Oled像素结构的制作方法

文档序号:7053260阅读:569来源:国知局
Oled像素结构的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种OLED像素结构,包括:红色、绿色及蓝色子像素,红色子像素具有红光发光层,绿色子像素具有绿光发光层,蓝色子像素具有蓝光发光层,所述蓝光发光层的材料包括蓝光量子点;与现有技术相比,本发明OLED像素结构中的蓝色子像素更稳定,使得整个OLED器件的稳定性更好;本发明OLED像素结构中的蓝色子像素寿命更长,使得OLED器件的使用寿命更长;同时由于蓝光量子点的效率更高,使得蓝色子像素的驱动电压可以适当降低。所述OLED像素结构还可以包括一白色子像素,所述白色子像素具有白光发光层,所述白光发光层的材料包括无机量子点,所述白色子像素的增加可以提高OLED器件的亮度。
【专利说明】OLED像素结构

【技术领域】
[0001] 本发明涉及有机电致发光显示器件制作领域,尤其涉及一种0LED像素结构。

【背景技术】
[0002] 平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有的 平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display,IXD)及有机电致发光显示 器件(Organic Light Emitting Display, 0LED) 〇
[0003] 有机电致发光器件由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、 反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性,被认 为是下一代的平面显示器新兴应用技术。从使用的有机电致发光材料的分子量来看,有机 电致发光器件分为小分子有机电致发光器件(0LED)和高分子电致发光器件(PLED),由于 分子量的不同,有机电致发光器件的制程也有很大的区别,0LED主要通过热蒸镀方式制备, PLED通过旋涂或者喷墨打印方式制备。
[0004] 0LED通常包括:基板、置于基板上的ΙΤ0透明阳极、置于ΙΤ0透明阳极上的空穴注 入层(HIL)、置于空穴注入层上的空穴传输层(HTL)、置于空穴传输层上的发光层(EML)、置 于发光层上的电子传输层(ETL)、置于电子传输层上的电子注入层(EIL)以及置于电子注 入层上的阴极。为了提高效率,发光层通常采用主/客体掺杂系统。
[0005] 半导体纳米晶(semiconductor nanocrystals,缩写 NCs),是指尺寸为 l-100nm 的半导体纳米晶粒。由于半导体纳米晶的尺寸小于其体材料的激子波尔半径,表现出强的 量子限域效应,准连续的能带演变为类似于分子的分立能级结构,呈现出新的材料性质,因 此,也称为量子点(quantum dots,缩写QDs)。
[0006] 由于外部能量的激发(光致发光,电致发光,阴极射线发光等),电子从基态跃迁 到激发态,处于激发态的电子和空穴可能会形成激子。电子与空穴发生复合,最终弛豫到基 态。多余的能量通过复合和弛豫过程释放,可能辐射复合发出光子。
[0007] 量子点发光二极管(Quantum Dots Light Emitting Diodes, QD-LEDs)具有重要的 商业应用的价值,在最近十年引起人们强烈的研究兴趣。事实上,量子点发光二极管相对 于有机发光二极管(Organic Light Emitting Diodes, OLEDs)有很多的优势:(1)量子点 发光的线宽在20-30nm之间,相对于有机发光>50nm的发光,半高宽(full width at half maximum, FWHM)要窄,这对于现实画面的色纯度起关键的作用;(2)无机材料相对于有机材 料表现出更好的热稳定性。当器件处于高亮度或高电流密度下,焦耳热是使器件退化的主 要原因,由于优异的热稳定性,基于无机材料的器件将表现出长的使用寿命;(3)由于红绿 蓝三基色有机材料的寿命不同,有机发光二极管显示器的颜色将随时间变化,然而,用同一 种材料合成不同尺寸的量子点,由于量子限域效应,可以实现三基色的发光。同一种材料可 以表现出相似的退化寿命;(4)量子点发光二极管可以实现红外光的发射,而有机材料的 发光波长一般小于1微米;(5)对于量子点没有自旋统计的限制,其外量子效率(external quantum efficiency, EQE)有可能达到100%。量子点发光二极管的EQE可以表示为:η Ext =r^*nINT*n*nQUT。其中η1?是电子和空穴形成激子的几率,η ΙΝΤ是内量子效率,即发光 量子产率(PLQY),η是辐射跃迁的几率,11_是外耦合的效率。有机荧光染料η,的限制 是25%,其中单重态与三重态的形成比例是1:3,只有单重态激子的复合导致发光。然而, 由于自旋轨道稱合,有机磷光材料的L大于25%。值得一提的是,有机磷光材料导致了母 体材料的退化。平面发光器件的n OTT大约在20%左右,可以通过微腔结构提高外耦合效 率。对于量子点发光二极管,其nINT可以达到100%,同时当电子和空穴能级适合时,其L 也可以达到100%。
[0008] 量子点发光二极管可以分为有机-无机杂化器件与全无机器件。前者可以达到高 的亮度、可以柔性制作,后者在器件的稳定性方面具有优势。
[0009] 有机发光二极管的彩色化有几种技术路线,第一种是RGB三基色发光,以三星公 司为代表,该技术只适用于容易升华的有机小分子材料,其优点是工艺简单成熟,操作简 便;但由于在制备高分辨率显示屏时需要高精度掩膜及精确的对位,导致低产能高成本。第 二种是白光+RGB滤光片技术,以LG公司为代表,由于可利用液晶显不器(Liquid Crystal Display,IXD)成熟的CF技术,不需要掩膜对位,极大地简化了蒸镀过程,因而能降低生产 成本,可用于制备大尺寸高分辨率有机发光二极管。但是,由于滤光片吸收了大部分的光 能,只有约30 %的光能透过,所以需要高性能的白光材料,否则器件的效率较低,一般也是 用于小分子的有机发光二极管显示屏。第三种是由蓝光有机发光二极管,经过绿光与红光 色转换方法(Color conversion method,简称CCM),实现彩色显示。由于可以使用与彩色滤 光片相同的生产技术,因此,与RGB彩色化相比,即提高了像素点密度,又可以实现较高的 良品率。此技术由出光兴产与富士电机开发。
[0010] 对于第一种彩色化技术路线一RGB三基色发光来说,由于当前的0LED发光层中蓝 光有机材料的效率、寿命及稳定性都很差,导致0LED器件的寿命、效率及稳定性都被降低, 因此,亟需解决这一技术问题。


【发明内容】

[0011] 本发明的目的在于提供一种0LED像素结构,使具有该像素结构的0LED,与传统的 0LED相比,在寿命、效率、稳定性以及亮度上都得到显著提高。
[0012] 为实现上述目的,本发明提供一种0LED像素结构,一种0LED像素结构,包括:红 色、绿色及蓝色子像素,红色子像素具有红光发光层,绿色子像素具有绿光发光层,蓝色子 像素具有蓝光发光层,其特征在于,蓝光发光层的材料包括蓝光量子点。
[0013] 还包括一白色子像素,所述白色子像素具有白光发光层。
[0014] 所述白光发光层的材料包括无机量子点,所述无机量子点为白光量子点,或所述 无机量子点为红光量子点、绿光量子点与蓝光量子点的组合,或所述无机量子点为蓝光量 子点与黄光量子点的组合。
[0015] 所述白光发光层的材料还包括白光有机主体材料。
[0016] 所述白光量子点为CdSe、CdS、CdTe、CdMnS、ZnSe、或ZnMnSe等II?VI族量子点,所 述蓝光量子点为ZnCdS、CdSe/ZnS、或纳米SiN 4,所述绿光量子点为CdSe/ZnS、或ZnSe :Cu2+, 所述红光量子点为CdSe/CdS/ZnS,所述黄光量子点为CdSe/CdS/ZnS、或ZnS :Mn2+。
[0017] 蓝光发光层的材料还包括蓝光有机主体材料,所述蓝光有机主体材料与蓝光量子 点颗粒及溶剂混合,涂覆并挥发去除溶剂后得到蓝光量子点;所述溶剂为氯仿、甲苯、氯苯 或甲醇。
[0018] 所述蓝光有机主体材料为TCTA或TRZ。
[0019] 将蓝光量子点与表面包覆剂及溶剂混合,涂覆并挥发去除溶剂后得到蓝光量子 点,所述表面包覆剂包括硬脂酸、氧化三锌基膦、或聚甲基丙烯酸甲酯;所述溶剂为氯仿、甲 苯、氯苯或甲醇。
[0020] 所述蓝光量子点为ZnCdS、CdSe/ZnS、或纳米SiN4。
[0021] 所述红光发光层由红光有机发光材料形成,其为Ir(piq)3,所述绿光发光层由绿 光有机发光材料形成,其为Ir(ppy) 3。
[0022] 还包括基板、及密封连接于基板上的覆盖层,所述红色、绿色及蓝色子像素分别设 于基板上,且为覆盖层所覆盖,所述基板与覆盖层的材料为玻璃或柔性材料,所述基板与覆 盖层中至少一个是透光的;所述红色子像素包括:位于基板上的阳极、位于阳极上的薄膜 晶体管、位于薄膜晶体管上的空穴注入层、位于空穴注入层上的空穴传输层、位于空穴传输 层上的红光发光层、位于红光发光层上的电子传输层、及位于电子传输层上的阴极;所述绿 色子像素包括:位于基板上的阳极、位于阳极上的薄膜晶体管、位于薄膜晶体管上的空穴注 入层、位于空穴注入层上的空穴传输层、位于空穴传输层上的绿光发光层、位于绿光发光层 上的电子传输层、及位于电子传输层上的阴极;所述蓝色子像素包括:位于基板上的阳极、 位于阳极上的薄膜晶体管、位于薄膜晶体管上的空穴注入层、位于空穴注入层上的空穴传 输层、位于空穴传输层上的蓝光发光层、位于蓝光发光层上的电子传输层、及位于电子传输 层上的阴极;所述电子传输层材料为八羟基喹啉铝,所述空穴传输层材料为聚三苯胺,所述 空穴注入层层材料为PED0T。
[0023] 还包括基板、及密封连接于基板上的覆盖层,所述红色、绿色、蓝色及白色子像素 分别设于基板上,且为覆盖层所覆盖;所述白色子像素包括:位于基板上的阳极、位于阳极 上的薄膜晶体管、位于薄膜晶体管上的空穴注入层、位于空穴注入层上的空穴传输层、位于 空穴传输层上的白光发光层、位于白光发光层上的电子传输层、及位于电子传输层上的阴 极;所述电子传输层材料为八羟基喹啉铝,所述空穴传输层材料为聚三苯胺,所述空穴注入 层层材料为PED0T。
[0024] 所述红光发光层与绿光发光层采用真空蒸镀的方法制成,且在形成蓝光发光层后 形成。
[0025] 本发明的有益效果:本发明0LED像素结构,通过蓝色子像素的蓝光发光层材料采 用蓝光量子点,使蓝色子像素更稳定,使用寿命更长,从而使得整个0LED器件的稳定性更 好,寿命更长;同时由于蓝光量子点的效率更高,使得蓝色子像素的驱动电压可以适当降 低。所述0LED像素结构还可以包括一白色子像素,所述白色子像素具有白光发光层,所述 白光发光层的材料包括无机量子点,所述白色子像素的增加可以提高0LED器件的亮度。
[0026] 为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细 说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。

【专利附图】

【附图说明】
[0027] 下面结合附图,通过对本发明的【具体实施方式】详细描述,将使本发明的技术方案 及其它有益效果显而易见。
[0028] 附图中,
[0029] 图1为本发明0LED像素结构第一实施例的结构示意图;
[0030] 图2为本发明0LED像素结构第一实施例的平面示意图;
[0031] 图3为图2所示的像素结构用于显示面板时的示意图;
[0032] 图4为图2所示的像素结构用于显示面板时的另一示意图;
[0033] 图5为图2的像素结构的TFT驱动电路结构示意图;
[0034] 图6为本发明0LED像素结构第二实施例的结构示意图;
[0035] 图7为本发明0LED像素结构第二实施例的平面示意图;
[0036] 图8为图7所示的像素结构用于显示面板时的结构示意图;
[0037] 图9为图7的像素结构的TFT驱动电路结构示意图;
[0038] 图10为本发明0LED像素结构第三实施例的像素结构的平面示意图;
[0039] 图11为图10所示的像素结构用于显示面板时的结构示意图。

【具体实施方式】
[0040] 为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施 例及其附图进行详细描述。
[0041] 请参阅图1-2,为本发明的第一实施例,在该实施例中,本发明提供一种0LED像素 结构20,包括:红色、绿色及蓝色子像素11、22、33,红色子像素11具有红光发光层63,绿色 子像素22具有绿光发光层62,蓝色子像素33具有蓝光发光层61,所述蓝光发光层61的材 料包括蓝光量子点。
[0042] 所述蓝光量子点为ZnCdS、CdSe/ZnS、或纳米SiN4。
[0043] 当所述蓝光发光层61为纯蓝光量子点时,所述蓝光量子点的制造方法为:将蓝光 量子点与表面包覆剂及溶剂混合,涂覆并挥发去除溶剂后得到蓝光量子点,所述表面包覆 剂包括硬脂酸、氧化三锌基膦、或聚甲基丙烯酸甲酯;所述溶剂为氯仿、甲苯、氯苯或甲醇。
[0044] 所述蓝光发光层61的材料还可以包括蓝光有机主体材料,此时所述蓝光量子点 的制造方法为:所述蓝光有机主体材料与蓝光量子点颗粒及溶剂混合,涂覆并挥发去除溶 剂后得到蓝光量子点;所述溶剂为氯仿、甲苯、氯苯或甲醇。
[0045] 所述蓝光有机主体材料为TCTA(4,4',4"-三(咔唑-9-基)三苯胺)或 TRZ (2, 4, 6-三(9H-咔唑-9-基)-1,3, 5-三嗪)。
[0046] 所述化合物TCTA的结构如下:
[0047]

【权利要求】
1. 一种OLED像素结构,包括:红色、绿色及蓝色子像素(11、22、33),红色子像素(11) 具有红光发光层¢3),绿色子像素(22)具有绿光发光层¢2),蓝色子像素(33)具有蓝光 发光层(61),其特征在于,蓝光发光层(61)的材料包括蓝光量子点。
2. 如权利要求1所述的0LED像素结构,其特征在于,还包括一白色子像素(44),所述 白色子像素(44)具有白光发光层(64)。
3. 如权利要求2所述的0LED像素结构,其特征在于,所述白光发光层(64)的材料包括 无机量子点,所述无机量子点为白光量子点,或所述无机量子点为红光量子点、绿光量子点 与蓝光量子点的组合,或所述无机量子点为蓝光量子点与黄光量子点的组合。
4. 如权利要求3所述的0LED像素结构,其特征在于,所述白光发光层(64)的材料还包 括白光有机主体材料。
5. 如权利要求3所述的0LED像素结构,其特征在于,所述白光量子点为CdSe、CdS、 CdTe、CdMnS、ZnSe、或ZnMnSe等II?VI族量子点,所述蓝光量子点为ZnCdS、CdSe/ZnS、或纳 米SiN 4,所述绿光量子点为CdSe/ZnS、或ZnSe :Cu2+,所述红光量子点为CdSe/CdS/ZnS,所述 黄光量子点为 CdSe/CdS/ZnS、或 ZnS :Mn2+。
6. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,蓝光发光层(61)的材料还包括蓝 光有机主体材料,所述蓝光有机主体材料与蓝光量子点颗粒及溶剂混合,涂覆并挥发去除 溶剂后得到蓝光量子点;所述溶剂为氯仿、甲苯、氯苯或甲醇。
7. 如权利要求6所述的OLED像素结构,其特征在于,所述蓝光有机主体材料为TCTA或 TRZ。
8. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,将蓝光量子点与表面包覆剂及溶 剂混合,涂覆并挥发去除溶剂后得到蓝光量子点,所述表面包覆剂包括硬脂酸、氧化三锌基 膦、或聚甲基丙烯酸甲酯;所述溶剂为氯仿、甲苯、氯苯或甲醇。
9. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,所述蓝光量子点为ZnCdS、CdSe/ ZnS、或纳米SiN4。
10. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,所述红光发光层(63)由红光 有机发光材料形成,其为Ir(piq)3,所述绿光发光层¢2)由绿光有机发光材料形成,其为 Ir(ppy) 3。
11. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,还包括基板(1)、及密封连接于 基板上的覆盖层(9),所述红色、绿色及蓝色子像素(11、22、33)分别设于基板(1)上,且为 覆盖层(9)所覆盖,所述基板(1)与覆盖层(9)的材料为玻璃或柔性材料,所述基板(1)与 覆盖层(9)中至少一个是透光的;所述红色子像素(11)包括:位于基板(1)上的阳极(2)、 位于阳极(2)上的薄膜晶体管(3)、位于薄膜晶体管(3)上的空穴注入层(4)、位于空穴注 入层(4)上的空穴传输层(5)、位于空穴传输层(5)上的红光发光层(63)、位于红光发光 层(63)上的电子传输层(7)、及位于电子传输层(7)上的阴极(8);所述绿色子像素(22) 包括:位于基板(1)上的阳极(2)、位于阳极(2)上的薄膜晶体管(3)、位于薄膜晶体管(3) 上的空穴注入层(4)、位于空穴注入层(4)上的空穴传输层(5)、位于空穴传输层(5)上的 绿光发光层(22)、位于绿光发光层(22)上的电子传输层(7)、及位于电子传输层(7)上的 阴极(8);所述蓝色子像素(33)包括:位于基板(1)上的阳极(2)、位于阳极(2)上的薄膜 晶体管(3)、位于薄膜晶体管(3)上的空穴注入层(4)、位于空穴注入层(4)上的空穴传输 层(5)、位于空穴传输层(5)上的蓝光发光层(61)、位于蓝光发光层(61)上的电子传输层 (7)、及位于电子传输层(7)上的阴极(8);所述电子传输层(7)材料为八羟基喹啉铝,所述 空穴传输层(5)材料为聚三苯胺,所述空穴注入层(4)材料为PEDOT。
12. 如权利要求2所述的OLED像素结构,其特征在于,还包括基板(1)、及密封连接于 基板(1)上的覆盖层(9),所述红色、绿色、蓝色及白色子像素(11、22、33、44)分别设于基板 (1)上,且为覆盖层(9)所覆盖;所述白色子像素(44)包括:位于基板⑴上的阳极(2)、 位于阳极(2)上的薄膜晶体管(3)、位于薄膜晶体管(3)上的空穴注入层(4)、位于空穴注 入层(4)上的空穴传输层(5)、位于空穴传输层(5)上的白光发光层(64)、位于白光发光 层(64)上的电子传输层(7)、及位于电子传输层(7)上的阴极(8);所述电子传输层(7)材 料为八羟基喹啉铝,所述空穴传输层(5)材料为聚三苯胺,所述空穴注入层(4)层材料为 PEDOT。
13. 如权利要求1所述的OLED像素结构,其特征在于,所述红光发光层(63)与绿光发 光层¢2)采用真空蒸镀的方法制成,且在形成蓝光发光层¢1)后形成。
【文档编号】H01L51/52GK104051672SQ201410326558
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年7月9日 优先权日:2014年7月9日
【发明者】刘亚伟, 王宜凡 申请人:深圳市华星光电技术有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1