平板显示器及其制造方法

专利名称：平板显示器及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种平板显示器及其制造方法，更具体而言，涉及一种适用于通过喷墨印刷进行构图的平板显示器以及一种制造该平板显示器的方法。
背景技术：
相关申请的变叉引用本申请要求2005年6月2日提交的欧洲专利申请No.05104823.9和2005年12月2日提交的韩国专利申请No.10-2005-0116982的优先权和权益，为了在这里全面阐述的目的，由此结合它们以作为参考。
通过喷墨印刷可以形成具有发光层的有机层以作为平板显示器的部件。在喷墨印刷工艺中，活性材料首先溶解在溶剂中以形成油墨。然后通过印刷工艺，例如压电印刷或者气泡喷墨印刷，在衬底的有源区上喷射油墨以作为液滴。可以使用机械装置来定位对应于衬底上的液滴的所需位置的喷墨头。在溶剂变干之后，喷墨活性材料在有源区上形成膜。
喷墨印刷技术的一个主要不足是墨滴溢流到相邻的有源区中，这可能导致颜色混合。
可以使用喷墨印刷技术来制造具有发光聚合物(LEP)的全色显示器。
美国专利申请号US 2002/0004126 A1公开了一种工艺，其中在衬底的有源区上沉积活性材料例如空穴传输或发光材料的小滴。有源区限定了像素区，并且设计成用于移动应用的高分辨率显示器的有源区的尺寸可以在30μm×180μm的范围中。市场上可买到的高级喷墨头能够产生具有约30μm或更大直径的液滴。因此，在高分辨率显示器中使用具有这种直径的墨滴可能导致油墨溢流到相邻的像素中。为了阻止这种溢流，可以改变衬底表面。
存在两种改变衬底表面的方法一种方法是对于在有源区中和有源区外部的油墨产生具有不同润湿特性的衬底表面；第二种方法是在衬底表面上形成几何阻挡壁以机械地阻止油墨溢流到有源区的外部。
在EP 0989778 A1中公开了对于在有源区中和有源区外部的油墨产生具有不同润湿特性的衬底表面的第一种基本方法。在该参考文献中公开的润湿特性是在衬底上的表面能。通过适当选择形成衬底表面的材料来产生在衬底上的表面能的对比。印刷施加的油墨可能只在具有高表面能的区域中流动，而具有低表面能的区域用作阻止油墨流动的阻挡壁。为了获得具有均匀厚度的喷墨的活性材料的膜，可以在有机发光二极管(OLED)的像素表面的边界之外定位具有低表面能的表面。在有源区内部一直到边界，膜的涂层厚度可以是均匀的，但是然后在围绕阻挡壁的有源区外部显著下降。
可以以不同的方式和用不同的方法获得在衬底上的表面能的对比的变化。
EP 0989778 A1公开了在衬底上的两个涂层结构。通过使用等离子体的共同表面处理，可以向上涂层提供低表面能，同时向下涂层提供高表面能。下涂层通常可以由无机材料例如氧化硅或者氮化硅构成。
因此，上有机涂层和下无机涂层充当边界带，其中上涂层具有排斥油墨的低表面能。因此，该结构促进通过喷墨印刷的聚合物膜的沉积。
然而，该涂层的沉积和构造需要通常在半导体工业中使用的工艺，例如涂层分离、溅射、以及包括等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)的气相工艺。这些工艺可能是昂贵的，并因此可能降低通过使用OLED技术所获得的成本优势。而且，上涂层可以形成表面构形，因为具有低表面能的区域在衬底表面上具有规定的高度。由于该高度，所以聚合物膜可能被形成为不希望有的厚度。
JP 09-203803 AA公开了一种对已经用光致抗蚀剂预先处理的衬底表面的化学处理。然后通过掩模将光致抗蚀剂曝光并显影。在这种结构中，具有光致抗蚀剂的区域具有低的表面能，而不具有光致抗蚀剂的区域具有高的表面能。光致抗蚀剂结构的侧面拥有平均表面能，并由此提供在侧面上的表面能的逐渐转变。然而，光致抗蚀剂结构的侧面不构成具有可选择的表面能和几何形状的规定边界带，并具有低的空间溶解容量。
JP 09-230129 AA公开了一种两阶段表面处理方法，其包括用短波光(例如UV光)处理拥有低表面能的整个衬底的所选择区域。该短波光增加了所选择区域的表面能。然而，限制了所得的表面能的对比，并且耗时的曝光工艺可能不适用于大规模生产。
DE 10236404 A1公开了使用CF4的光致抗蚀剂的表面氟化作用，其还包括与剥离(liftoff)工艺相结合以用于构图的等离子体工艺。然而，该工艺需要化学汽相淀积(CVD)，这增加了相当多的工艺成本和时间。此外，通过表面改性而改变的表面能可能随着时间的过去而不稳定。这是因为光致抗蚀剂层的氟化部分可能扩散到光致抗蚀剂体中以维持平衡。另外，氟化部分可能未被化学地粘接到光致抗蚀剂体上，并且在暴露于含酸溶液中之后可以被冲洗掉，例如PDOTPSS，它通常用于聚合物OLED的制造。
DE 10343351 A1公开了疏水层的沉积，例如以商标Teflon销售的产品，其排斥油墨。通过CVD可以沉积Teflon，并且通过剥离技术、激光消融或者通过阴影掩模来构图。然而，该技术还需要CVD或者热蒸发，它们都是基于真空的技术，并且需要相当大的费用和处理时间。
US 6,656,611 B2公开了使用聚硅氧烷基的光致抗蚀剂来形成绝缘区并限定显示器的有源区。为了产生无源矩阵显示，聚硅氧烷可以具有突出结构以隔离阴极。然而，聚硅氧烷层可能具有相当大的膜厚度，并且由于聚硅氧烷层的边缘处金属膜的分离，所以可能负面地影响阴极薄层电阻。
EP 1008873公开了一种使用喷墨印刷技术来制造用于LCD显示器的滤色器的工艺。通过照射可以改变光敏材料的表面能，以提供阴影区域和亲油墨区域，在亲油墨区域中通过喷墨印刷来施加用于滤色器的油墨。因为光敏材料只改变它的表面能，所以该光敏材料不能用作油墨流动的阻挡壁或者直接用于聚合物OLED生产的像素限定层。
阻止溢流的第二种方法是使用充当空间阻挡壁的几何结构。
US 6,388,377 B1公开了相邻有源区之间的光致抗蚀剂条的定位。该条具有至少2μm的高度，并且提供阻止油墨溢流的物理阻挡壁。
EP 0996314 A1公开了光致抗蚀剂结构的制造。由于通过例如光致抗蚀剂形成的全色显示屏的不同行或者列的边界限制，所以HTL油墨和聚合物油墨可以印刷到预先构造的沟道中。因此，发出红色、绿色和蓝色的聚合物可以以线形的方式来印刷，并且彼此相邻而没有流入到相邻沟道中或者引起颜色混合。这些光致抗蚀剂结构在衬底上形成具有某个高度的沟道，然后将其增大到全色显示屏中。因此，没有油墨流过光致抗蚀剂阻挡壁并进入到相邻的线中。沟道的岸的高度大于通过油墨印刷沉积的膜的厚度。此外，岸的高度大于墨滴的直径除以有源区或者像素的宽度的1/2。另外，岸的上表面可以具有半圆形、三角形或者矩形的子结构槽以存储溢流的油墨。因此，除了岸结构之外，还设置第二阻挡壁以避免油墨溢流到相邻的有源区中。
DE 10311097 A1公开了附加的油墨塞子(stopper)的使用。因为沿着沟道具有岸的光致抗蚀剂结构只提供了对油墨溢流的横向限制，所以HTL油墨和聚合物油墨可以流出沟道的上区域和下区域。因此，在沟道的上区域和下区域中的油墨体积小于在沟道的中间区域的体积。因此，当干燥时，HTL或者聚合物膜可能没有均匀的层厚度。在沟道的上区域和下区域中油墨塞子的使用阻止了油墨流到沟道的外面。
US 2003/0042849 A1公开了另一种对于喷墨印刷设备限定液滴着陆/膜形成的方法。这里，定位机械金属掩模并将其固定到衬底上，因此可以使用旋涂技术来施加有机发射体。然而，金属阴影掩模的使用限制了衬底的尺寸，因为衬底和掩模之间不同的热膨胀系数会导致所需图案的未对准。

发明内容
本发明提供一种平板显示器及其制造方法，其允许通过喷墨印刷形成有机膜，同时避免油墨溢流到相邻的区域并增加有机膜厚度的均匀性。
本发明的附加特征将在随后的描述中进行阐述，并且根据该描述在某种程度上将是显而易见的，或者可以通过实践本发明而得知。
本发明公开了一种具有衬底和在该衬底上形成的第一电极层的平板显示器，该显示器包括限定在第一电极层的一部分上的有源区；围绕该有源区设置并包括第一层的排斥区；以及设置在有源区和排斥区之间并包括第二层的边界区。此外，第二层的表面能高于第一层的表面能。
本发明还公开了一种制造平板显示器的方法，该方法包括在衬底上形成具有预定图案的第一有机层以限定有源区和围绕该有源区的边界区，该衬底具有在其上形成的第一电极层；以及在衬底上形成第二有机层以限定排斥区。此外，第二有机层具有低于第一有机层的表面能的表面能。
应当理解，上面概括的描述和下面详细的描述都是示例性和说明性的，并且打算提供对所要求保护的本发明的进一步解释。


附图被包括以提供对本发明的进一步理解，并且被结合在本说明书中以及构成本说明书的一部分，所述

了本发明的实施例，并与所述描述一起用于解释本发明的原理。
图1示出根据本发明的示例性实施例的平板显示器的衬底的平面图。
图2示出沿着图1的线I-I切割的横截面。
图3示出由在图2的衬底的有源区中沉积和干燥油墨产生的衬底的横截面。
图4示出由在图3的衬底上形成第二电极产生的衬底的横截面。
图5示出在印刷和干燥油墨之后常规衬底(比较例)的横截面。
图6示出根据本发明的另一示例性实施例的平板显示器的衬底的横截面。
图7示出根据本发明的另一示例性实施例的平板显示器的衬底的平面图。
具体实施例方式
在下文中将参考附图更全面地描述本发明，其中示出了本发明的实施例。然而，本发明可以以很多不同的形式来体现，并且不应当被解释为对在此所述的实施例的限制。相反，提供这些实施例以使该公开是彻底的，并将本发明的范围充分传达给本领域的技术人员。在附图中，为了清楚起见，可能夸大了层和区的尺寸和相对尺寸。在附图中相同的附图标记表示相同的元件。
将会理解，当诸如层、膜、区或者衬底之类的元件被称为“在另一元件上”时，它可以直接在另一元件上，或者也可能存在中间元件。相反，在不存在中间元件的情况中，元件被称为“直接在另一元件上”。
图1示出根据本发明的示例性实施例的平板显示器的衬底的平面图。图2示出沿着图1的线I-I切割的横截面。
如图1和图2所示，衬底包括接地(ground)衬底4、在接地衬底4上形成的第一电极层1、以及覆盖第一电极层1的第一有机层2和第二有机层3。
为了制造无源矩阵(PM)结构，接地衬底4可以由玻璃、SiOxNy、塑料或者金属箔构成，并且可以具有在它的上表面上形成的缓冲层(未示出)。为了制造有源矩阵(AM)结构，接地衬底4可以包括像素电路(未示出)，该像素电路除了其它装置之外还包含薄膜晶体管(TFT)和电容器。TFT的漏极或源极可以与第一电极层1耦合。
第一电极层1在接地衬底4的上面形成。为了制造PM结构，第一电极层1可以被布置成条或者点。为了制造AM结构，可以根据像素分割第一电极层1。第一电极层1可以是透明电极或者反射电极。当第一电极层1是透明电极时，它可以由ITO、IZO、ZnO或者In2O3构成。当第一电极层1是反射电极时，它可以是多层结构，该多层结构包括例如Al或Ag的金属的层以及例如ITO、IZO、ZnO和In2O3的透明材料的层。
在第一电极层1上限定多个有源区6。通过喷墨印刷将包括形成发光层的材料的有机材料印刷到多个有源区6中。
可以沿着第一电极层1的边缘在接地衬底4上形成第一有机层2和第二有机层3。
第一有机层2可以沿着第一电极层1上的有源区6的边界由具有大于40mJ/m2的高表面能的有机材料构成。第二有机层3可以在非有源区7中由具有小于30mJ/m2的低表面能的有机材料构成。非有源区7包括不同于有源区6的区域。第二有机层3形成排斥区8，该排斥区与有源区6相邻并在其之间，以及隔开相邻的有源区6。第一有机层2形成围绕有源区6并在排斥区8和有源区6之间的边界区9。
第一有机层2和第二有机层3可以由感光有机材料构成并通过光刻法构图，或者可以直接沉积在接地衬底4上而没有构图。
在该示例性实施例中，第一有机层2和第二有机层3是并排设置的。第一有机层2的一个表面与第二有机层3的一个表面横向接触。如图2、图3和图4所示，第一有机层2和第二有机层3的上表面是平面，并且在接地衬底4上具有相同的高度。因此，第一电极层1和第一有机层2的厚度的和等于第二有机层3的厚度。
利用该示例性实施例的结构，当在有源区6中通过喷墨印刷来印刷并干燥包括用于发光层(EML)材料的油墨时，可以获得具有如图3所示的均匀厚度的有机膜5。有机膜5包括EML，并且进一步可以包括下述中的至少一个空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子注入层(EIL)和电子传输层(ETL)。
排斥区8对油墨施加排斥力，并由有源区6的边缘上的第二有机层3形成，以阻止油墨溢流到相邻有源区6中。边界区9具有比排斥区8更小的排斥力，并由设置在有源区6和排斥区8之间的第一有机层2形成。第一有机层2具有比第二有机层3的表面能更高的表面能。边界区9挡住从有源区6朝着排斥区8溢流的油墨，所以干燥的有机膜5具有均匀的厚度。
在不存在由第一有机层2形成的边界区9的地方，正如在图5所示的常规衬底(比较例)中，有机膜5具有凸起的结构，其中中心部分比周围部分厚。仅仅由排斥区8来限定有源区6，并且在水基油墨和第二有机层3之间通过沿着第二有机层3的边缘产生的高排斥力将油墨推向有源区6的中心部分。因此，即使有源区6中的油墨不溢流到相邻的有源区中，干燥的有机膜5在有源区6上也具有可变的厚度，如图5所示，由此降低了衬底的质量。
第一有机层2和第二有机层3可以具有在100nm和20μm之间范围的厚度。当第一有机层2和第二有机层3小于100nm厚时，阻止油墨溢流可能是困难的。当第一有机层2和第二有机层3大于20μm厚时，整个显示设备的厚度可能增加，并且有机膜5的上表面和第二有机层3的上表面之间的阶梯(step)差异可能导致在其上形成的第二电极层10中过度的阶梯差异。
第一有机层2和第二有机层3可以由感光有机材料例如光致抗蚀剂构成。通过旋涂或者丝网印刷，该感光有机材料可以在接地衬底4上沉积、硬化、并曝光和显影，由此形成图案。在图案形成之后，通过硬烤(baking)可以更坚固地硬化图案。通过在100℃到140℃烤1-5分钟可以完成第一有机层2的硬化。可以以60-120mJ/cm2的能量密度来完成第一有机层2的曝光。通过在140℃到240℃烤10-40分钟可以完成第二有机层3的硬化。可以以300-700mJ/cm2的能量密度来完成第二有机层3的曝光。
通过经受UV/臭氧处理可以附加地增加第一有机层2的表面能。
在形成具有基本上均匀的厚度的有机膜5之后，如图4所示，可以在有机膜5的整个表面上形成第二电极层10。
为了制造PM结构，第二电极层10可以包括形成与第一电极层1的条垂直相交的条，或者第二电极层10可以覆盖所有的有源区6以作为单个层。为了制造AM结构，可以形成第二电极层10以覆盖所有的像素。类似于第一电极层1，第二电极层10还可以是透明电极或者反射电极。当第二电极层10是透明电极时，它可以由半透明体例如薄的Ag膜构成，或者由包括金属例如Al或者Ag以及透明材料例如ITO、IZO、ZnO或In2O3的多层结构构成。当第二电极层10是反射电极时，它可以由金属例如Al或Ag构成，以具有单层或者多层结构。
在图6所示的另一示例性实施例中，由第一有机层2构成的边界区9可以具有比排斥区8更低的高度。也就是，第一电极层1和第一有机层2的厚度的和可以小于第二有机层3的厚度。如图6所示，边界区9由油墨覆盖。因此，第一有机层2挡住从第二有机层3的边缘排斥的油墨，以形成更均匀的有机膜5的厚度。
可以在附加的装置中构图第一有机层2和第二有机层3，以获得更均匀的有机膜5的厚度。图7示出第一有机层2和第二有机层3的图案的另一示例性实施例。
如图7所示，可以以具有条状开口的条来布置第二有机层3，并且如图2或者图6所示，可以在第二有机层3的开口中形成具有点构图的开口的第一有机层2。当通过喷墨印刷形成该示例性实施例时，喷墨头可以印刷油墨，同时沿着条状开口移动。因此，可以在第二有机层3的条状开口之间涂覆单色油墨并进行干燥，以在有源区6中形成具有基本上均匀的厚度的有机膜5。在该示例性实施例中，如同第一个示例性实施例一样，排斥区8相邻于有源区6设置，以及边界区9围绕有源区6设置。
<示例性实施例>
可以如下所述地制造图2的衬底。
首先，在钠钙玻璃即接地衬底4上形成氧化铟锡(ITO)即第一电极层1。然后根据标准技术来构造ITO以形成用于PM装置的栅格。用高压去离子水、超声波(megasonic)去离子水和异丙醇(IPA)搅炼法来湿清洁接地衬底4。搅炼法包括将显影剂或者其它介质分配到接地衬底4中，直到接地衬底4完全变湿。可以在缓慢的旋转下完成搅炼法，并且可以在接地衬底4上不旋转地保持预定的时间。
接下来，以18mW/cm2的能量密度，用UV/臭氧处理所得的接地衬底415分钟。
此后，通过旋涂施加光致抗蚀剂，例如Toray Industries有限公司的SL 1104-4，以形成1μm厚的连续膜。曝光和显影该连续膜以形成具有图1或图7所示的图案的第一有机层2。光致抗蚀剂可以是允许连续膜的非曝光区保持在接地衬底4上以及曝光区被显影剂溶解的正性调色树脂。光致抗蚀剂的表面能等于40mJ/m2，并且在UV/臭氧处理之后增加到70mJ/m2。
在120℃软烤3.5分钟并以90mJ/m2的能量密度进行曝光之后，使用搅炼法，利用显影剂例如Clariant有限公司的AZ MIF 726与水以1∶3的比例的混合物来处理所得的接地衬底4，以显影用于第一有机层2的期望的光致抗蚀剂结构。该显影操作之后是在230℃硬烤15分钟，然后在160℃硬烤15分钟。
然后，根据IPA搅炼法，使用超声波去离子水来清洁所得的接地衬底4，并用UV/臭氧处理15分钟。
接下来，通过旋涂将另一光致抗蚀剂例如Dow Coring的WL 5150施加到接地衬底4，以形成1μm厚的连续膜。该光致抗蚀剂可以是允许连续膜的非曝光区被显影剂溶解以及曝光区保持在接地衬底4上的负性调色树脂。光致抗蚀剂的表面能等于27mJ/m2。
在110℃软烤3分钟并以500mJ/m2的能量密度进行曝光之后，使用搅炼法，利用由Roth生产的1，3，5-三甲基苯作为显影剂来处理所得的接地衬底4，以显影用于第二有机层3的期望的光致抗蚀剂结构。该显影操作之后是在230℃硬烤30分钟。
根据本发明的示例性实施例，通过选择具有预定表面能的材料，可以获得具有通过喷墨印刷得到的高对比的平板显示器。可以提供允许低成本工艺的简单沉积技术。不产生附加的粘接问题或者机械应力，因为两种不同的材料，即第一层和第二层没有彼此堆叠。当形成第二电极层时，可以避免阶梯差异。降低的整个膜厚度减少了发出的气体的量，这可能对OLED的寿命有害。不需要真空工艺技术来调节衬底的表面能。不需要另外的表面处理来产生表面能的对比。
对本领域技术人员而言显而易见的是，在不脱离本发明的精神或范围的条件下，可以对本发明作出各种修改和变化。因此，本发明打算覆盖处在所附的权利要求书及其等价物的范围内的本发明的修改和变化。
权利要求
1.一种具有衬底和在该衬底上形成的第一电极层的平板显示器，该平板显示器包括有源区，其被限定在第一电极层的一部分上；排斥区，其与有源区相邻设置并包括第一层；以及边界区，其被设置在有源区和排斥区之间并包括第二层，其中第二层的表面能高于第一层的表面能。
2.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层的上表面和第二层的上表面距离衬底的上表面是等距的。
3.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层的上表面和衬底的上表面之间的距离大于第二层的上表面和衬底的上表面之间的距离。
4.如权利要求1所述的平板显示器，其中第二层被布置在第一电极层上。
5.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层覆盖第一电极层的边缘。
6.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层和第二层包括有机材料。
7.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层和第二层包括感光材料。
8.如权利要求1所述的平板显示器，其中第一层和第二层具有约100nm和约20μm之间的厚度。
9.如权利要求1所述的平板显示器，还包括布置在有源区的一部分上用于发光层的材料。
10.如权利要求1所述的平板显示器，还包括薄膜晶体管，其具有源极和漏极，其中源极或者漏极与第一电极层相耦合。
11.如权利要求1所述的平板显示器，其中排斥区围绕着有源区设置。
12.如权利要求1所述的平板显示器，还包括布置在有源区上的第二电极层。
13.一种制造平板显示器的方法，包括在衬底上形成具有预定图案的第一有机层以限定有源区和围绕有源区的边界区，该衬底具有在其上形成的第一电极层；以及在衬底上形成第二有机层以限定排斥区，其中第二有机层具有低于第一有机层的表面能的表面能。
14.如权利要求13所述的方法，其中第一有机层和第二有机层并排设置。
15.如权利要求13所述的方法，其中形成在其间具有阶梯差异的第一有机层和第二有机层。
16.如权利要求13所述的方法，其中通过下述来形成第一有机层或者第二有机层用有机材料涂覆衬底以形成连续膜，该衬底具有在其上形成的第一电极层；硬化连续膜；以及曝光和显影连续膜。
17.如权利要求16所述的方法，其中在100℃与140℃之间硬化第一有机层1与5分钟之间。
18.如权利要求16所述的方法，其中以60mJ/cm2和120mJ/cm2之间的能量密度来曝光第一有机层。
19.如权利要求16所述的方法，其中在140℃与240℃之间硬化第二有机层10与40分钟之间。
20.如权利要求16所述的方法，其中以300mJ/cm2和700mJ/cm2之间的能量密度来曝光第二有机层。
21.如权利要求13所述的方法，其中第一有机层和第二有机层具有约100nm与约20μm之间的厚度。
22.如权利要求13所述的方法，其中用UV/臭氧来处理第一有机层。
全文摘要
一种平板显示器及其制造方法，其允许通过喷墨印刷来形成有机膜，同时避免油墨溢流到相邻的区域中，由此增加有机膜厚度的均匀性并减少制造成本。该平板显示器包括衬底，在该衬底上形成的第一电极层，具有在第一电极层的有源区上形成的用于发光层的材料的油墨，围绕有源区设置的由有机材料构成的排斥区，以及设置在有源区和排斥区之间的也是由有机材料构成的边界区。边界区的表面能高于排斥区的表面能。
文档编号H01L21/00GK1873999SQ20061008860
公开日2006年12月6日 申请日期2006年5月31日 优先权日2005年6月2日
发明者A·乌力格, K·诺尔特, T·施拉德 申请人:三星Sdi株式会社, 三星Sdi德国有限责任公司