用于确定衬底上的涂层的屏障效应的方法和装置与流程

文档序号:11142535阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于针对介质(16,17)确定涂层(4)的屏障效应的方法,该方法包括以下步骤:

a)提供衬底(1),该衬底在其表面上具有该涂层(4),该衬底在与该介质(16,17)相接触时经历体积变化,或者在衬底(1)的表面上提供该涂层,该衬底在与该介质(16,17)相接触时经历体积变化,

b)对具有该涂层(4)的该衬底(1)进行调节处理,

c)从该衬底(1)的该表面(6)的第一部分中去除该涂层(4),其中,该涂层(4)保留在该衬底(1)的该表面的第二部分上,并且其中,该表面(6)的该第一部分在由保留在该表面的该第二部分上的该涂层(4)界定的第一方向上具有延伸物(L),

d)在该第一方向上的路径上确定该涂层(4)的表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上的第一高度轮廓,

e)将该保留的涂层(4)的该表面和该衬底(1)的该表面(6)的该第一部分暴露至该介质(16,17),

f)在该第一方向上的该路径上确定该涂层(4)的该表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上的第二高度轮廓和/或在该第一方向上的该路径上确定该涂层(4)的该表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上关于该之前确定的高度轮廓的第一高度轮廓差(H)。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,根据步骤c)对该涂层(4)的去除是使用刮擦工具、具体为金刚石刮擦工具(7,29)执行的,该金刚石刮擦工具被引导在该第一方向上去除材料。

3.如以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,该表面(6)的该第一部分在第二方向上具有延伸物(B),并且其特征在于,该表面(6)的该第一部分在该第一方向上的该延伸物(L)至少比该表面(6)的该第一部分在该第二方向上的该延伸物(B)大十倍。

4.如以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,在根据步骤d)确定该第一高度轮廓之前,该表面的不完全与该衬底(1)的该表面(6)的该第一部分相同但是不具有该涂层的第三部分配备有对于该介质(16,17)而言不可渗透的屏障。

5.如以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,根据步骤d)确定该第一高度轮廓和/或根据步骤f)确定该第二高度轮廓和/或该第一高度轮廓差是使用干涉仪(30)执行的。

6.如以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,系列步骤e)和f)被重复执行。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,系列步骤e)和f)被重复执行直到终止准则被满足。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,针对第一高度轮廓差(H)是在步骤f)中确定的情况,该终止准则为该第一高度轮廓差(H)必须低于特定的阈值。

9.如以上权利要求之一所述的方法,其特征在于,在步骤c)中对该涂层的去除被向下完全执行至该衬底(1)的该表面。

10.如权利要求1至8之一所述的方法,其特征在于,该系列步骤c)至步骤f)被局部并行地重复执行,其中,在局部并行地执行的该系列步骤中在这些对应的步骤c)中对该涂层(4)的去除被执行到不同的程度。

11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,在局部并行地执行的该系列中在这些对应的步骤c)中对该涂层的去除是在不同的负荷下执行的。

12.如权利要求10或11之一所述的方法,其特征在于,在局部并行地执行的该系列中在这些对应的步骤c)之一中对该涂层(4)的去除被一直执行到该衬底(1)的该表面。

13.如权利要求10至12之一所述的方法,其特征在于,在局部并行地执行的该系列中在这些对应的步骤c)的至少一个步骤中对该涂层(4)的去除并非被一直执行到该衬底(1)的该表面。

14.一种用于确定涂层(4)的屏障效应的装置(20),该装置具有以下部件:

a)提供装置(21),该提供装置用于提供衬底(1),该衬底在其表面上具有该涂层(4),该衬底在与该介质(16,17)相接触时经历体积变化,或者具有提供装置,该提供装置用于在衬底(1)上提供该涂层(4),该衬底在与该介质(16,17)相接触时经历体积变化,

b)调节处理装置(28),该调节处理装置用于对具有该涂层(4)的该衬底(1)进行调节处理,

c)去除装置(7,29),该去除装置用于从该衬底(1)的该表面(6)的第一部分中去除该涂层(4),使得该涂层保留在该衬底(1)的该表面的第二部分上,并且使得该表面(6)的该第一部分在由保留在该表面的该第二部分上的该涂层(4)界定的第一方向上具有延伸物(L),

d)确定装置(30),该确定装置用于在该第一方向上的路径上确定该涂层(4)的表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上的第一高度轮廓,

e)暴露装置(28),该暴露装置用于将该保留的涂层(4)的该表面和该衬底(1)的该表面(6)的该第一部分暴露至该介质(16,17),

f)确定装置(30),该确定装置用于在该第一方向上的该路径上确定该涂层(4)的该表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上的第二高度轮廓和/或在该第一方向上的该路径上确定该涂层(4)的该表面在该衬底(1)的该表面的该第二部分和该表面(6)的该第一部分上关于该之前确定的高度轮廓的第一高度轮廓差(H)。

15.一种具有程序代码的计算机程序,该程序代码用于当该计算机程序被加载到计算机上和/或在控制该装置的计算机上运行时在如权利要求14所述的装置中执行如权利要求1至13之一所述的所有这些工艺步骤。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1