触摸面板的层堆叠和用于形成层堆叠的方法
【技术领域】
[0001]本发明的实施例涉及触摸面板的层堆叠和用于形成触摸面板的层堆叠的方法。本发明的实施例尤其涉及包括TCO层的触摸面板的层堆叠(特别地涉及层堆叠中的图案化的TCO层)以及用于形成包括TCO层的层堆叠的方法。
【背景技术】
[0002]触摸面板或触摸屏面板是能够检测并定位显示区域内的触摸的特定类别的电子视觉显示器。一般而言，触摸面板包括层堆叠，并且配置成感测触摸。触摸面板的主体应当是基本上透明的，使得由屏幕发射的可见光谱中的光可透射过所述主体。至少一些已知的触摸面板包括在基板上方形成的透明导体。此类面板的显示区域上的触摸通常导致在导体区域中的可测量的电容变化。可使用不同的技术来测量电容变化，使得可确定触摸的位置。
[0003]包括与触摸面板一起使用的导电层的层堆叠受制于一些特定要求。具体而言，一个关键的要求在于，层堆叠足够稳定以承受在屏幕上的多个接触以及苛刻的条件，使得触摸屏幕的可靠性不随时间而折损。然而，由于例如导电层的厚度、成分和结构，被包括在触摸屏中的、被视为强健的至少一些已知层堆叠干扰光穿过所述层堆叠的适当的透射。此外，以高质量(例如，利用均匀且无缺陷的阻挡)来制造此类稳定层具有挑战性。
[0004]此外，尤其是当用于测量电容变化的导电层是结构化的导电层时，必须为层堆叠考虑光学特性(例如，向使用者呈现的外观)的特定考量。由此，需要一种基于膜的平板显示器和触摸屏技术的设计，所述设计术提供不可见的对象，所述对象根据导电性来图案化(类似于触摸传感器结构)并且呈现出相比常规的结构的增强的光学和电性能。
[0005]鉴于上文，本发明的目标在于提供克服本领域中的至少一些问题且提供所需性质的触摸面板的层堆叠、触摸面板以及用于形成触摸面板的层堆叠的方法。
【发明内容】
[0006]鉴于上文，提供了一种根据独立权利要求的触摸面板的层堆叠以及一种用于形成触摸面板的层堆叠的方法。本发明的进一步的方面、优点和特征通过从属权利要求、说明书和附图是显而易见的。
[0007]根据一个实施例，提供一种用于触摸面板的层堆叠。所述层堆叠包括:基板，所述基板包括用于沉积一个或更多个层的聚合物;透明导电氧化物的图案化的层，提供在所述基板上方，所述透明导电氧化物的图案化的层包括透明导电氧化物的区域以及所述透明导电氧化物的区域之间的间隙。在所述透明导电氧化物的图案化的层的间隙中提供第一电介质材料。此外，所述层堆叠包括电介质层，所述电介质层直接地沉积在所述透明导电氧化物层的所述透明导电氧化物的区域上且直接地沉积在所述第一电介质材料上。
[0008]根据另一实施例，提供一种用于形成触摸面板的层堆叠的方法。所述方法包括以下步骤:在包含聚合物的基板上沉积透明导电氧化物层；以及图案化所述透明导电氧化物层以在透明导电氧化物的区域之间形成间隙。所述方法进一步包括以下步骤:以第一电介质材料来填充所述透明导电氧化物的图案化的层的所述间隙；去除直接地沉积在所述透明导电氧化物的图案化的层的所述透明导电氧化物的区域上的第一电介质材料；以及直接地在所述透明导电氧化物的区域上且直接地在所述第一电介质材料上提供电介质层。
[0009]实施例还涉及用于执行所公开方法的装置，并且包括用于执行每一个所述方法步骤的装置部件。可通过硬件元件、由适当的软件编程的计算机，通过这两者的任何组合或以任何其他方式来执行这些方法步骤。此外，根据本发明的实施例还涉及所述装置通过其来操作的方法。它包括用于执行装置的每一个功能的方法步骤。
【附图说明】
[0010]因此，为了可详细地理解本发明的上述特征的方式，可参考实施例进行对上文简要概述的本发明的更特定的描述。附图涉及本发明的实施例，并且在下文中描述:
[0011]图1示出根据本文中所述的实施例的触摸面板的层堆叠的示意图；
[0012]图2a至图2e示出根据本文中所述的实施例的制造触摸面板的示例性层堆叠的示意图；
[0013]图3示出根据本文中所述的实施例的、在层堆叠中提供的图案化的TCO层的示意图；
[0014]图4a示出根据本文中所述的实施例的、包括层堆叠的触摸面板的截面示意图；
[0015]图4b示出根据本文中所述的实施例的、图4a中所示的触摸面板从另一侧看的截面示意图；
[0016]图5示出根据本文中所述的实施例的层堆叠的光学行为的示意性表示；
[0017]图6示出根据本文中所述的实施例的层堆叠的光学行为的示意性表示；
[0018]图7示出根据本文中所述的实施例的、形成触摸面板的层堆叠的方法的流程图；
[0019]图8示出根据本文中所述的实施例的、形成触摸面板的层堆叠的方法的流程图。
【具体实施方式】
[0020]现在将详细参照本发明的各种实施例，在附图中示出所述实施例的一个或更多个示例。在以下对附图的描述中，相同的元件符号指代相同的元件。一般而言，仅描述相对于个别实施例的差异。每一个示例作为对本发明的解释来提供，并且不旨在作为对本发明的限制。此外，作为一个实施例的部分阐释或描述的特征可用于其他实施例或可结合其他实施例来使用以产生更进一步的实施例。说明书旨在包括此类修改和变型。
[0021]图1示出根据本文中所述的实施例的层堆叠100。根据典型的实施例，层堆叠由形成(例如，通过沉积)在彼此的顶部的许多膜构成。一般而言，可在基板110上沉积膜或层。如本文中所述的基板可以是聚合物基板。如本文所使用的术语“基板”将涵盖非柔性基板(例如，刚性聚合物基板)和柔性基板(诸如，幅材或箔)两者。在一个实施例中，基板是聚合物箔，尤其是PET箔。
[0022]根据一些实施例，如本文所述的层堆叠可以是触摸面板的层堆叠，尤其是触摸面板的抗反射层堆叠。为了在触摸面板中使用，根据本文中所述的实施例的层堆叠包括图案化的透明导电氧化物(transparent conductive oxide;TC0)层，此图案化的TCO层在图1中可被看成TCO图案16 O。TCO层的图案可包括TCO区域以及多个TCO区域之间的间隙。在图1中，可以看出材料170被填充在TCO图案的间隙中。电介质层180被直接地沉积在材料170上，并且被直接地沉积在TCO区域160上。根据一些实施例，电介质层180可包含第二电介质材料。在一个示例中，电介质层可被描述为是顶层。
[0023]根据可与本文中所述的其他实施例结合的典型的实施例，本文中提及的透明导电氧化物可以是氧化铟锡(I TO)层(例如，结晶ITO )、掺杂的ITO层、杂质掺杂的ZnO、In2O3、SnO2和 CdO、ITO(In2O3 = Sn)、ΑΖ0(Ζη0: Al)、ΙΖ0(Ζη0:1n)、GZ0(Zn0:Ga)或多组分氧化物，所述多组分氧化物包括1!'0、掺杂的11'0、杂质掺杂的2110、111203、31102和0(10^20、120、620的组合或由所述组合组成。
[0024]—般而言，基于坚固且不易破损的PET箔基板的较大尺寸的投射式容性触摸面板传感器要求低薄层电阻的TCO层(诸如，具有小于150欧姆/平方或更小的薄层电阻的TCO层)、与在TCO图案化之后的传感器元件的不可见性相结合的高光学和颜色中性透射。为了实现最佳的器件性能，需要极薄的ITO层以实现TCO层的不可见性。例如，薄层厚度可在小于约25nm的范围中。当前的工艺技术和设计集成方案受限于约100欧姆/平方。对于TCO沉积在层堆叠的顶部上的当前的层架构，较低的薄层电阻是不可能的。
[0025]在制造触摸面板的层堆叠的标准工艺流程中，ITO层作为最后的层被沉积在层堆叠的顶部上。在替代的已知层结构中，ITO层被嵌入在层系统内。这个所谓的“埋入式ΙΤ0”允许具有较低的薄层电阻的较厚的ITO层以及对于图案化的ITO层的相对较高的光学和颜色中性透射。然而，“埋入式ΙΤ0”的降低的薄层电阻和增加的TCO层厚度导致对层堆叠的进一步改善的期望，因为例如较厚的、结构化的TCO层区域更容易可见。
[0026]此外，在已知的系统中，经常获得低质的日光下可读性、屏幕的有色显现(反射)、相对于来自下层显示器的所产生的图片的颜色变化、以及来自功能性屏幕的