专利名称：管道架和离子生成装置的制作方法
技术领域：
本文论述的实施方式涉及在诸如离子生成装置的装置中引导气流的管道架。
背景技术：
存在用于向空气中释放离子并控制空气的质量的离子生成装置。离子生成装置向诸如管道的气流路径提供在离子生成器中生成的离子，从而释放包含离子的空气(参见例如日本特开专利2009-36411号公报)。为了电离流经管道的空气而在管道中设置离子生成器增加了管道中的压力损失并减少了送风(blowing)效率。出于该原因，可以提供大的送风机。大的送风机产生大的工作噪声和大的气流噪声。如果将离子生成器设置在管道外部，则可以在管道外部确保由离子生成器占据的空间。这增加了离子生成装置的大小。 许多离子生成器使用通过使空气冷却所提取的水分来生成离子，并具有用于使空气冷却的冷却器。出于该原因，离子生成器包括冷却器的散热部，并且向该散热部提供气流。
发明内容
本发明的目的在于提供一种管道架和离子生成装置，其能够在离子生成装置中的冷却器的散热部散热的同时有效地送气并释放离子。根据本发明的一方面，一种管道架包括第一气流路径，该第一气流路径被配置为包括第一排气口 ；第二气流路径，该第二气流路径被配置为包括靠近所述第一排气口设置的第二排气口 ；离子生成器，该离子生成器被配置为设置在所述第二气流路径中并将所述第二气流路径划分为第一划分流路和第二划分流路；以及微小流路，该微小流路被配置为设置在所述离子生成器下方并具有比所述第二气流路径的第一划分流路的流路阻力高的流路阻力。
图I是合并了具有根据本实施方式的管道架的离子生成装置的显示监视器设备的立体图；图2是图I所示的显示监视器设备的分解立体图；图3是具有根据本实施方式的管道架的离子生成装置的立体图；图4是离子生成装置的分解立体图；图5是例示离子生成装置的盖的内部的立体图；图6是例示离子生成装置的盖的内部的平面图；以及图7是例示图6中的A-A丨截面的截面图。
具体实施方式
接着将参照附图来描述本实施方式。图I是合并了具有根据本实施方式的管道架的离子生成装置的显示监视器设备的立体图。合并了离子生成装置的设备并不局限于显示监视器设备。离子生成装置可以合并在诸如针对家用或针对办公室用的各种电力设备的任何设备中。显示监视器设备I包括基部2和附接到该基部2的显示部3。图I例示了从后部观察时的显示监视器设备I。在图I中，例示了显示部3的后部。显示部3是采用例如液晶面板的显示装置。显示部3的后部附接到基部2。 基部2具有台子4以及设置在该台子4的顶部上的主体5。主体5中容纳有电路板，在该电路板上形成有驱动并控制显示部3的液晶面板的电路以及附属电子组件。安全盖6设置在主体5的顶部上。安全盖6覆盖并掩盖设置在显示监视器设备I上的连接器和其它组件。安全盖6是被设置用来通过连接器防止对显示监视器设备I的未经授权的使用 的盖。图2是显示监视器设备I的分解立体图。离子生成装置10容纳在主体5中。离子生成装置10的顶部上设置有主体盖5a。主体盖5a的顶部上附接有安全盖6。安全盖6设置有进气口 6a，并且可以通过进气口 6a向安全盖6的内部空间提供空气。容纳在主体5中的离子生成装置10通过主体盖5a的进气口 5b吸入安全盖6的内部空间中的空气，并释放所吸入的空气以及在离子生成装置10中生成的离子。包含离子的空气通过主体盖5a的排气口 5c和安全盖6的排气口 6b释放到环境中。图3是离子生成装置10的立体图，而图4是离子生成装置10的分解立体图。离子生成装置10包括底部20和盖30。底部20是板状部件，并且盖30附接到底部20的顶部。如以下所描述的，在盖30内部设置有离子生成器50和管道架，并且从盖30释放在离子生成器50中生成的离子以及流经管道架的空气。作为送风机，风扇40附接到盖30。通过驱动风扇40，可以使得空气流经形成在盖30内部的管道架(气流路径)。通过形成在盖30中的排气口 30a来释放提供到盖30内部的管道架的空气，并且如上所述，该空气通过主体盖5a的排气口 5c和安全盖6的排气口 6b释放到环境中。从盖30延伸出板附接部30b。在该板附接部30b上安装有设置有控制离子生成装置10的操作的控制电路的控制板60以及其它电子组件。控制板60由屏蔽盖62来覆盖和屏蔽。图5例示了图3的从下面观察的移除了底部20的离子生成装置10，并且图5是例示盖30的内部的立体图。图6是例示盖30的内部的平面图。图7是例示图6的A-A^截面的截面图。在盖30内部，作为气流路径形成有管道架，由风扇40吸入的空气在经由排气口30a释放之前流经该气流路径。在该管道架中，设置有离子生成器50。离子生成器50在该管道架中生成尚子。形成在盖30中的管道架包括气流路径A (在图6中通过实线箭头A例示)和气流路径B (在图6中通过虚线箭头B例示)，大部分由风扇40吸入的空气经由气流路径A流向排气口 30a，小部分由风扇40吸入的空气经由气流路径B流动。在气流路径B中，小部分由风扇40吸入的空气经过离子生成器50，并与在离子生成器50中生成的离子一起流向排气Π 30ao具体而言，来自风扇40的空气所流经的盖30的内部空间的部分由间隔壁32划分为气流路径A和气流路径B。也就是说，气流路径A与气流路径B相邻。间隔壁32延伸以划分排气口 30a。排气口 30a被划分为在气流路径A侧敞开的空气排气口 30a_l以及在气流路径B侧敞开的离子排气口 30a-2。设置在气流路径B中的离子生成器50具有离子生成部52和散热片部54。离子生成部52设置有珀尔贴元件(Peltier element)的冷端，并且使流经气流路径B的空气冷却并使水分凝结(condense)。通过放电来分解在拍尔贴元件中生成的水分,并生成离子。拍尔贴元件的热端连接到散热片部54。离子生成器50设置在气流路径B中，以使得在散热片部54与底部20 (具有附接到底部20的盖30)之间形成微小空隙70。也就是说，气流路径B包括该微小空隙70，并且 流经气流路径B的空气的量受限于该微小空隙70。也就是说，该微小空隙70是在气流路径B中提供非常高的流路阻力的部件，并且由风扇40产生的气流的动态压力不足以使得空气通过该微小空隙70。气流路径B连接到离子排气口 30a_2。从气流路径B中包含离子的空气中拉走经由气流路径A的空气排气口 30a-l释放的大量空气，从而在离子生成器50前方的气流路径B的部分中产生负压。离子生成器50前方的气流路径B的部分(图6所例示的BI)是在上述的微小空隙70与离子排气口 30a-2之间的气流路径B的部分。归因于在微小空隙70前方产生的该负压，离子生成器50后方的气流路径B的部分(图6所例示的B2)中的空气能够经由微小空隙70流入到离子生成器50前方的气流路径B的部分中。因此，能够流入到离子生成器50前方的气流路径B的部分中的空气的量是非常小的。在该实施方式中，上述的微小空隙70形成在散热片54与底部20之间，从而在离子生成部52的后方设置有具有高流路阻力的部分。但是，还可以按照另一种方式形成具有高流路阻力的部分，例如，通过在散热片部54中设置微小通孔。如上所述，通过放电来分解经由微小空隙70进入离子生成器50的离子生成部52的空气中的水分,并生成离子。此时,还通过水分的电离来生成臭氧。在离子生成部52的前方，设置有其中形成有小的开口的间隔壁34。在间隔壁34的前方，设置有其中形成有小的开口的间隔壁36。因此，包含有在离子生成部52中生成的离子和臭氧的空气首先蓄积在形成在间隔壁34与间隔壁36之间的空间SI中。归因于经由气流路径A的空气排气口 30a-l释放的大量空气所产生的负压，空间SI中蓄积的包含离子和臭氧的空气经由间隔壁36的开口逐渐移动到空间S2。从包含离子和臭氧的空气中拉走经由空气排气口 30a-l释放的大量空气，并且该包含离子和臭氧的空气从空间S2经由离子排气口 30a-2被释放到离子生成装置10的外部。离子生成部52中生成的臭氧具有很高的活性，并且不希望从离子生成装置10中释放出臭氧。因此，在该实施方式中，如上所述，包含离子生成部52中生成的离子和臭氧的空气在经过空间SI和空间S2以后逐渐经由离子排气口 30a-2排出。当经过空间SI和空间S2时，大部分臭氧被分解为氧气。当经由离子排气口 30a-2被释放时，臭氧几乎被分解完。因此，防止从离子生成装置10释放出活性臭氧。在离子生成部52中，通过放电来电离水分，并生成离子。如果从离子生成装置10释放出伴随放电的声音(放电声)，则可能是嘈杂的。但是，在该实施方式中，在离子生成部52前方由具有小的开口的间隔壁34和间隔壁36形成空间SI，因此离子生成部52中产生的放电声能够受限于空间SI并被抑制。因此，能够减小经由离子排气口 30a-2排出的放电声的等级。如果在空间SI中设置诸如海绵的声音绝缘材料，则能够进一步降低放电声的等级。如上所述，根据该实施方式的离子生成装置10的管道架包括由间隔壁32隔开的气流路径A和气流路径B，并且在气流路径B中设置有离子生成器50。气流路径B被划分为在离子生成器50与排气口 30a-l之间的前流路以及在风扇40与离子生成器50之间的后流路。也就是说，离子生成器50将气流路径B划分为前流路和后流路，并且该前流路与该后流路通过微小空隙70 (微小流路)相连接。微小空隙70具有非常高的流路阻力，并且通过微小空隙70的空气的量是非常小的。因此，经由具有非常高的流路阻力的微小空隙70，微量的空气被提供到设置有离子生成器50的离子生成部52的前流路。因而，离子生成部52中生成的离子能够在蓄积在前流路中的空间SI和空间S2中以后被逐渐释放，并且能够、40吸入的大量空气经由离子生成器50的散热片部54流向气流路径A，所以能够充分冷却连接到珀尔贴元件的热端的散热片部54。因而，能够改进珀尔贴元件的冷却效果。
权利要求
1.一种管道架，该管道架包括 第一气流路径，该第一气流路径被配置为包括第一排气口 ； 第二气流路径，该第二气流路径被配置为包括靠近所述第一排气口设置的第二排气Π ； 离子生成器，该离子生成器被配置为设置在所述第二气流路径中并将所述第二气流路径划分为第一划分流路和第二划分流路；以及 微小流路，该微小流路被配置为设置在所述离子生成器下方并具有比所述第二气流路径的所述第一划分流路的流路阻力高的流路阻力。
2.根据权利要求I所述的管道架，其中，所述第一气流路径和所述第二气流路径的所述第二划分流路在空气提供侧相连接。
3.根据权利要求I所述的管道架，其中，所述微小流路包括形成在所述离子生成器的一部分与被配置为形成所述第二气流路径的壁面之间的微小空隙。
4.根据权利要求I所述的管道架，其中，所述第二气流路径的所述第一划分流路包括一空间，包含由所述离子生成器生成的离子的空气蓄积在该空间中。
5.根据权利要求I所述的管道架，其中，所述空间由敞开的间隔壁划分为所述离子生成器侧的第一空间和所述第二排气口侧的第二空间。
6.根据权利要求I所述的管道架，其中，所述离子生成器包括设置在所述第二气流路径的所述第二划分流路中的散热片部。
7.一种离子生成装置，该离子生成装置包括 管道架，该管道架包括 第一气流路径，该第一气流路径被配置为包括第一排气口 ； 第二气流路径，该第二气流路径被配置为包括靠近所述第一排气口设置的第二排气Π ； 离子生成器，该离子生成器被配置为设置在所述第二气流路径中并将所述第二气流路径划分为第一划分流路和第二划分流路；以及 微小流路，该微小流路被配置为设置在所述离子生成器下方并具有比所述第二气流路径的所述第一划分流路的流路阻力高的流路阻力； 壳体，该壳体被配置为形成所述管道架；以及 送风机，该送风机被配置为设置在所述壳体中并向所述管道架提供气流。
8.根据权利要求7所述的离子生成装置，其中，所述第一气流路径和所述第二气流路径由形成于所述壳体的间隔壁划分。
全文摘要
管道架和离子生成装置。一种管道架包括第一气流路径，该第一气流路径被配置为包括第一排气口；第二气流路径，该第二气流路径被配置为包括靠近所述第一排气口设置的第二排气口；离子生成器，该离子生成器被配置为设置在所述第二气流路径中并将所述第二气流路径划分为第一划分流路和第二划分流路；以及微小流路，该微小流路被配置为设置在所述离子生成器下方并具有比所述第二气流路径的所述第一划分流路的流路阻力高的流路阻力。
文档编号H01T23/00GK102738710SQ20121009810
公开日2012年10月17日 申请日期2012年4月5日 优先权日2011年4月5日
发明者藤川英之, 西川晃正 申请人:富士通株式会社