1.一种指纹成像模组的制作方法，其特征在于，包括：
提供图像传感器；
在所述图像传感器上形成上色层；
对所述上色层进行图形化形成露出所述图像传感器的开口，以形成上色图形层。
2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述图像传感器上形成上色层的步骤包括：
在所述图像传感器上涂布上色层薄膜；
热处理所述上色层薄膜，以形成上色层。
3.如权利要求2所述的制作方法，其特征在于，热处理所述上色层薄膜的步骤包括：对涂布有上色层薄膜的所述图像传感器进行干燥和烘烤处理。
4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述上色层材料为光阻剂。
5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述光阻剂颜色为白色、黑色或金色。
6.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述上色层的厚度在0.5μm～10μm范围内。
7.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对所述上色层进行图形化的步骤包括：
通过掩模对所述上色层进行曝光；
在曝光后的所述上色层上涂布显影液形成露出所述图像传感器的开口，以形成上色图形层。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述开口为露出图像传感器的孔隙或缝隙。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述孔隙的形状为方形或圆形。
10.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，对所述上色层进行图形化形 成上色图形层的步骤之后，所述制作方法还包括：热处理所述上色图形层。
11.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，提供图像传感器的步骤之后，在所述图像传感器上形成上色层的步骤之前，所述制作方法还包括：
对所述图像传感器进行清洗。
12.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：
图像传感器，用于感测指纹图像；
位于所述图像传感器上的上色图形层，所述上色图形层包括露出所述图像传感器的开口。
13.如权利要求12所述的指纹成像模组，其特征在于，所述上色图形层的材料为光阻剂。
14.如权利要求12所述的指纹成像模组，其特征在于，所述上色图形层的颜色为白色、黑色或金色。
15.如权利要求12所述的指纹成像模组，其特征在于，所述上色图形层的厚度在0.5μm～10μm范围内。
16.如权利要求12所述的指纹成像模组，其特征在于，所述开口为露出图像传感器的孔隙或缝隙。
17.如权利要求16所述的指纹成像模组，其特征在于，所述孔隙的形状为方形或圆形。