扩散片及其制造方法

文档序号:9373854阅读:1004来源:国知局
扩散片及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域,具体的说,涉及一种扩散片及其制造方法。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的发展,液晶显示器已经成为最为常见的显示装置。背光模组是液晶显示器中的重要部件,用于为液晶显示器提供背光源。
[0003]背光模组主要由光源、导光板、反射片、扩散片等部分组成,其中,扩散片的作用是为液晶显示器提供一个均匀的面光源。现有的扩散片的结构主要包括基材和扩散层,基材需选择光透过率高的材料,扩散粒子与液态树脂混合,通过涂布方式均匀涂布在基材上,形成扩散层。因此,光线在经过扩散层时会不断的在两个具有不同折射率的介质中穿过,在此同时光线会发生许多折射、反射和散射的现象,从而产生了光学扩散的效果。但是,现有的扩散片中,扩散粒子的大小不一,形状各异,分布杂乱,因此容易刮伤导光板等其他光学部件。

【发明内容】

[0004]本发明的目的在于提供一种扩散片及其制造方法,以解决现有的扩散片容易刮伤其他光学部件的技术问题。
[0005]本发明提供一种扩散片,包括基材和扩散层;
[0006]所述扩散层包括多个形成于所述基材的上表面的扩散粒子,所述扩散粒子的上表面为平面。
[0007]优选的是,所述扩散粒子的截面呈倒梯形。
[0008]优选的是,所述扩散粒子的高度在30至50微米以内。
[0009]优选的是,所述扩散粒子由光阻经过曝光、显影形成。
[0010]进一步的是,所述基材的下表面形成有抗静电保护层。
[0011]优选的是,所述基材的材料为PET、PC或PMMA。
[0012]本发明还提供一种扩散片的制造方法,包括:
[0013]在基材的上表面涂布一层光阻;
[0014]在所述光阻上放置掩膜版;
[0015]利用紫外光透过所述掩膜版,对所述光阻进行曝光、显影;
[0016]对剩余的光阻进行加热固化,形成扩散层。
[0017]优选的是,所述光阻的厚度在30至50微米以内。
[0018]进一步的是,该扩散片的制造方法还包括:
[0019]在所述基材的下表面涂布抗静电保护层。
[0020]本发明带来了以下有益效果:本发明提供的扩散片包括基材和扩散层,其中扩散层由很多个扩散粒子组成,并且扩散粒子直接形成于基材的上表面。本发明中扩散粒子的上表面为平面,并且扩散粒子整齐的排列在基材上,各个扩散粒子的高度是相等的,所以每个扩散粒子的上表面都位于同一平面,因此能够避免扩散层刮伤导光板等其他光学部件。
[0021]本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分的从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
【附图说明】
[0022]为了更清楚的说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要的附图做简单的介绍:
[0023]图1是本发明实施例提供的扩散片的示意图;
[0024]图2是本发明实施例提供的扩散片的局部示意图;
[0025]图3是本发明实施例提供的扩散片的制造过程的局部示意图。
【具体实施方式】
[0026]以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式,借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题,并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是,只要不构成冲突,本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合,所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
[0027]本发明实施例提供一种扩散片,可以应用于液晶显示器的背光模组中。如图1和图2所示,本发明提供的扩散片包括基材I和扩散层2。其中,扩散层2包括多个形成于基材I的上表面的扩散粒子20,并且扩散粒子20的上表面为平面。
[0028]进一步的是,基材I的下表面还形成有抗静电保护层3。抗静电保护层3 —方面可以防止基材I及扩散层2被静电击伤。另一方面,抗静电保护层3还能够对基材I起到保护作用,防止基材I被背光模组中的其他部件刮伤,而造成基材I的光透过率降低的问题。
[0029]本实施例中,基材I选取光透过率高的材料,优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate,简称 PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate,简称 PC)或聚甲基丙稀酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,简称 PMMA)。
[0030]作为一个优选方案,本实施例中扩散粒子20的截面呈倒梯形,使扩散粒子20的侧面呈斜面,从而能够有效的对光进行反射、折射。如图2所示,当光线从下方穿过扩散片时,光线就会被扩散粒子20的侧面反射,另外还会有一部分光线经过扩散粒子20内部,发生折射。因此,具有倒梯形截面的扩散粒子20,能够有效的对光进行反射和折射,从而提供一个均匀的面光源,使液晶显示器各处的亮度保持一致。
[0031]本实施例中,各个扩散粒子20的高度相等,其高度优选在30至50微米以内。作为一个优选方案,扩散粒子20由光阻经过曝光、显影形成,所以扩散粒子20的高度取决于光阻的厚度。在实际操作中,可以根据具体情况设置光阻的厚度,则所形成的扩散粒子20也能够具有相应的高度。
[0032]本发明实施例提供的扩散片包括基材1、扩散层2和抗静电保护层3,其中扩散层2由很多个扩散粒子20组成,并且扩散粒子20直接形成于基材I的上表面。本发明实施例中,扩散粒子20的上表面为平面,且其截面呈倒梯形,从而能够有效的对光进行反射和折射,以提供一个均匀的面光源,使液晶显示器各处的亮度保持一致。
[0033]此外,本实施例中,扩散粒子20整齐的排列在基材I上,而且各个扩散粒子20的高度是相等的,因此每个扩散粒子20的上表面都位于同一平面,从而能够避免扩散层2刮伤导光板等其他光学部件。
[0034]应当说明的是,本发明实施例中,是以具有最简单结构的扩散片进行说明。在其他实施方式中,其他结构的扩散片也可以具有本发明实施例中的扩散层结构。
[0035]本发明实施例还提供了上述扩散片的制造方法,包括:
[0036]S1:在基材的上表面涂布一层光阻。
[0037]其中,基材选取光透过率高的材料,优选为PET、PC或PMMA,本实施例中选用PET材料。本实施例中的光阻选用正向光阻,其被紫外光照到的部分会溶于光阻显影液,而没有被紫外光照到的部分不会溶于光阻显影液。光阻的厚度优选在30至50微米以内,具体的厚度可以根据实际情况进行选取,从而形成的具有相应的高度的扩散粒子。
[0038]S2:在光阻上放置掩膜版。
[0039]如图3所示,掩膜版4中包括透光部分和遮光部分(图中阴影部分)。通过设计掩膜版4的透光部分和遮光部分的大小和数量,可以实现调整扩散粒子的大小和扩散粒子的
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[0040]S3:利用紫外光透过掩膜版,对光阻进行曝光、显影。
[0041]因为掩膜版中的透光部分面积较小,所以发出紫外光的光源需要间隔、均匀的分布,这样可以使发出紫外光的光源近似于点光源。如图3所示,上述近似点光源5发出的紫外光透过掩膜版4照射在光阻21上,光阻21中被紫外光照射到的部分的截面呈梯形,则未被紫外光照射到的部分的截面呈倒梯形。曝光之后,利用光阻显影液,将被紫外光照射到光阻去除,剩余的光阻(即扩散粒子)的截面即可呈倒梯形。
[0042]此外,通过调整紫外光的光照时间,也可以调整扩散粒子的大小。
[0043]S4:对剩余的光阻进行加热固化,形成扩散层。
[0044]移去掩膜版,对剩余的光阻进行加热,使其固化,并且固化后的光阻再遇光也不会分解,从而形成稳定的扩散粒子。
[0045]进一步的是,该扩散片的制造方法还包括:
[0046]S5:在基材的下表面涂布抗静电保护层。
[0047]抗静电保护层一方面可以防止基材及扩散层被静电击伤。另一方面,抗静电保护层还能够对基材起到保护作用,防止基材被背光模组中的其他部件刮伤,而造成基材的光透过率降低的问题。
[0048]本发明实施例提供的扩散片的制造方法中,以光阻作为原材料,利用掩膜版对其进行曝光、显影,以实现在基材上形成扩散粒子,从而能够以十分简单可行的方式制成包含很多扩散粒子的扩散层,并且该扩散层能够有效的对光进行反射和折射,以提供一个均匀的面光源,使液晶显示器各处的亮度保持一致。
[0049]此外,本发明实施例提供的扩散片的制造方法中,可以通过设计掩膜版中透光部分和遮光部分的大小和数量,以及通过调整紫外光的光照时间,调整扩散粒子大小和密度,使扩散粒子的结构灵活、多变,以适应不同的产品需求。并且,本实施例中的掩膜版可以重复使用,节省扩散片的制造成本。
[0050]虽然本发明所公开的实施方式如上,但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式,并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员,在不脱离本发明所公开的精神和范围的前提下,可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化,但本发明的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
【主权项】
1.一种扩散片,包括基材和扩散层; 所述扩散层包括多个形成于所述基材的上表面的扩散粒子,所述扩散粒子的上表面为平面。2.根据权利要求1所述的扩散片,其特征在于,所述扩散粒子的截面呈倒梯形。3.根据权利要求1所述的扩散片,其特征在于,所述扩散粒子的高度在30至50微米以内。4.根据权利要求1所述的扩散片,其特征在于,所述扩散粒子由光阻经过曝光、显影形成。5.根据权利要求1所述的扩散片,其特征在于,所述基材的下表面形成有抗静电保护层。6.根据权利要求1所述的扩散片,其特征在于,所述基材的材料为PET、PC或PMMA。7.一种扩散片的制造方法,包括: 在基材的上表面涂布一层光阻; 在所述光阻上放置掩膜版; 利用紫外光透过所述掩膜版,对所述光阻进行曝光、显影; 对剩余的光阻进行加热固化,形成扩散层。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述光阻的厚度在30至50微米以内。9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,还包括: 在所述基材的下表面涂布抗静电保护层。
【专利摘要】本发明公开了一种扩散片及其制造方法,属于显示技术领域,解决了现有的扩散片容易刮伤其他光学部件的技术问题。该扩散片包括基材和扩散层;所述扩散层包括多个形成于所述基材的上表面的扩散粒子,所述扩散粒子的上表面为平面。本发明可用于液晶显示器中的背光模组。
【IPC分类】G02F1/13357, G02B1/16, G02B5/02
【公开号】CN105093365
【申请号】CN201510472676
【发明人】李安石, 曾杰
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年8月4日
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