温度在露点温度和环境温度15°C之间。
[0087]进一步，在所述步骤(B2)中，环境湿度彡70% RH时，所述控制模块控制所述X射线管温度在温度M与X射线管工作温度上限之间。
[0088]进一步，所述温度M彡20°C。
[0089]作为优选，所述温度M为20°C。
[0090]作为优选，环境湿度多70% RH时，所述控制模块控制所述X射线管温度保持在20。。。
[0091]进一步，环境湿度在40% RH与70% RH之间时，所述控制模块控制所述X射线管温度在环境温度15°C与X射线管工作温度上限之间。
[0092]作为优选，40 % RH <环境湿度< 70 % RH时，所述控制模块控制所述X射线管温度保持在 15°C ±0.2°C。
[0093]进一步，环境湿度< 40% RH时，所述控制模块控制X射线管温度在露点温度和环境温度15°C之间。
[0094]作为优选，环境湿度< 40% RH时，所述控制模块将发热模块温度控制在5°C，此时未达到露点温度，且温度低，X射线管灵敏度高。
[0095]作为优选，所述环境温度为每次X射线管激发之前，控制模块控制环境温度传感器反馈的激发之前10秒内的环境温度。
[0096]进一步，所述温控方法采用前述能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置对温度进行控制。
[0097]实施例3
[0098]请参阅图2，本实施例提供一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置，与实施例2不同的是，本实施例的发热模块包括X射线管和半导体探测器，控制模块同时对X射线管11和探测器12进行控温。
[0099]上述实施方式不应理解为对本发明保护范围的限制。本发明的关键是:对能量色散X射线荧光光谱仪的X射线管和探测器进行精确温控，提高仪器的稳定性和适用性。在不脱离本发明精神的情况下，对本发明作出的任何形式的改变均应落入本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置，包括:发热模块，其特征在于:所述温控装置进一步包括: 导热结构，所述导热结构连接发热模块和制冷器； 制冷器，所述制冷器对所述导热结构和发热模块制冷； 散热器，所述散热器与所述制冷器相连； 温度传感器，所述温度传感器包括环境温度传感器和发热模块温度传感器； 控制模块，所述控制模块连接所述发热模块、环境温度传感器、发热模块温度传感器、散热器和制冷器。
2.根据权利要求1所述的温控装置，其特征在于:所述温控装置进一步包括:环境湿度传感器。
3.根据权利要求1任一所述的温控装置，其特征在于:所述发热模块为X射线管或/和探测器。
4.根据权利要求1所述的温控装置，其特征在于:所述制冷器可以是TEC制冷器、涡旋制冷器或压缩机制冷器。
5.一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控方法，包括以下步骤: (Al)环境温度传感器监测环境温度，发热模块传感器监测发热模块温度，控制模块接收反馈的温度信息； (A2)所述控制模块协调散热器和制冷器共同工作，将发热模块温度控制在环境温度与发热模块最高温度上限之间。
6.根据权利要求5所述的温控方法，其特征在于:所述步骤(A2)中，控制所述发热模块温度与环境温度保持一致。
7.根据权利要求5所述的温控方法，其特征在于:所述温控方法进一步包括以下步骤: (BI)环境湿度传感器监测环境湿度，所述控制模块接收环境湿度信息； (B2)环境湿度较高时，所述控制模块协调散热器和制冷器共同工作，将发热模块温度控制在环境温度与发热模块最高温度上限之间；环境湿度较低时，所述控制模块控制发热模块温度在露点温度和环境温度之间。
8.根据权利要求7所述的温控方法，其特征在于:所述步骤(B2)中，环境湿度较高时，控制模块控制所述发热模块温度在温度M与最高温度上限之间。
9.根据权利要求8所述的温控方法，其特征在于:所述温度M至少超过环境温度5°C。
10.根据权利要求5?9任一所述的温控方法，其特征在于:所述环境温度为每次X射线管激发之前，控制模块控制环境温度传感器反馈的激发前10秒内的环境温度。
【专利摘要】本发明涉及一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控装置，包括：发热模块；导热结构，所述导热结构连接发热模块和制冷器；制冷器，所述制冷器对所述导热结构和发热模块制冷；散热器，所述散热器与所述制冷器相连；温度传感器，所述温度传感器包括环境温度传感器和发热模块温度传感器；控制模块，所述控制模块连接所述发热模块、环境温度传感器、发热模块温度传感器、散热器和制冷器。本发明还提供一种能量色散X射线荧光光谱仪的温控方法。本发明具有结构简单、精确温控、适用性强、性能稳定等优点。
【IPC分类】G05D23-19, G01N23-223
【公开号】CN104571185
【申请号】CN201410855643
【发明人】姜雪娇, 陈立波, 叶华俊, 黄伟, 孙敬文, 宋鹏涛, 刘韬
【申请人】聚光科技(杭州)股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年12月31日