1.一种水氧阻隔膜，其特征在于：包括一个COP基材，所述COP基材的上下表面各涂布有一层水氧阻隔涂层，所述水氧阻隔涂层由石墨烯和聚氨酯丙烯酸树脂构成。
2.根据权要求1所述的水氧阻隔膜，其特征在于：所述COP基材的厚度为20-100μm，所述水氧阻隔涂层的厚度为3-6μm。
3.根据权利要求1所述的一种水氧阻隔膜，其特征在于：所述水氧阻涂层中，按重量份计由5～10份的石墨烯和100聚氨酯丙烯酸树脂组成。
4.根据权利要求1所述的一种水氧阻隔膜，其特征在于：所述COP基材经过500Wmin/m2的电晕预处理。
5.根据权利要求3所述的一种水氧阻隔膜，其特征在于：所述水氧阻隔涂层通过网纹辊涂布的方式涂布到所述COP基材上。
6.一种制备如权利要求1～5任意一项所述的水氧阻隔膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)COP基材电晕预处理：将COP基材经过500Wmin/m2的预处理；
(2)水氧阻隔材料制备：将石墨烯在机械搅拌的方式下，添加到聚氨酯丙烯酸树脂清漆中，静置；
(3)将步骤(2)中制备好的水氧阻隔材料涂布到COP基材上，制成水氧阻隔膜。
7.根据权利要求6所述的一种水氧阻隔膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中，将5～10份的石墨烯在机械搅拌作用下添加到100份的聚氨酯丙烯酸树脂清漆中。
8.根据权利要求7所述的一种水氧阻隔膜的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所述静置时间为0.5-3h。
9.根据权利要求6所述的一种水氧阻隔膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中通过网纹辊的涂布方式将水氧阻隔材料涂布到COP基材上。
10.根据权利要求9所述的一种水氧阻隔膜的制备方法，其特征在于：步骤(3)中，所述水氧阻隔材料的涂膜厚度为3-6μm。