技术特征：
技术总结
用于利用通过至少第一、第二和第三气体注射区域引入的气体处理衬底的等离子体处理系统的气体供应输送装置包括处理气体供应入口和调节气体入口。混合歧管包括与处理气体供应装置流体连通的气体棒和与调节气体供应装置流体连通的调节气体棒。第一气体出口将气体输送到第一气体注射区域，第二气体出口将气体输送到第二气体注射区域，而第三气体出口将气体输送到第三气体注射区域。气体分流器与混合歧管流体连通，并且包括第一阀装置，所述第一阀装置将离开混合歧管的混合气体分成供应到第一气体出口的第一混合气体和供应到第二和/或第三个出口的第二混合气体。
技术研发人员：马克·塔斯卡尔;伊克巴尔·谢里夫;安东尼·泽姆洛克;赖安·拜斯;南森·库格朗德
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2015.10.16
技术公布日：2017.09.08