。
[0044]根据一些实施例，TCO层可具有约150欧姆/平方或更小的表面电阻。在一个实施例中，TCO层的表面电阻典型地小于100欧姆/平方，更典型地小于约80欧姆/平方，且甚至更典型地小于约70欧姆/平方。在一个示例中，TCO层提供约50欧姆/平方的表面电阻。
[0045]一般而言，结构化的TCO图案(例如，TCO的线)对应于以欧姆为单位的线电阻。然而，薄层电阻是相关的参数，并且可通过测试区域的沉积来确定，或可基于图案化的结构的电阻以及结构的几何形状来确定或计算。因此，即使无法直接地(而是间接地)确定结构层的薄层电阻，并且结构层的薄层电阻相反是指非结构化的层的电阻，本领域技术人员将联系到对应于结构化的层的值的薄层电阻。
[0046]虽然图2a至图2e将简单的条纹或方格图案示出为TCO区域，但是图3示出包括TCO图案的层的进一步的示例。TCO层300具有TCO区域320以及TCO区域320之间的间隙330。如图3中可见，TCO的图案可在一个方向上连接TCO 320，并且在另一方向上在TCO区域320之间基本上不提供连接。例如，通过连接TCO区域320来形成TCO区域320的行310，而在各行310之间基本上不提供连接。在图3中所示的示例中，TCO图案包括菱形状的TCO区域;然而，本文所述的TCO图案不限于所示的图案，并且可提供不同形状的TCO区域，诸如，具有以下形状的TCO区域:条纹形状、矩形形状、二次项形状、三角形形状、多边形形状，或适合用于触摸面板中的TCO层的任何形状。根据一些实施例，TCO区域可具有以下直径:典型地在约Imm与约7mm之间，更典型地在约2mm与约6mm之间，甚至更典型地在约3mm与约5mm之间。在一个实施例中，TCO区域的直径(由图3中的元件符号325指示)可以是3mm。应当理解，术语“直径”取决于TCO区域的形式，并且也可由在一个方向上的TCO区域的一个尺度来定义。根据一些实施例，并且如已在上文中所解释，可由路径(诸如，路径326)连接TCO区域。在一个实施例中，在一个方向上连接TCO区域320以便形成行310的路径326可具有约Imm的宽度327。
[0047]图3进一步示出与TCO图案接触的铜线340。根据一些实施例，铜线340将TCO图案与控制器350连接。例如，控制器350可检测由TCO图案和铜线传递且通过触摸此触摸屏幕而诱发的电流的差异。
[0048]返回参见图2a至图2e，由图2c中的第一电介质材料270覆盖图案化的TCO层260。第一电介质材料270可具有与如在图1中所述的第一电介质材料相同的特性，诸如，具有与TCO层260类似或相同的光学特性。第一电介质层270的沉积填充TCO图案的间隙262。
[0049]根据一些实施例，如图2c中所示，第一电介质材料沉积为覆盖TCO层，并且在进一步的步骤(如图2d中所示)中，去除在TCO图案260上方(或在TCO图案的所定义的厚度上方)的第一电介质材料。根据一些实施例，通过蚀刻步骤来去除在TCO层260的顶部上的第一电介质材料270。
[0050]应当理解，附图中所示的图形不显示尺度的正确比例。例如，第一电介质材料的层270可基本上与TCO层一样厚，并且可在去除TCO图案上方提供的层270的部分或颗粒之前，由于沉积工艺而在TCO图案上提供第一电介质材料的颗粒。当在图2d中执行的处理步骤之后(S卩，在从TCO图案中去除第一电介质材料之后)，第一电介质材料的层270可具有与TCO层260基本上相同的厚度，诸如，约50nm的厚度。根据一些实施例，TCO图案260与第一电介质材料270可形成具有基本上均匀的厚度的层265。
[0051 ]在图2e中，电介质层280直接地沉积在TCO区域上，并且直接地沉积在第一电介质材料270上。根据一些实施例，电介质层280可包括第二电介质材料，所述第二电介质材料可与第一电介质材料不同，或可以是如上所述的低指数材料。例如，电介质层可包括S1x(诸如，S12)。
[0052]应当理解，术语“层直接地沉积在材料上”或“层直接地沉积在另一层上”是指基本上没有进一步的层沉积在所述层之间或材料直接地沉积在彼此上的情形。然而，可能存在可能位于两个层之间的、先前提供在层上的其他材料的污染物、颗粒或剩余物，这并不妨碍一个层直接供应在另一层上。根据一些实施例，在直接在彼此上提供的两个层之间的污染物可占据直接提供在彼此上的层的表面积的高达15%。在一个实施例中，在第二材料上直接地提供第一材料可意味着，第二材料的至少约85 %与第一材料直接接触。例如，如本文中所述的电介质层直接地沉积在TCO区域上意味着，此TCO区域的表面的85%或更多直接由电介质层覆盖。根据一些实施例，TCO图案中的所有的TCO区域直接由第二电介质材料覆盖。相同的情况应用于TCO间隙中的第一电介质材料的具体的示例中，由此提供如本文中所述的电介质层，或如本文中所述的电介质层被直接地沉积在第一电介质材料上(或与第一电介质材料接触)。
[0053]根据一些实施例(特别是根据包括接触层的实施例)，电介质层280可经受压印步骤(诸如，如上所述的压印方法)以露出接触层(或能够接触导电结构的接触图案)。
[0054]图4a示出根据本文中所述的实施例的、在触摸面板中的层结构的示例的截面图。触摸面板的层结构400可包括柔性基板410、粘附层420、第一高指数层430、第一低指数层440以及第二高指数层450。触摸面板的层结构400进一步包括TCO图案460，所述TCO图案460具有TCO区域以及在TCO区域之间的间隙。以第一电介质材料470填充TCO区域之间的间隙。根据一些实施例，层材料可对应于在图1和图2a至图2e的层堆叠中的上述层中的材料。例如，可由如上所述的压印方法来形成TCO层的图案。在一个实施例中，也可在堆叠中形成接触层(诸如，铜层)以接触TCO层。或者，可提供Ag浆以便提供母线。
[0055]图4a中所示的触摸面板的截面图也包括包含第二电介质材料的层480，所述第二电介质材料直接地提供在TCO图案的间隙中的第一电介质材料470上，并且直接地提供在TCO图案460的TCO区域上。层480可被表示为隔离层。在一个实施例中，层480包括S12。
[0056]根据一些实施例，触摸面板400包括层461和层481。层461可基本上类似于层460而提供。例如，层461可以是第二TCO层，且层481可以是第二电介质层。这可例如意味着层461可包含TCO图案，所述TCO图案包括TCO区域以及TCO区域之间的间隙，所述间隙由电介质材料(诸如，如上文所述的第一电介质材料)填充，所述电介质材料可包括3丨3仏、了3205、21'02、Zn0、Sn02或具有化学式SiNxOy的材料。根据一些实施例，如图4a的左侧的坐标系中所指示，由基本上沿X轴方向移动的TCO线提供图4a的TCO图案460，而层461中的TCO图案包括基本上沿y轴方向移动的线。
[0057]在图4b中，以90度旋转之后的视角示出触摸面板400的截面图，如在图4a和图4b旁边的坐标系中可见。在图4b中，可看见层461的结构包括TCO图案，所述TCO图案具有TCO区域462以及在TCO区域462之间的间隙。根据本文中所述的实施例，以电介质材料463(诸如，如上所述的第一电介质材料)填充TCO的区域462之间的间隙。
[0058]利用图4a和图4b中所示的结构，可提供容性触摸面板。所述触摸面板可使用在图4a和图4b中的两个层460与461之间的电容变化的感测。根据一些实施例，层460和461也可表示为导电层。这两个导电层可平行于彼此来布置，并且可由隔离层(诸如，层480)间隔开。当(例如，通过上文所述的示例性地由铜形成的接触线)施加电流时，在导电层之间实现所储存电子的场。当手指或适当触棒接触触摸面板或仅接近于面板时，将影响或改变这两个导电层之间的电容值。通过感测此变量(例如，由于控制器)，可诸如通过所连接的控制器定制的算法来指示触摸的位置。
[0059]图5示出根据本文中所述的实施例的层堆叠的光学行为的示意性表示。其光学行为在图5中示出的层堆叠包含具有约50nm厚度的图案化的TCO层。在横坐标的轴上，波长被指示为范围从约380nm至约780nm。纵座标的轴示出以入射光的百分比形式的层堆叠