大功率方片可控硅封装结构的制作方法

文档序号:7015417阅读:253来源:国知局
大功率方片可控硅封装结构的制作方法
【专利摘要】一种大功率方片可控硅封装结构,它包括从上至下依次设置的上钼片(7)、第三焊料层(6)、芯片(5)、第二焊料层(4)、下钼片(3)和第一焊料层(2),前述上钼片(7)、第三焊料层(6)、芯片(5)、第二焊料层(4)、下钼片(3)和第一焊料层(2)均置于硅胶框(8)内,芯片(5)的两端插入硅胶框(8)内部,硅胶框(8)外部安装有导电外壳(1),所述的导电外壳(1)为顶部敞开,其余三面封闭的半包围结构,所述的导电外壳(1)的底部焊接在该大功率方片可控硅需要安装的位置。本发明使用时,装配操作简易,相比于传统封装形式不良率降低一个数量级。
【专利说明】大功率方片可控硅封装结构
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及可控硅封装结构,尤其是大功率方片可控硅封装结构。
【背景技术】
[0002]可控硅,是可控硅整流元件的简称,是一种具有三个PN结的四层结构的大功率半导体器件,亦称为晶闸管。具有体积小、结构相对简单、功能强等特点,是比较常用的半导体器件之一。该器件被广泛应用于各种电子设备和电子产品中,多用来作可控整流、逆变、变频、调压、无触点开关等。
[0003]目前,大功率方片可控硅封装结构通常是通过将芯片封装在上下相通的硅胶或树脂类保护材料内,通过焊料将芯片焊接在需要安装的位置,芯片周围的硅胶或树脂类保护材料直接接触焊料,易产生硅胶保护层与芯片之间分层现象,产品抗湿能力差,工作可靠性低,容易损坏。

【发明内容】

[0004]本发明的目的是针对上述问题,提出一种大功率方片可控硅封装结构。
[0005]本发明的技术方案是:
一种大功率方片可控硅封装结构,它包括从上至下依次设置的上钥片、第三焊料层、芯片、第二焊料层、下钥片和第一焊料层,前述上钥片、第三焊料层、芯片、第二焊料层、下钥片和第一焊料层均置于娃胶框内,芯片的两端插入娃胶框内部,娃胶框外部安装有导电外壳,所述的导电外壳为顶部敞开,其余三面封闭的半包围结构,所述的导电外壳的底部焊接在该大功率方片可控硅需要安装的位置。
[0006]本发明的导电外壳的厚度为1.5-2.5毫米。
[0007]本发明的导电外壳的厚度为2毫米。
[0008]本发明的有益效果:
本发明由于芯片周围拥有一定厚度的金属导电外壳保护层,芯片抗机械冲击能力增力口,产品在后续使用焊接过程中,由于芯片周围硅胶或树脂类保护材料不直接接触焊料,避免了传统封装形式易产生的硅胶保护层与芯片之间分层现象,产品抗湿能力得到提升,工作可靠性提高。
[0009]本发明使用时,装配操作简易,相比于传统封装形式不良率降低一个数量级。
[0010]
【专利附图】

【附图说明】
[0011]图1是本发明的结构示意图。
[0012]其中:1、导电外壳;2、第一焊料层;3、下钥片;4、第二焊料层;5、芯片;6、第三焊料层;7、上钥片;8、硅胶框。
[0013]【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
[0015]如图1所示,一种大功率方片可控硅封装结构,它包括从上至下依次设置的上钥片7、第三焊料层6、芯片5、第二焊料层4、下钥片3和第一焊料层2,前述上钥片7、第三焊料层6、芯片5、第二焊料层4、下钥片3和第一焊料层2均置于硅胶框8内,芯片5的两端插入娃胶框8内部,娃胶框8外部安装有导电外壳1,所述的导电外壳I为顶部敞开,其余三面封闭的半包围结构,所述的导电外壳I的底部焊接在该大功率方片可控硅需要安装的位置。
[0016]本发明的导电外壳I为铜外壳或者铝外壳,厚度为1.5-2.5毫米左右,优选2毫米。
[0017]具体实施时:封装外壳材料为铜(或铝等散热性能、导电性能良好类金属材料),内部芯片与上下钥片之间通过焊料烧结于铜壳内部,芯片与铜壳间隙采用硅胶或树脂类保护材料填充。
[0018]本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
【权利要求】
1.一种大功率方片可控硅封装结构,其特征是它包括从上至下依次设置的上钥片(7)、第三焊料层(6)、芯片(5)、第二焊料层(4)、下钥片(3)和第一焊料层(2),前述上钥片(7)、第三焊料层(6)、芯片(5)、第二焊料层(4)、下钥片(3)和第一焊料层(2)均置于硅胶框(8)内,芯片(5)的两端插入硅胶框(8)内部,硅胶框(8)外部安装有导电外壳(1),所述的导电外壳(I)为顶部敞开,其余三面封闭的半包围结构,所述的导电外壳(I)的底部焊接在该大功率方片可控硅需要安装的位置。
2.根据权利要求1所述的大功率方片可控硅封装结构,其特征是所述的导电外壳(I)为铜外壳或者铝外壳。
3.根据权利要求1所述的大功率方片可控硅封装结构,其特征是所述的导电外壳(I)的厚度为1.5-2.5毫米。
4.根据权利要求3所述的大功率方片可控硅封装结构,其特征是所述的导电外壳(I)的厚度为2毫米。
【文档编号】H01L23/31GK103646927SQ201310724868
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年12月25日 优先权日:2013年12月25日
【发明者】许志峰 申请人:江苏东光微电子股份有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1