专利名称：衍射元件和光盘装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及交替排列槽部和凸条部的衍射元件和具有该衍射元件的光盘装置。
背景技术：
作为对光记录盘进行信息记录或再现用的组成，已提出各种组成，但采用任一组成时，光盘装置基本上都有激光源、光检测器、构成将激光源出射的激光引导到光记录盘的前往光路、以及将光记录盘反射的回程光引导到光检测器的返回光路的光学系统。而且，在光盘装置中，使用各种衍射元件。
例如，已公开的技术在利用DPP(差动推挽)等取得跟踪误差信号时，由衍射元件根据激光源出射的光产生0次光组成的主光束和衍射光组成的子光束，并将在小于光束截面积的区域内形成槽部的衍射元件用作这种衍射元件，用衍射光和无衍射的光束，抵消跟踪偏差(例如参考专利文献1日本国专利公开平10-162383号公报)。
又提出一种衍射元件，该元件以充分缩小光盘上的光斑尺寸为目的，在中心区附近使槽宽接近光栅周期的一半的长度，在外缘部附近远离光栅周期的一半的长度(例如参考专利文献2日本国专利公开2004-295954号公报)。
然而，在专利文献1记载的衍射元件的情况下，主光束的相位在具有槽部的区域和不形成槽部的平坦部之间产生大的差异。因而存在不能防止产生相差的问题。
在专利文献2记载的衍射元件的情况下，由于改变光栅负载比，在负载比偏离50∶50的区域中，3次、5次、7次衍射光等高次的衍射效率变高，结果在记录用的光盘装置那样想稍微提高激光利用效率时，存在效果相反的问题。
鉴于上述问题，本发明的课题在于，提供一种可将光斑形状和衍射效率设定成希望的条件、从而能提高NA自由度和光学倍率自由度的衍射元件和使用该元件的记录光盘装置。
发明内容
为了解决上述课题，本发明的衍射元件，交替排列多条槽部和凸条部，其中，从将所述槽部夹在中间的两侧凸条部的上表面到该槽部的底部的深度尺寸，因位置而变化。
应用本发明的衍射元件，可用于对光记录盘进行信息的记录、再现或该两者用的光盘装置。这种光盘装置具有激光源、光检测器、构成将所述激光源出射的激光引导到光记录盘的前往光路、以及将所述光记录盘反射的回程光引导到光检测器的返回光路的光学系统，并且所述光学系统将所述衍射元件作为3光束产生用元件，该3光束产生用元件在所述前往光路的中途位置、根据所述激光源出射的光形成0次光组成的主光束和衍射光组成的2个子光束。
应用本发明的衍射元件，由于槽部的深度尺寸因位置而变化，能将光斑形状和衍射效率设定成希望的条件，可提高开度的自由度和光学倍率。例如，将应用本发明的衍射元件作为3光束产生用元件用于光盘装置时，根据激光源出射的激光形成0次光组成的主光束和衍射光组成的子光束，则衍射元件的槽部从将该槽部夹在中间的两侧凸条部的上表面到该槽部的底部的深度尺寸，因位置而变化，所以通过衍射元件时与通过前比较，0次光的峰状变成峰脚提高部分受衍射的份额(例如中央区减小的份额)的形状。因此，对入射到物镜的0次光能取得与加大NA相同的效果，从而使主光束汇聚到光记录盘的纹道上时，能使光斑直径小。这样，能将光斑形状和衍射效率设定成希望的条件，因而能提高开度的自由度和光学倍率的自由度。又由于对衍射元件的负载比可原样保持50∶50，能抑制产生高次衍射光，并能对汇聚到光记录盘纹道上的子光束放大光斑直径。因此，纹道与子光束的位置精度公差扩宽，可谋求制造光盘时提高作业效率。即使纹道间距不同的光记录盘，也能适当取得跟踪误差信号。
本发明中，可采用所述深度尺寸在所述槽部的长度方向以阶梯方式变化的组成，或所述深度尺寸在所述槽部的长度方向连续变化的组成。
本发明中，也可采用所述多条槽部之间所述深度尺寸不同的组成。
本发明中，所述槽部的深度方向的中心位置最好处于在该槽部长度方向上高度相同的位置。这样进行组成，能防止衍射元件引起的像散。
本发明中，可采用所述槽部的深度方向的中心位置在该槽部的长度方向高度变化的组成。
本发明中，所述槽部的深度方向的中心位置最好处于各槽部之间高度相同的位置。这样进行组成，能防止衍射元件引起的像散。
本发明中，可采用所述槽部的深度方向的中心位置在各槽部之间不同的组成。
上述本发明中，最好所述交替排列多条的槽部和凸条部分别形成具有从所述凸条部的上表面到所述槽部的底部的深度尺寸大的中央区、以及所述深度尺寸小于所述中央区的两端区，并将来自半导体激光器的激光的入射区设定成横跨所述中央区和所述两端区。这时，最好分别对所述交替排列多条的槽部和凸条部形成所述槽部的宽度尺寸相等，并且光栅的负载比为50∶50。
上述本发明中，可将所述中央区的槽部的底部形成低于所述两端区的底部，并且将所述中央区的所述凸条部的上表面形成高于所述两端区的所述凸条部的上表面，通过这样形成所述中央区的深度尺寸大、同时所述两端区的深度尺寸相对于中央区小。
上述本发明中，可将所述中央区的槽部的底部在与所述两端区的槽部的底部连续的中央形成凹陷的弯曲形状，通过这样形成所述中央区的深度尺寸大，同时所述两端区的深度尺寸相对于所述中央区小。
上述本发明中，可将所述中央区的槽部的底部在与所述槽部的长度方向正交的方向形成比所述两端区的槽部的底部低，通过这样形成所述两端区的深度尺寸相对于所述中央区小。
本发明中，能用衍射元件将光斑形状和衍射效率设定成希望的条件，可提高开度的自由度和光学倍率。例如，将应用本发明的衍射元件作为3光束产生用元件用于光盘装置时，根据激光源出射的激光形成0次光组成的主光束和衍射光组成的子光束，则衍射元件的槽部从将该槽部夹在中间的两侧凸条部的上表面到该槽部的底部的深度尺寸因位置而变化，所以通过衍射元件时与通过前比较，0次光的峰状变成峰脚提高部分受衍射的份额(例如中央区减小的份额)的形状。因此，对入射到物镜的0次光能取得与加大NA相同的效果，从而使主光束汇聚到光记录盘的纹道上时，能使光斑直径小。所以，能用低功率对光记录盘进行记录，可谋求节省功率，而且便于对付发热。又由于对衍射元件的负载比可原样保持50∶50，能抑制产生高次衍射光，并能对汇聚到光记录盘纹道上的子光束放大光斑直径。因此，纹道与子光束的位置精度公差扩宽，可谋求制造光盘时提高作业效率。即使纹道间距不同的光记录盘，也能适当取得跟踪误差信号。
图1是模式地示出本发明实施方式1的光盘装置关键部分的组成的说明图。
图2(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式1中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
图3是示出穿透本发明实施方式1中使用的衍射元件前后的0次光的光强度分布变化的说明图。
图4(a)、(b)分别是示出应用本发明的光盘装置中在光记录盘上形成光斑的状况的说明图、以及示出已有光盘装置中在光记录盘上形成光斑的状况的说明图。
图5(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式2中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
图6(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式3中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
图7(a)、(b)、(c)、(d)分别是本发明实施方式4中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、在与槽部长度方向正交的方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
标号说明1是光盘装置，2是激光源，3是光检测器，10是光记录盘，20是光学系统，8是衍射元件，81是槽部，82是凸条部，810是槽部的底部，82是凸条部的上表面。
具体实施例方式
实施方式1(总体组成)图1是模式地示出本发明实施方式1的光盘装置关键部分的组成的说明图。
图1中，本实施方式的光盘装置1，具有发出例如波长650nm的激光束的半导体激光器2和光检测器3。光盘装置1具有从半导体激光器1往光记录盘10设置分束镜41、准直透镜42、调试镜43和物镜44的光学系统40。由这些光学元件构成将半导体激光器2出射的激光引导到光记录盘10的前往光路。光学系统40还在分束镜41与光检测器3之间设置传感器透镜45，并由物镜44、调试镜43、准直透镜42、分束镜41和传感器透镜45构成将光记录盘10反射的回程光引导到光检测器3的返回光路。从光检测器3看，在分束镜41的背后，配置检测出从半导体激光器2往光记录盘10的激光中被分束镜41反射的光的前监视器5(监视用光检测器)。
光检测器3用于检测出光记录盘10反射的回程光以在记录信息时或进行信息再现时，产生聚焦误差信号和跟踪误差信号，并将这些聚焦误差信号和跟踪误差信号反馈到物镜驱动装置7。
光记录盘10是例如DVD-RAM(数字多用途光盘随机存取存储器)等。DVD-RAM中，虽然未图示，但将带波动的纹间面和槽交替形成同心圆状，并将纹间面和槽都用作形成坑的纹道。这里，将从波动获得的信号用于导入时钟。
本实施方式的光盘装置1中，在半导体激光器2与分束镜41之间具有根据半导体激光器2出射的激光出射-1次衍射光组成的子光束、0次光组成的主光束和+1次光组成的子光束用的光栅元件或全息元件组成的衍射元件8。因此，能由物镜44使0次光组成的主光束汇聚到光记录盘10的纹道上，并能通过用光检测器3检测出其回程光进行信息的再现。还能由物镜44使0次光组成的主光束汇聚到光记录盘10的纹道上，进行信息记录。进而，由物镜44使-1次光组成的子光束和+1次光组成的子光束汇聚到在光记录盘10的纹道切线方向将主光束的光斑夹在中间的位置，并可通过用光检测器3检测出其回程光，利用DPP法等获得跟踪误差信号。
(衍射元件8的组成)图2(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式1中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
如图2(a)、(b)、(c)所示，本实施方式的光盘装置1中，衍射元件8的任一槽部81，其将槽部81夹在中间的两侧的凸条部82的上表面820至槽部81的底部810的深度尺寸d都因位置而变化。本实施方式中，深度尺寸d在任一槽部81中都在槽部81的长度方向(用箭头号L表示)以阶梯方式变化。即，任一槽部81中，长度方向的中央区86与其两端区87、88相比，槽部81的底部810都低一级，而且凸条部82的上表面820高一级，从而此中央区86的深度尺寸d大。因此，中央区86中，±1次衍射效率高。反之，槽部81的长度方向的两端区87、88中，与中央区86相比，槽部81的底部810高一级，而且凸条部82的上表面820低一级，从而该两端区87、88的深度尺寸d小。所以，两端区87、88中，±1次衍射效率低。但是，槽部81的深度方向的中心位置(图2(b)中用点划线C表示)处于长度方向上高度相同的位置，而且槽部81的深度方向的中心位置处于相邻的槽部81之间高度相同的位置。这里，衍射元件8在任一区中，槽部81的宽度尺寸与凸条部82的开度尺寸都相等，光栅负载比均为50∶50。
这样组成的衍射元件8中，槽部81深的中央区86在与长度方向正交的方向形成带状，半导体激光器2出射的激光以跨越槽部81深的中央区86和槽部81浅的两端区87、88的方式入射到衍射元件8。这里，半导体激光器2出射的激光的远场图案为椭圆，其长轴方向对应于与槽部81的长度方向正交的方向，短轴方向对应于槽部81的长度方向。将半导体元件2出射的激光的图2(a)用圆LL表示的区域用于汇聚到光记录盘10。
(本实施方式的作用和效果)图3是示出穿透本发明实施方式1中使用的衍射元件前后的0次光的光强度分布变化的说明图，图3(a)示出衍射元件8的俯视图，同时在图3(b)、(c)示出此衍射元件8的入射光的光强度分布，使其对应于图3(a)所示的衍射元件8的方向，还在图3(d)、(e)示出此衍射元件8的出射光的光强度分布，使其也对应于图3(a)所示的衍射元件8的方向。图4(a)、(b)分别是示出应用本发明的光盘装置中在光记录盘上形成光斑的状况的说明图和示出已有光盘装置中在光记录盘上形成光斑的状况的说明图。
如图3(a)、(b)、(d)所示，本实施方式的光盘装置1中，将激光束在与衍射元件8的槽部81正交的方向切割衍射元件时的光量分布在其穿透衍射元件前后无大变化；与此相反，如图3(a)、(c)、(e)所示，将激光束在与衍射元件8的槽部81平行的方向切割衍射元件上的光量在其穿透衍射元件8前后变化大。即，衍射元件8中，槽部81的长度方向的中央区86的±1次衍射效率高，而两端区87、88的±1次衍射效率低，所以中央区86出射的0次光的光强度大量减小，而两端区87、88出射的0次光的光强度仅稍微减小。因此，0次光的峰状如图3(e)的箭头号B所示，变成峰脚部分提高中央区中光量大量减小的份额的形状。所以，对入射到物镜44的0次光能取得与加大NA相同的效果。
因此，使主光束汇聚到光记录盘10时，如图4(a)和图4(b)分别示出应用本发明的情况和已有例那样，根据本方式，对汇聚到光记录盘10的主光束能使其光斑直径小。所以，对半导体激光器2出射的激光而言，即使功率低，也能对光记录盘进行记录，从而能谋求节省功率和降低成本，而且便于对付发热。
又，本实施方式中，对衍射元件8的光栅负载比而言，可全为50∶50，所以能抑制产生高次衍射光。因此，使子光束汇聚到光记录盘10时，本方式与已有例相比，对+1次子光斑和-1次子光斑都放大光斑直径。所以，纹道和子光束的位置精度公差扩宽，能谋求制造光盘装置1时提高作业效率。而且，纹道间距不同的光记录盘10也能适当获得跟踪误差信号。
再者，本实施方式中，槽部81的深度方向的中心位置(图2(b)中用点划线C表示)处于长度方向上高度相同的位置而且槽部81的深度方向的中心位置处于相邻槽部之间高度相同的位置，因而具有不产生像散的优点。
实施方式2图5(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式2中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。下面说明的实施方式2、3、4的基本组成与实施方式1相同，因而相同的部分标注相同的标号进行说明。
如图5(a)、(b)、(c)所示，本方式的光盘装置1中，也与实施方式1相同，衍射元件8的任一槽部81，其将槽部82夹在中间的两侧的凸条部82的上表面820至槽部81的底部810的深度尺寸d都因位置而变化。
但是，本实施方式中，与实施方式1相同，任一槽部81中，深度尺寸在槽部81的长度方向(用箭头号L表示)都连续变化。即，任一槽部81中，底部810都形成在长度方向中央凹陷的弯曲形状，而任一凸条部82中，上表面820都形成在长度方向中央鼓出的弯曲形状。因此，任一槽部81中，长度方向的中央区86与其两端区87、88相比，槽部81的底部810低，而且凸条部82的上表面820高，此中央区86的深度尺寸d大。所以，中央区86中，±1次衍射效率高。反之，槽部81的长度方向的两端区87、88中，与中央区86相比，槽部81的底部810高，而且凸条部82的上表面820低，从而该两端区87、88的深度尺寸d小。所以，两端区87、88中，±1次衍射效率低。但是，槽部81的深度方向的中心位置(图5(b)中用点划线C表示)处于长度方向上高度相同的位置，而且槽部81的深度方向的中心位置处于相邻的槽部81之间高度相同的位置。这里，衍射元件8在任一区中，槽部81的宽度尺寸与凸条部82的开度尺寸都相等，光栅负载比均为50∶50。
这样组成的衍射元件8中，槽部81深的中央区86与槽部81浅的两端区87、88没有明确的界线，但中央区86在与长度方向正交的方向形成连续的带状，半导体激光器2出射的激光以跨越槽部81深的中央区86和槽部81浅的两端区87、88的方式入射到衍射元件8。这里，半导体激光器2出射的激光的远场图案为椭圆，其长轴方向对应于与槽部81的长度方向正交的方向，短轴方向对应于槽部81的长度方向。将半导体元件2出射的激光的图5(a)中用圆LL表示的区域用于汇聚到光记录盘10。
这样组成的光盘装置1中，也如实施方式1中参照图3说明的那样，衍射元件8中，槽部81的长度方向的中央区86的±1次衍射效率高，而两端区87、88的±1次衍射效率低，所以中央区86出射的0次光的光强度大量减小，而两端区87、88出射的0次光的光强度仅稍微减小。因此，0次光的峰状变成峰脚部分提高中央区中光量大量减小的份额的形状，从而对入射到物镜44的0次光能取得与加大NA相同的效果。所以，使主光束汇聚到光记录盘10时，如实施方式1中参照图4(a)说明的那样，对汇聚到光记录盘10的主光束能使其光斑直径小。所以，对半导体激光器2出射的激光而言，即使功率低，也能对光记录盘进行记录，从而能谋求节省功率和降低成本，而且便于对付发热。
又，本实施方式中，对衍射元件8的光栅负载比而言，可全为50∶50，所以能抑制产生高次衍射光。因此，使子光束汇聚到光记录盘10时，本方式与已有例相比，对+1次子光斑和-1次子光斑都放大光斑直径。所以，纹道和子光束的位置精度公差扩宽，能谋求制造光盘装置1时提高作业效率。而且，纹道间距不同的光记录盘10也能适当获得跟踪误差信号。
再者，本实施方式中，槽部81的深度方向的中心位置(图5(b)中用点划线C表示)处于长度方向上高度相同的位置而且槽部81的深度方向的中心位置处于相邻槽部之间高度相同的位置，因而具有不产生像散的优点。
实施方式3图6(a)、(b)、(c)分别是本发明实施方式3中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
如图6(a)、(b)、(c)所示，本方式的光盘装置1中，也与实施方式1相同，衍射元件8的任一槽部81，其将槽部82夹在中间的两侧的凸条部82的上表面820至槽部81的底部810的深度尺寸d都因位置而变化。即，任一槽部81中，底部810都形成在长度方向的中央凹陷的弯曲形状，而任一凸条部82中，上表面820为平面。因此，任一槽部81中，长度方向的中央区86与其两端区87、88相比，槽部81的底部810低，此中央区86的深度尺寸大。所以，中央区86中，±1次衍射效率高。反之，槽部81的长度方向的两端区87、88中，与中央区86相比，槽部81的底部810高，而且凸条部82的上表面820低，从而该两端区87、88的深度尺寸d小。所以，两端区87、88中，±1次衍射效率低。衍射元件8与实施方式1、2相同，在任一区中，槽部81的宽度尺寸与凸条部82的宽度尺寸都相等，光栅负载比均为50∶50。
但是，本实施方式中，与实施方式1、2不同，槽部81的深度方向的中心位置(图6(b)中用点划线C表示)在长度方向上变化。本方式中，槽部81的深度方向的中心位置在中央区86凹陷。
这样组成的衍射元件8中，槽部81深的中央区86与槽部81浅的两端区87、88没有明确的界线，但中央区86在与长度方向正交的方向形成连续的带状，半导体激光器2出射的激光以跨越槽部81深的中央区86和槽部81浅的两端区87、88的方式入射到衍射元件8。这里，半导体激光器2出射的激光的远场图案为椭圆，其长轴方向对应于与槽部81的长度方向正交的方向，短轴方向对应于槽部81的长度方向。将半导体元件2出射的激光的图6(a)中用圆LL表示的区域用于汇聚到光记录盘10。
这样组成的光盘装置1中，0次光的峰状也变成峰脚部分提高中央区中光量大量减小的份额的形状，因而对汇聚到光记录盘10的主光束能使其光斑直径小。所以，对半导体激光器2出射的激光而言，取得功率低也能对光记录盘10进行记录等效果。又，对衍射元件8的光栅负载比而言，可全为50∶50，所以能抑制产生高次衍射光，并且对+1次子光斑和-1次子光斑都放大光斑直径。因此，纹道和子光束的位置精度公差扩宽，能谋求制造光盘装置1时提高作业效率。
再者，本方式中，槽部81的深度方向的中心位置(图6(b)中用点划线C表示)处于相邻的槽部81之间高度相同的位置，但在槽部81的长度方向上变化，这种模式适应光盘装置1中用的其它光学系统引起的像散。因此，根据本方式，能吸收用于光盘装置1的光学系统引起的像散。
实施方式4图7(a)、(b)、(c)、(d)分别是本发明实施方式4中使用的衍射元件的俯视图、沿槽部长度方向剖切衍射元件时的剖视图、在与槽部的长度方向正交的方向剖切衍射元件时的剖视图、以及立体图。
如图7(a)、(b)、(d)所示，本方式的光盘装置1中，衍射元件8的槽部81的底部810和凸条部82的上表面820均为平面，并且槽部81的长度方向(用箭头号L表示)上将槽部81夹在中间的两侧的凸条部82的上表面820至槽部810的深度尺寸d不论位置，总固定。
其中，本实施方式在与槽部81的长度方向正交的方向上，相邻的凸状部82的上表面820处于高度相同的位置，但如图7(a)、(c)、(d)所示，槽部81的底部810，其与槽部81的长度方向正交的方向的中央区83比两端区84、85低。因此，衍射元件8的任一槽部81的将槽部81夹在中间的两侧的凸条部82的上表面820至槽部81的底部810的深度尺寸d因位置而变化。所以，槽部深的中央区83中，±1次衍射效率高，槽部81浅的两端区84、85则±1次衍射效率低。而且，与实施方式1、2、3相同，衍射元件8的任一区中槽部81的宽度尺寸与凸条部82的宽度尺寸相等，光栅负载比均为50∶50。
本实施方式中，与实施方式3不同，槽部81在深度方向的中心位置(图7(b)中用点划线C表示)固定，但与槽部81的长度方向正交的方向上中央区83比两端区84、85凹陷。
这样组成的衍射元件8中，槽部81深的中央区83与槽部81浅的两端区84、85没有明确的界线，但中央区83在与长度方向正交的方向形成连续的带状，半导体激光器2出射的激光以跨越槽部81深的中央区83和槽部81浅的两端区84、85的方式入射到衍射元件8。这里，半导体激光器2出射的激光的远场图案为椭圆，其长轴方向对应于与槽部81的长度方向正交的方向，短轴方向对应于槽部81的长度方向。将半导体元件2出射的激光的图7(a)中用圆LL表示的区域用于汇聚到光记录盘10。
这样组成的光盘装置1中，由于中央区83出射的0次光的光强度大量减小，而两端区84、85出射的0次光的光强度仅稍微减小，0次光的峰状变成峰脚部分提高中央区中光量大量减小的份额的形状。因此，对汇聚到光记录盘10的主光束能使其光斑直径小，所以对半导体激光器2出射的激光而言，取得功率低也能对光记录盘10进行记录等效果。又，对衍射元件8的光栅负载比而言，可全为50∶50，所以能抑制产生高次衍射光，并且对+1次子光斑和-1次子光斑都放大光斑直径。因此，纹道和子光束的位置精度公差扩宽，能谋求制造光盘装置1时提高作业效率。
再者，本实施方式中，槽部81的深度方向的中心位置(图7(b)中用点划线C表示)处于相邻的槽部81之间高度相同的位置，但在槽部81的长度方向上变化，这种模式适应光盘装置1中用的其它光学系统引起的像散。因此，根据本方式，能吸收用于光盘装置1的光学系统引起的像散。
此外，不考虑光盘装置1中用的其它光学系统引起的像散时，也可构成将槽部81在深度方向的中心位置设定成在长度方向上高度相同的位置，而且处于槽部81之间也高度相同的位置。
权利要求
1.一种衍射元件，交替排列多条槽部和凸条部，其特征在于，从将所述槽部夹在中间的两侧凸条部的上表面到该槽部的底部的深度尺寸，因位置而变化。
2.如权利要求1中所述的衍射元件，其特征在于，所述深度尺寸在所述槽部的长度方向，以阶梯方式变化。
3.如权利要求1中所述的衍射元件，其特征在于，所述深度尺寸在所述槽部的长度方向，连续变化。
4.如权利要求1中所述的衍射元件，其特征在于，所述深度尺寸在所述多条槽部之间不同。
5.如权利要求1至4中任一项所述的衍射元件，其特征在于，所述槽部的深度方向的中心位置，处于在该槽部的长度方向高度相同的位置。
6.如权利要求1至3中任一项所述的衍射元件，其特征在于，所述槽部的深度方向的中心位置，在该槽部的长度方向变化。
7.如权利要求1至4中任一项所述的衍射元件，其特征在于，所述槽部的深度方向的中心位置，处于各槽部之间高度相同的位置。
8.如权利要求1至4中任一项所述的衍射元件，其特征在于，所述槽部的深度方向的中心位置，在各槽部之间不同。
9.如权利要求1中所述的衍射元件，其特征在于，所述交替排列多条的槽部和凸条部，分别形成具有从所述凸条部的上表面到所述槽部的底部的深度尺寸大的中央区、以及所述深度尺寸小于所述中央区的两端区，并将来自半导体激光器的激光的入射区设定成横跨所述中央区和所述两端区。
10.如权利要求9中所述的衍射元件，其特征在于，分别对所述交替排列多条的槽部和凸条部，形成所述槽部的宽度尺寸相等、并且光栅的负载比为50∶50。
11.如权利要求10中所述的衍射元件，其特征在于，将所述中央区的槽部的底部形成低于所述两端区的底部、并且将所述中央区的所述凸条部的上表面形成高于所述两端区的所述凸条部的上表面，通过这样形成所述中央区的深度尺寸大、同时所述两端区的深度尺寸相对于中央区小。
12.如权利要求10中所述的衍射元件，其特征在于，将所述中央区的槽部的底部在与所述两端区的槽部的底部连续的中央形成凹陷的弯曲形状，通过这样形成所述中央区的深度尺寸大、同时所述两端区的深度尺寸相对于所述中央区小。
13.如权利要求10中所述的衍射元件，其特征在于，将所述中央区的槽部的底部在与所述槽部的长度方向正交的方向形成比所述两端区的槽部的底部低，通过这样形成所述两端区的深度尺寸相对于所述中央区小。
14.一种光盘装置，其特征在于，具备权利要求1至4中任一项所述的衍射元件，并且具有激光源、光检测器、构成将所述激光源出射的激光引导到光记录盘的前往光路、以及将所述光记录盘反射的回程光引导到光检测器的返回光路的光学系统，所述光学系统将所述衍射元件作为3光束产生用元件，该3光束产生用元件在所述前往光路的中途位置、根据所述激光源出射的光形成0次光组成的主光束和衍射光组成的2个子光束。
15.如权利要求14中所述的光盘装置，其特征在于，所述交替排列多条的槽部和凸条部，分别形成具有从所述凸条部到所述槽部的底部的深度尺寸大的中央区、以及所述深度尺寸小于所述中央区的两端区，并使所述激光源出射的激光入射成横跨所述中央区和所述两端区。
16.如权利要求15中所述的光盘装置，其特征在于，分别对所述交替排列多条的槽部和凸条部形成所述槽部的宽度尺寸与所述凸条部的宽度尺寸相等，并且光栅的负载比为50∶50。
17.如权利要求16中所述的光盘装置，其特征在于，所述激光源出射的激光的远场图案为椭圆，并将所述激光入射到所述衍射元件，使得其长轴方向对应于与所述衍射元件的所述槽部的长度方向正交的方向、并且其短轴对应于所述槽部的长度方向。
全文摘要
本发明揭示一种可将主光束的光斑形状和衍射效率设定成希望的条件从而能提高开度的自由度和光学倍率的自由度的衍射元件和光盘装置。在这种光盘装置(1)中，产生3光束用的衍射元件(8)在槽部(81)的长度方向的中央区(86)内，±1次衍射效率高，在两端区(87、88)则±1次衍射效率低。因此，相对于中央区(86)出射的0次光的光强度大量减小，两端区(87、88)出射的0次光的光强度仅稍微减小，因而0次光的峰状形成使峰脚部分提高的形状，能取得与加大NA相同的效果。所以，使主光束汇聚到光记录盘(10)时，能对主光束减小其光斑直径。又，由于不产生无用的高次衍射光，所以能加大子光斑。
文档编号G11B7/135GK1838272SQ20061006819
公开日2006年9月27日 申请日期2006年3月21日 优先权日2005年3月24日
发明者酒井博 申请人:日本电产三协株式会社